国際特許分類[C08F20/28]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素−炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体 (3,487) | 9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体 (3,067) | エステル (2,452) | カルボキシ酸素以外に酸素を含有するエステル (813) | アルコール残基中に芳香族環を含有しないもの (340)
国際特許分類[C08F20/28]に分類される特許
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透明複合材料及び透明フィルムの製造方法
【課題】熱変化に対する線膨張率が小さく、表示装置用基板に好適に使用することができる透明複合材料を提供する。
【解決手段】一般式(1)で示される重合性リン酸エステルモノマー(A)及び平均粒子径が5〜300nmのアルミナ粒子(B)を必須成分とし、メチルメタクリレートを含有しない硬化性組成物を硬化してなる透明複合材料、その材料から得られる透明フィルム及びその製造方法。
(式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、R2はアルキレン基を表し、Mは1価のカチオンを表す。nは1〜10の数を表し、mは1〜3の整数を表す。)
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塩及びレジスト組成物
【課題】レジスト組成物用酸発生剤として有用な塩、及び当該塩を含有する、優れたCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式(I)で表される塩。
[式(I)中、R1は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。R2は、塩基解離性基を表す。R3は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。X1及びX2は、それぞれ独立に、式(a−g1)
(式(a−g1)中、sは0〜2の整数を表す。A10及びA11は、それぞれ独立に脂肪族炭化水素基を表す。X10は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。m1は1又は2を表し、m2は0又は1を表す。但し、m1+m2=2の関係を満たす。A−は、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオンから選ばれる有機アニオンを表す。]
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パターン形成方法
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に好適に使用され、特にネガ型現像技術において、ラインエッジラフネス、スカムやマイクロブリッジ等の欠陥の発生の無い微細なレジスパターン形成方法を提供することを課題としている。
【解決手段】露光により発生した酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する感放射線性組成物を、下記条件(1)を満足するフィルターを通過させた組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光し、有機溶剤を含有する現像液を用いて現像する工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法である。
条件(1):フィルターの臨界表面張力が70dyne/cm以上であり、かつ荷電修飾されていない。
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ホスホン酸ポリマーとその製造方法および燃料電池用電解質膜
【課題】プロトン伝導率の高い新たなホスホン酸ポリマーを提供する。
【解決手段】ジメチルホスホネートCHCF2PO(OEt)2を源材料とし、中間化合物HOCH2CF2PO(OEt)2を生成した後、該中間化合物と化合物H2C=CFCOClとの反応を経て、H2C=CFCOOCH2CF2PO(OEt)2を生成し、これを重合してポリマーとした後、該ポリマーのエチル基を水素に置換させ構造式(1)で表される分子鎖構造を繰り返し単位として含むホスホン酸ポリマーの製造方法。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたマスクエラーファクターを有し、かつ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し式(I)で表される構造単位を含まない)、酸発生剤及び式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式中、A14は、脂肪族炭化水素基を表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】パターン倒れ及び欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
アルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】レジストパターン形成時の露光マージン(EL)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式中、R1は、水素原子又はメチル基;A1はアルカンジイル基;R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;Rb1及びRb2は、独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lb1は、2価の飽和炭化水素基;環Wb1は複素環;Rb3は、水素原子又は炭化水素基;Rb4は炭化水素基;mは、0〜6の整数;Z1+は有機カチオンを表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)で、且つ、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、酸発生剤、式(II)で表される化合物を含むレジスト組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)で、欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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