【課題】本発明は、カラーフィルタを製造する際に生ずる、ブラックマトリクスや先に形成された画素上の重なり部分の角段差が小さい着色組成物を提供することを課題とする。また、本発明は、所望の色目が得られ、また輝線などを生じにくい画素を含むカラーフィルタ、及び高品質の液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）バインダー樹脂及び（Ｄ）溶剤を含有する着色樹脂組成物において、
分子量６０００以下の化合物を、全固形分中５７重量％以上含有することを特徴とする、着色樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性が高く、臭気が少ないアクリル系成形体及びその原料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である組成物。式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ^２は同一の基である。
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【課題】ゲルおよびオリゴマー成分をほとんど含まず、塗料、分散剤、感光性樹脂などに使用することができる高分子量の水溶性重合体の提供。
【解決手段】ヒドロキシエチル基を含む特定の構造のアクリル酸エステル又はＮ−置換アクリルアミド単量体（Ａ）と、単量体（Ａ）と共重合可能な単官能単量体（Ｂ）（単量体（Ａ）を除く。）とをモル比（Ａ）／（Ｂ）＝７０／３０〜１００／０で重合して得られ、重量平均分子量が５００，０００〜１０，０００，０００であり、ゲル分率が１％以下である水溶性重合体。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、ＬＷＲが改善され高解像度のフォトレジストパターンを形成するフォトレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ^４およびＲ^６はそれぞれ独立した基を表すか、またはＲ^４およびＲ^６は両者が結合して炭素数１〜３のアルキレン基、−Ｏ−、若しくは−Ｓ−を表す。Ｒ^１１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有し、かつ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す；Ａ¹は炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す；Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す；環Ｗ^１は炭素数２〜３６の飽和複素環を表す；Ｒ^３は炭素数１〜３０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる１以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっている。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有し、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子；ｍ’及びｎ’は、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１はアルカンジイル基；Ｒ^２はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²はフッ素含有炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は飽和炭化水素基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^５は、環状エーテル構造を含む基；Ｚ^１＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】透明性が高く、黄色の着色が抑制されているアクリル系成形体及びその原料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が７．５重量％以下である組成物。式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ^２は同一の基である。
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【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。
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