アクリル系化合物を含む組成物及び成形体
【課題】透明性が高く、臭気が少ないアクリル系成形体及びその原料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である組成物。式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である組成物。式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクリル系化合物及びそれを含む組成物、アクリル系重合体及びそれを含む重合体組成物、並びにそれらから得られる成形体及び積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
アクリル系重合体の典型例であるポリメタクリル酸メチルは、透明性に優れると共に、加工性に優れることから、フィルム、シート、パイプ等を得るための成形材料として、多種多様な分野に使用されている。
このフィルム等の用途においては、透明性に加えて、さらに軟質性や耐熱性が求められる場合がある。そのため、透明性及び耐熱性に優れるアクリル樹脂、並びに、透明性及び軟質性に優れるアクリル樹脂が開発された（特許文献１）。また、特許文献２には透明性及び耐熱性に優れるアクリル樹脂が開示されている。
しかし、特許文献１及び２に開示されているアクリル樹脂を用いた成形品は、透明性を有するが、色が黄色く、臭気を有するという欠点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−３２８０１２号公報
【特許文献２】英国特許出願公告第９１９３２４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、透明性が高く、臭気が少ないアクリル系成形体及びその原料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１で得られたアクリル樹脂には副生成物が混在し、この副生成物の含有量を減らすことにより成形体の臭気を低減できることを見出し、本発明を完成させた。
本発明によれば、以下の組成物等が提供される。
１．下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が約３重量％以下である組成物。
【化１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
２．下記式（Ａ）で表される化合物が約１００ｐｐｍ以下であり、
下記式（Ｂ）で表される化合物が約１０００ｐｐｍ以下であり、かつ
下記式（Ｃ）で表される化合物が約１００ｐｐｍ以下である、
１に記載の組成物。
（Ａ）ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＣＯ−Ｒ２
（Ｂ）ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯＨ
（Ｃ）酢酸
（式中、Ｒ１は前記式（１）のＲ１と同一の基であり、Ｒ２は前記式（１）のＲ２と同一の基である。）
３．式（３）で表される化合物を含む１又は２に記載の組成物。
【化２】
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
４．前記式（１）で表される化合物、及び
前記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が約９９．９重量％以上である、
１又は２に記載の組成物。
５．式（１）で表される化合物、
式（２）で表される化合物、及び
式（３）で表される化合物を合わせた含有量が約９９．９重量％以上である、
３に記載の組成物。
６．揮発性有機化合物（ＶＯＣ）成分が約２０００ｐｐｍ以下である、
１〜５のいずれかに記載の組成物。
７．下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（１）で表される化合物の含有量と下記式（２）で表される化合物の含有量との重量比が下記式（Ｘ）を満たす組成物。
【化３】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
０＜Ｍ１／Ｍ２≦約０．０３ （Ｘ）
（式中、Ｍ１は式（２）で表される化合物の含有量であり、Ｍ２は式（１）で表される化合物の含有量及び式（２）で表される化合物の含有量の和である。）
８．不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（１）で表される化合物。
【化４】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
９．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
重合禁止剤を含む組成物。
１０．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
酸化防止剤を含む組成物。
１１．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
重合禁止剤を合わせた含有量が約９９．９重量％以上である
９に記載の組成物。
１２．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
酸化防止剤を合わせた含有量が約９９．９重量％以上である
１０に記載の組成物。
１３．不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体。
【化５】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
１４．前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む１３記載の重合体。
１５．８に記載の化合物から得られる重合体。
１６．下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が約３重量％以下である重合体組成物。
【化６】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
１７．前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である１６記載の重合体組成物。
１８．１〜７のいずれかに記載の組成物から得られる重合体組成物。
１９．下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が約３重量％以下である成形体。
【化７】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
２０．前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である１９記載の成形体。
２１．１３〜１５のいずれかに記載の重合体、又は１６〜１８のいずれかに記載の重合体組成物から得られる成形体。
２２．基板と、
１３〜１５のいずれかに記載の重合体、又は１６〜１８のいずれかに記載の重合体組成物を用いて、前記基板上に形成される層と、
を含む積層体。
【０００６】
また、以下の組成物等が提供される。
１．下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である組成物。
【化８】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
２．下記式（Ａ）で表される化合物が１００ｐｐｍ以下であり、
下記式（Ｂ）で表される化合物が１０００ｐｐｍ以下であり、かつ
下記式（Ｃ）で表される化合物が１００ｐｐｍ以下である、
１に記載の組成物。
（Ａ）ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＣＯ−Ｒ２
（Ｂ）ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯＨ
（Ｃ）酢酸
（式中、Ｒ１は前記式（１）のＲ１と同一の基であり、Ｒ２は前記式（１）のＲ２と同一の基である。）
３．式（３）で表される化合物を含む１又は２に記載の組成物。
【化９】
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
４．前記式（１）で表される化合物、及び
前記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９９．９重量％以上である、
１又は２に記載の組成物。
５．式（１）で表される化合物、
式（２）で表される化合物、及び
式（３）で表される化合物を合わせた含有量が９９．９重量％以上である、
３に記載の組成物。
６．揮発性有機化合物（ＶＯＣ）成分が２０００ｐｐｍ以下である、
１〜５のいずれかに記載の組成物。
７．下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（１）で表される化合物の含有量と下記式（２）で表される化合物の含有量との重量比が下記式（Ｘ）を満たす組成物。
【化１０】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
０＜Ｍ１／Ｍ２≦０．０３ （Ｘ）
（式中、Ｍ１は式（２）で表される化合物の含有量であり、Ｍ２は式（１）で表される化合物の含有量及び式（２）で表される化合物の含有量の和である。）
８．不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（１）で表される化合物。
【化１１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
９．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
重合禁止剤を含む組成物。
１０．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
酸化防止剤を含む組成物。
１１．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
重合禁止剤を合わせた含有量が９９．９重量％以上である
９に記載の組成物。
１２．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
酸化防止剤を合わせた含有量が９９．９重量％以上である
１０に記載の組成物。
１３．不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体。
【化１２】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
１４．前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む１３記載の重合体。
１５．８に記載の化合物から得られる重合体。
１６．下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である重合体組成物。
【化１３】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
１７．前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である１６記載の重合体組成物。
１８．１〜７のいずれかに記載の組成物から得られる重合体組成物。
１９．下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である成形体。
【化１４】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
２０．前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である１９記載の成形体。
２１．１３〜１５のいずれかに記載の重合体、又は１６〜１８のいずれかに記載の重合体組成物から得られる成形体。
２２．基板と、
１３〜１５のいずれかに記載の重合体、又は１６〜１８のいずれかに記載の重合体組成物を用いて、前記基板上に形成される層と、
を含む積層体。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、透明性が高く、臭気が少ないアクリル系成形体及びその原料が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施例１で用いた精留装置を示す図である。
【図２】評価例１の評価結果（不純物含量とＹＩ値の関係）を示すグラフである。
【図３】評価例１の評価結果（不純物含量と全光線透過量の関係）を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の組成物は、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下の、下記式（１）で表されるアクリル系化合物を含む組成物である。即ち、本発明の組成物は、下記式（１）の化合物と式（２）の化合物の混合物、下記式（１）の化合物、式（２）の化合物及び他の化合物の混合物、又は下記式（１）の化合物と式（２）以外の他の化合物の混合物である。また、本発明の化合物は、式（２）の化合物が不純物として混在しない式（１）の化合物である。
【化１５】
式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。また、アルキル基は直鎖であっても分岐していてもよい。
式（２）で表される化合物の含有量が３重量％を超えると、その成形体は臭気が強くなる。
【００１０】
Ｒ２は、好ましくは炭素数１〜３の直鎖又は分岐のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜３の直鎖のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１又は２の直鎖のアルキル基である。最も好ましくは、メチル基である。
【００１１】
式（２）の化合物は、式（１）の化合物の製造時に副生成する。特許文献１及び２に記載の製造方法のいずれによっても、式（１）の化合物に併せて式（２）の化合物が生成する。
例えばＲ２がメチル基である式（１）の化合物を製造する場合、Ｒ２がメチル基である式（２）の化合物が副生成する。
従って、本発明の式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。
【００１２】
本発明の組成物において、式（２）で表される化合物の含有量は、好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％未満である。式（２）の化合物の定量はガスクロマトグラフィーにより行う。
【００１３】
また、本発明の組成物は、上記式（１）で表される化合物、及び式（２）で表される化合物を含み、式（１）で表される化合物の含有量と上記式（２）で表される化合物の含有量との重量比が下記式（Ｘ）を満たす。
０＜Ｍ１／Ｍ２≦０．０３ （Ｘ）
Ｍ１：式（２）で表される化合物の含有量
Ｍ２：式（１）で表される化合物の含有量及び式（２）で表される化合物の含有量の和
【００１４】
式（１）で表わされる化合物の具体例としては、アクリル酸１−アセチルオキシエチル、アクリル酸１−プロピオニルオキシエチル、アクリル酸１−ブチリルオキシエチル、アクリル酸１−イソブチリルオキシエチル、アクリル酸１−バレリルオキシエチル、アクリル酸１−イソバレリルオキシエチル、アクリル酸１−ヘキサノイルオキシエチル、アクリル酸１−ヘプタノイルオキシエチル、メタクリル酸１−アセチルオキシエチル、メタクリル酸１−プロピオニルオキシエチル、メタクリル酸１−ブチリルオキシエチル、メタクリル酸１−イソブチリルオキシエチル、メタクリル酸１−バレリルオキシエチル、メタクリル酸１−イソバレリルオキシエチル、メタクリル酸１−ヘキサノイルオキシエチル、メタクリル酸１−ヘプタノイルオキシエチル等を挙げることができる。
【００１５】
式（１）で表わされる化合物は、例えば、無色透明の液状化合物である、アクリル酸１−アセチルオキシエチルの場合、沸点は３０〜３５℃／０．７ｋＰａ、メタクリル酸１−アセチルオキシエチルの場合、沸点は４７〜５３℃／０．７ｋＰａである。
【００１６】
式（２）で表わされる化合物としては、エチリデンジアセテート、エチリデンジプロピオネート、エチリデンジブチレート、エチリデンジペンタノエート、エチリデンジヘキサノエート、エチリデンジヘプタノエート等を挙げることができる。
【００１７】
式（２）で表わされる化合物は、例えば、無色透明の液状化合物であるエチリデンジアセテートの場合、沸点は１６７−１６９℃であり（Ｃｈｅｍｉｃａｌ．Ａｂｓｔｒａｃｔ．；ｖｏｌ．９１；ｎｂ．１４０５５１）、屈折率は１．４０であり（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｄａｔａ；ｖｏｌ．１４；（１９６９）；ｐ．５０３）、密度は１．０７である（Ｔｒａｎｓ．ｅｌｅｃｔｒｏｃｈ．Ｓｏｃ．；ｖｏｌ．６３；（１９３３）；ｐ．４４３）。
【００１８】
本発明の組成物又は化合物は、種々の化成品を製造するための原料として用いることができるが、特に、アクリル系成形体を与える原料として有用である。この原料は、重合反応を行うことによって、アクリル系成形体を与えることができる。
【００１９】
本発明の組成物は、好ましくは下記式（Ａ）で表される化合物の含有量は１００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１０ｐｐｍ以下である。下記式（Ｂ）で表される化合物の含有量は好ましくは１０００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１００ｐｐｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｐｐｍである。下記式（Ｃ）で表される化合物の含有量は好ましくは１００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１０ｐｐｍ以下である。
本発明の組成物は、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物の含有量が１００ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｂ）で表される化合物の含有量が１０００ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｃ）で表される化合物の含有量が１００ｐｐｍ以下である。また例えば、下記式（Ａ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｂ）で表される化合物の含有量が１００ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｃ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍである。また例えば、下記式（Ａ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｂ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｃ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍである。
（Ａ）ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＣＯ−Ｒ２
（Ｂ）ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯＨ
（Ｃ）酢酸
式中、Ｒ１は、前記式（１）のＲ１と同一の基であり、Ｒ２は、前記式（１）のＲ２と同一の基である。
【００２０】
式（Ａ）の化合物の含有量が１００ｐｐｍを超えると、ＹＩ値がわずかに高くなる恐れがある。
式（Ｂ）の化合物の含有量が１０００ｐｐｍを超えると、ＹＩ値がわずかに高くなる恐れがある。
式（Ｃ）の化合物の含有量が１００ｐｐｍを超えると、ＹＩ値がわずかに高くなる恐れがある。
【００２１】
式（Ａ）及び（Ｂ）の化合物は、上記式（１）の化合物の原料であり、式（Ｃ）の化合物は式（１）の化合物の製造で生じる副生成物である。
例えば、Ｒ１が水素であり、Ｒ２がメチル基である式（１）の化合物を製造する場合、Ｒ２がメチル基である式（Ａ）の化合物、及びＲ１が水素である式（Ｂ）の化合物が原料である。
従って、式（Ｂ）のＲ１は前記式（１）のＲ１と同一の基であり、式（Ａ）のＲ２は前記式（１）のＲ２と同一の基である。
【００２２】
本発明の組成物は、下記式（３）で表される化合物を含んでもよい。
また、本発明の化合物と式（３）の化合物を混合して組成物としてもよい。
【化１６】
式中、Ｒ３は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。
【００２３】
式（３）の化合物は、式（１）の化合物の製造において副生成するものをそのまま組成物中に残して用いてもよい。また、副生成するものを精製により組成物中から除き、別途式（３）の化合物を用意して組成物に加えてもよい。別途式（３）の化合物を用意して組成物に加えることにより、組成物から得られる成形体の硬さを容易に調整することができる。
副生成物をそのまま用いる場合、式（３）のＲ３は、上記式（１）のＲ１と同一の基である。
【００２４】
式（３）の化合物は、好ましくは３０重量％以下含まれる。式（３）の化合物を含むことにより、本発明の組成物から得られる成形体の全光線透過率を維持したまま、耐熱性を向上でき、硬さを調整でき、及び／又は耐溶剤性を向上できる。３０重量％を超えると、成形体が脆くなって良好な板を成形できない場合がある。
【００２５】
式（３）で表される化合物としては、アセチリデンジアクリレート、アセチリデンジメタクリレート等を挙げることができる。
これらはいずれも無色透明の液体であって、アセチリデンジアクリレートは、沸点は６１−６２℃であり（４ Ｔｏｒｒ）（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）、屈折率は１．４２であり（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）、密度は１．０５である（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）。
【００２６】
アセチリデンジメタクリレートは、沸点は７４℃（６Ｔｏｒｒ）であり（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）、屈折率は１．４４であり（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）、密度は１．０２３である（ＺｈｕｒｎａｌＯｂｓｈｃｈｅｉＫｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）。
【００２７】
本発明の組成物は、重合禁止剤及び／又は酸化防止剤を含んでいてもよい。
また、本発明の化合物に重合禁止剤及び／又は酸化防止剤を混合して組成物としてもよい。
重合禁止剤は、モノマーが重合するのを阻害する添加剤である。組成物内のラジカルを捕捉して、消去・安定化することにより重合反応を防止・抑制する。
酸化防止剤は、モノマーやその重合体が酸化劣化しないようにする機能を有する。酸化防止の機構は種類によるが、ラジカルを捕捉したり、過酸化物を分解する等して、酸化劣化を防ぐ。
従って、組成物を保存するとき、これらを添加することが好ましい。
酸化防止剤の含有量は、組成物に対して５０００〜２０ｐｐｍが好ましい。また、重合禁止剤の含有量は、組成物に対して５０００〜２０ｐｐｍが好ましい。
【００２８】
重合禁止剤としては、ヒドロキノン系、及びジブチルジチオカルバミン酸金属系等が挙げられる。具体的には以下のものが挙げられる。
（１）Hydroquinone系：
ヒドロキノン、4-Methoxyphenol（４−メトキシフェノール）
（２）ジブチルジチオカルバミン酸金属系：
Sodium dimethyldithiocarbamate（ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム）、Sodium diethyldithiocarbamate（ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム）、Sodium dibutyldithiocarbamate（ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム）、Copper dibutyldithiocarbamate（ジブチルジチオカルバミン酸銅）
（３）その他：
Phenothiazine （フェノチアジン）
【００２９】
酸化防止剤としては、ヒンダードアミン（ＨＡＬＳ）系、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系、ベンゾフェノン系等が挙げられる。具体的には以下のものが挙げられる。
【００３０】
（１）ヒンダードアミン（ＨＡＬＳ）系：
Diphenylamine derivative(ジフェニルアミン誘導体)、Polymerized 2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline(２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒロドキノン重合体)、N-Isopropyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine(Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−ｐ−フェニレンジアミン)、N-(1,3-Dimethylbutyl)-N'-phenyl-p-phenylenedamine（Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−ｐ−フェニレンダミン）、6-Ethoxy-2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline（６−エトキシ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン）、チヌビン７６５、チヌビン７７０
【００３１】
（２）ヒンダードフェノール系：
2,6-Di-tert-butyl-p-cresol（２，６−ジターシャリーブチル−ｐ−クレゾール）、2,5-Di-tert-amylhydroquinone（２，５−ジターシャリーアミルヒドロキノン）、2,5-Di-tert-butyl-hydroquinone（２，５−ジターシャリーブチルヒドロキノン）、4,4'-Butylidene-bis(3-methyl-6-tert-butylphenol) （４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール））、2,2'-Methylene-bis(4-methyl-6-tert-butylphenol)（２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール））、2,2'-Methylene-bis(4-ethyl-6-tert-butylphenol) （２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ターシャリーブチルフェノール））、4,4'-Thio-bis(6-tert-butyl-m-cresol)（４，４’−チオ−ビス（６−ターシャリーブチル−ｍ−クレゾール））、Styrenated phenol （スチレン化フェノール）、BHT （ジブチルヒドロキシトルエン）IrganoX1076、Irgano3114、GA-80、スミライザーＧＳ
【００３２】
（３）リン系：
Irgafos38, Irgafos168
（４）硫黄系：
TP-D
【００３３】
（５）ベンゾフェノン系：
2,4-dihydroxybenzophenone （２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン）、
2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone （２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）、
2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone （２−ヒドロキシ−４−ノルマル−オクトキシベンゾフェノン）
【００３４】
（６）その他：
Nickel dibutyldithiocarbamate（ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル）、Zinc dimethyldithiocarbamate（ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛）、Zinc diethyldithiocarbamate（ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛）、Zinc dibutyldithiocarbamate（ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛）、2-Mercaptobenzimidazole（２−メルカプトベンズイミダゾール）、Alkylated arylphosphite（アルキル化アリールホスフィン）、Diauryl thiodipropionate （チオジプロピオン酸ジアウリル）
【００３５】
本発明の組成物は、好ましくは以下の組成のいずれかを有する：
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、上記式（１）で表される化合物、及び式（２）で表される化合物を合わせた含有量、あるいは上記式（１）で表される化合物、及び式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び重合禁止剤を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び重合禁止剤を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；及び
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び酸化防止剤を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び酸化防止剤を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上。
【００３６】
また、本発明の化合物に他の化合物等を混合して組成物とする場合、以下の組成とすることが好ましい：
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び重合禁止剤を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び重合禁止剤を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；及び
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び酸化防止剤を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び酸化防止剤を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上。
【００３７】
また、本発明の組成物は、例えば揮発性有機化合物（ＶＯＣ）成分が２０００ｐｐｍ以下、１９００ｐｐｍ以下、１６００ｐｐｍ以下である。
ここで揮発性有機化合物（ＶＯＣ）とは，常圧で沸点５０〜２６０℃のものを意味する。例えばガスクロマトグラフィ分析において、保持時間がノルマル−ヘキサン〜ノルマル−ヘキサデカン（ｎ−Ｃ６〜ｎ−Ｃ１６）の範囲内にあるものである。
【００３８】
本発明の組成物及び化合物は、触媒の存在下、式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸と式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルとを反応させ、洗浄、精製を経て製造することができる。
【００３９】
上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸としては、アクリル酸及びメタクリル酸を挙げることができる。
上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、吉草酸ビニル、イソ吉草酸ビニル、ヘキサン酸ビニル及びヘプタン酸ビニル等を挙げることができる。
【００４０】
上記式（Ｂ）の（メタ）アクリル酸と、上記式（Ａ）の脂肪族カルボン酸ビニルエステルとの反応に特に制限はないが、通常はこれらを混合し、ブレンステッド酸又はルイス酸等の酸触媒を用い、通常２０〜７０℃、通常０．５〜２０時間、好ましくは３〜１０時間攪拌することによって行うことができる。
反応温度が２０〜７０℃の範囲にあれば、適度の反応速度を有し、かつ重合反応の生起を防止又は抑制することができる。
反応温度は、原料にアクリル酸を使う場合、例えば４０〜５０℃である。原料にメタクリル酸を使う場合、例えば５５℃〜６０℃である。
【００４１】
上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸と、上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルとの混合割合にも制限はないが、反応性及び経済性を考慮すると、上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸１モルに対し、上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルを、通常は１．０〜１．５モル、好ましくは１．１〜１．５モルとする。脂肪族カルボン酸ビニルエステルの当量が（メタ）アクリル酸に比べて少ないと、分解反応が起きる場合がある。
【００４２】
酸触媒としては、ブレンステッド酸の触媒、ルイス酸の触媒が挙げられる。
ブレンステッド酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の無機酸、酢酸、安息香酸、蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。
【００４３】
また、ルイス酸としては、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体、塩化アルミニウム、塩化第二鉄、塩化ホウ素化合物、塩化第二錫、フッ化アンチモン、塩化亜鉛、チタン化合物、ゼオライト類、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ１５（登録商標）やＮａｆｉｏｎ（登録商標）等のイオン交換樹脂等を挙げることができる。
これらの触媒を２種以上用いてもよい。これら触媒の中でも、反応性に優れ、かつ経済的な点から硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体、ゼオライト、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ１５、Ｎａｆｉｏｎが好ましく、さらには硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸及びＡｍｂｅｒｌｙｓｔ１５が特に好ましい。
【００４４】
上記触媒は、上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸に対し、通常は０．１〜１０ｍｏｌ％、好ましくは０．１〜３ｍｏｌ％の割合で用いられる。
【００４５】
上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸と上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルとの反応は、溶媒を用いることなく行うことができるが、所望により、溶媒を用いて行ってもよい。
この溶媒としては、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、トルエン、混合キシレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン，テトラヒドロフラン，ジクロロメタン、ヘプタン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等を挙げることができ、これら溶媒は、二種以上を混合して用いてもよい。
【００４６】
反応終了後、溶媒を用いたときは溶媒を除去し、反応生成物を洗浄、乾燥、精製することによって、目的物である、前記式（１）で表されるアクリル系化合物を含む組成物を得ることができる。
このようなアクリル系化合物の製造方法においては、その反応時及び洗浄、乾燥、精製時に、上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸又は上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルが重合反応を生起することのないよう、ｐ−メトキシフェノール等の重合禁止剤を添加しておくことが好ましい。
【００４７】
下記の条件（ｉ）〜（ｖ）を満たす精製方法によらなければ、本発明の組成物又は本発明の化合物を得ることができない。
プロセス全体を通して連続系でもバッチ系でもよい。
【００４８】
（ｉ）精製は、単蒸留及び精留の２工程で行う。
１工程で行なうと、式（２）の化合物の含有量が３．０％以下とならない。また、原料である（メタ）アクリル酸が各フラクション（留分）に混ざりこむ。これは、洗浄で微量に残った酸触媒と水が、精留中にモノマーの分解反応を促進させてしまうことに起因すると考えられる。
尚、単蒸留とは、いったん液体から蒸発した気体が、蒸留塔内で凝縮して液体となることなく留出する蒸留のことである。
【００４９】
（ii）精留時に、以下の４種の重合禁止剤を用いる：ｐ−メトキシフェノール、ジブチルジチオカルバミン酸銅、フェノチアジン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキアミンアンモニウム塩
重合禁止剤が１種のみ（例えば、ｐ−メトキシフェノールのみ）の場合、式（２）の化合物の含有量が３．０％以下とならない。また、精留途中で重合反応が発生し、モノマーを含む組成物が得られない。
【００５０】
（iii）精留時に、上記４種の重合禁止剤を希釈した溶液（希釈に用いる溶媒はテトラエチレングリコール）を、蒸留塔の塔頂又は塔中から０．２ｃｃ／ｍｉｎ程度の速度で滴下して重合反応を抑制する。
蒸留塔の塔頂又は塔中から重合禁止剤を滴下しないと、蒸留塔の塔内で重合反応が起こり、精留ができない。
【００５１】
（iv）精留時に、減圧度を高くする。
株式会社日立製作所製の真空ポンプＹＴＦＯの装置能力の上限、又はこれと同等の装置能力を有する真空ポンプの装置能力の上限で減圧する。内部圧力は内部の粗精製物の気化によって大きく上下するが、２ｋＰａ以下が好ましく、１ｋＰａ以下がより好ましく、０．５ｋＰａ以下がさらに好ましい。
（ｖ）還流比をＲ／Ｄ＝５程度とする。
（Ｒは還流液量、Ｄは留出液量であり、単位は同一である。）
【００５２】
上記本発明の組成物又は化合物を用いて重合させて、本発明の重合体、重合体組成物、及び成形体が得られる。
具体的には、本発明の組成物又は化合物、又はこの組成物又は化合物と他のエチレン系不飽和化合物との混合物に重合開始剤を添加し、通常３０〜１２０℃、好ましくは３０〜１００℃、より好ましくは３５〜８０℃で、通常１〜２０時間、好ましくは２〜１０時間、重合させることによって重合体、重合体組成物又は成形体が得られる。
また、本発明の組成物又は化合物、又はこの組成物又は化合物と他のエチレン系不飽和化合物との混合物に重合開始剤を添加し、波長４００ｎｍ以下のＵＶ照射源を有するＵＶ硬化装置を用いて、通常２０〜３０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜２５００ｍＪ／ｃｍ２の光量を照射することによっても重合体を得ることができる。
【００５３】
尚、本発明における重合体組成物とは、式（１）の化合物から得られる重合体又は式（６）の繰り返し単位を含む重合体と、式（２）の化合物等の他の化合物、重合体との混合物を意味する。重合体組成物には、室温において液体のもの、室温において固体のものがある。
また、本発明における成形体とは、本発明の重合体のうち室温において固体のもの、又は重合体組成物のうち室温において固体のものを意味する。
【００５４】
エチレン系不飽和化合物に特に制限はないが、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸等のエチレン系不飽和カルボン酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル等の（メタ）アクリル酸エステル、さらには、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等を挙げることができる。
これらエチレン系不飽和化合物は、１種用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５５】
エチレン系不飽和化合物の使用量は、前記式（１）で表されるアクリル系化合物１モルに対し、通常は０．０５〜０．９５モル、好ましくは０．１〜０．８モルである。
【００５６】
重合開始剤としては、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩；４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）二塩酸塩、２，２’−アゾビス−２−メチル−Ｎ−１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチルプロピオアミド、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）等のアゾ化合物；イソブチリルパーオキサイド、２，４−ジ−クロロベンゾイルパーオキサイド、３，５，５’−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド系；ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジ−カーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジ−カーボネート、ジ−イソプロピルパーオキシジ−カーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジ−カーボネート、ジ（２−エチルエチルパーオキシ）ジ−カーボネート、ジ−メトキシブチルパーオキシジ−カーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチルパーオキシ）ジ−カーボネート等のパーオキシジ−カーボネート類；（α，α−ビス−ネオデカノイルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、１，１’，３，３’−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、メチルエチルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド、アセチルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジ−イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、アセトフェノン、ｐ−アニシル、ベンジル、ジフェニルグリオキサール、２−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノン、２−ベンゾイル安息香酸、４−ベンゾイル安息香酸、４−ベンゾイル４’−メチルジフェニルスルフィド、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、（±）−カンファーキノン、４−クロロベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ジベンゾスベロン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−（３，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホン酸、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、２−エチルアントラキノン、９−フルオレノン、２−［２−（フラン−２−イル）ビニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−イソニトロソプロピオフェノン、４−イソプロピル−４’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート、２−イソプロピルチオキサントン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、Ｎ−メチルアクリドン、２−ベンゾイル安息香酸メチル、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）ビニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、ニフェジピン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）アセトフェノン、２−ピリジルトリブロモメチルスルホン、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート、トリ−ｐ−トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、トリ−ｐ−トリルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート等を挙げることができる。
【００５７】
この重合開始剤は、単量体全量に対し、通常は０．０１〜３質量％、好ましくは０．０１〜２質量％、より好ましくは０．０３〜１質量％の割合で用いられる。
【００５８】
重合温度が３０℃以上であると、適度の重合速度を有し、また、１２０℃以下であれば、重合反応の暴走を抑制することができる。反応が暴走すると，透明な成形体が得られない恐れがある。また、発砲状（ポップコーン状）になったり，成形体に亀裂が入ってしまう恐れがある。
また重合して成形体が得られた後、例えば６０〜１３０℃でアニールしてもよい。これにより、より完全に重合反応させることができる。
【００５９】
上記重合は、溶媒を用いることなく行うことができるが、所望により、溶媒を用いて行ってもよい。
この溶媒としては、水及び／又は有機溶媒を用いることができ、有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロパノール、ターシャリーブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、ジメチルホルムアミド、ニトロメタン、ベンゾニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロペンタン等を挙げることができる。
上記の重合においては、架橋剤を用いることを要しない。
【００６０】
また、本発明の重合体組成物は、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である。
また、本発明の重合体は、下記式（６）で表される繰り返し単位を含み、不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない。
【化１７】
式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。
【００６１】
本発明の重合体組成物は、例えば上記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体、及び上記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９０重量％以上、９９重量％以上である。
【００６２】
本発明の成形体は、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下０重量％以上である成形体である。
【化１８】
式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。
ここで、特定の繰り返し単位を「含む」とは、特定の繰り返し単位の構造を重合体の分子中に含むということを意味する。
【００６３】
本発明の成形体は、例えば上記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体、及び上記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９０重量％以上、９９重量％以上である。
【００６４】
本発明の重合体、あるいは重合体組成物及び成形体に含まれる重合体は、単独重合体であっても共重合体であってもよい。単独重合体は、例えば本発明の組成物又は化合物を用いて、式（１）の化合物を重合させることにより得られる。
また共重合体は、例えば本発明の組成物又は化合物、及び他の化合物を用いて、それらを重合させることにより得られる。ここで他の化合物としては、例えば上記のエチレン系不飽和化合物が挙げられる。
また、他の化合物としては、上記式（３）の化合物が挙げられる。尚、上記式（３）の化合物は、共重合体の主鎖の構造に組み込まれると同時に、主鎖に対して架橋機能を有し、共重合体同士を架橋すると考えられる。このことは、上記式（３）の化合物が二官能性の化合物であることから予想される。
【００６５】
本発明の成形体の耐熱性及び軟質性は、式（１）の化合物の構造によって異なる。
式（１）においてＲ１が水素原子の場合、成形体は軟質性を備える。成形体は、例えばデュロメータ硬さが５０以上８５以下である。また、例えばＤＭＡ（動的粘弾性測定装置）による軟化温度が２５℃以上４５℃以下である。
また式（１）においてＲ１がメチル基の場合、成形体のガラス転移温度は室温に比べて相当高く、成形体の強度は例えば曲げ強度の測定が可能な硬さである。
【００６６】
本発明の成形体は、臭気が少なく、透明性に優れる。尚、ここでいう「透明性に優れる」とは、全光線透過率が高いことを意味する。全光線透過率は実施例記載の方法で測定できる。
全光線透過率は、式（１）の化合物の構造や組成物中の他の成分によっても異なるが、真空で１３０℃、２時間のアニール処理後において、例えば９０％以上である。上限は特に規定されないが、例えば９８％である。
尚、架橋成分（式（３）で表わされる化合物）を含んでいても透明性は変化しない。
【００６７】
また、本発明の成形体は、真空で１３０℃、２時間のアニール処理後において、ＹＩ値が２．５以下となることが好ましい。ＹＩ値は実施例記載の方法で測定できる。
【００６８】
本発明の成形体は、式（３）で表わされる化合物を含む本発明の組成物を用いて重合することによって，優れた耐溶剤性を有する成形体とすることができる。具体的には、アセトン、ヘキサン等への耐溶剤性が高い成形体とすることができる。
【００６９】
本発明の成形体は、ＶＯＣが１８００ｐｐｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１６００ｐｐｍ以下であることが好ましい。ＶＯＣはガスクロマトグラフィーにより測定することができる。
【００７０】
本発明の成形体は、透明性を活かした板材（導光板・低反射板・集光板・偏光板・拡散板・ミラー板・紫外線カット板・帯電防止板等）に好適に用いることができる。これら板材を用いることにより、光導波路・光ファイバー等の情報用光学素子、ＬＥＤやモスアイ構造が形成された導光板・液晶用導光板、携帯電話や液晶、看板等のディスプレイ用部材、メガネ・内視鏡をはじめとする光学レンズ等の光学用部材、建築用窓、太陽電池用透明部材、その他家電用品・日用雑貨・玩具・医療用機器等に用いることができる。
【００７１】
また、本発明の組成物や成形体等は、上記以外の用途にも用いることができる。
本発明の組成物等は、塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、バインダー、レジスト、成形材料、電子素子における絶縁体及び絶縁膜材料、光学材料等の構成成分樹脂原料等に用いることができる。
本発明の成形体は、発泡成形体とすることで、レンジ対応食品容器、自動車用内装材、ユニットバス又は配管用断熱材等に使うことができる。
さらに、フィルムやシートに加工することで，食品包装シート、デスクマット等の文具用途、土木シート、防水シート、窓枠シーリング材、建築物用シーリング材等の土木建築用途，ＡＶ機器用途、家電機器用途等に用いることができる。
【実施例】
【００７２】
実験例１
［反応工程］
２Ｌ三つ口フラスコに、アクリル酸（和光純薬工業株式会社製、製品コード：011-00776、和光特級）（５３１ｇ，７．３７ｍｏｌ）、酢酸ビニル（和光純薬工業株式会社製、製品コード：224-00246、和光特級）（９３７ｇ，１０．９ｍｏｌ，１．５ｅｑ．）、ｐ−メトキシフェノール（和光純薬工業株式会社製、製品コード：088-01285、和光特級）（１４．６ｇ，０．１１８ｍｏｌ，１．６ｍｏｌ％）を秤りとり、硫酸（純正化学株式会社製、製品コード：83010-0330、特級）（６．３０ｍＬ，０．１１８ｍｏｌ，１．６ｍｏｌ％）をゆっくり加え、５０℃で８時間攪拌した。
【００７３】
［洗浄工程］
室温に冷却した後、水（１．５Ｌ）を用いて洗浄し、有機層をさらに０．６Ｍ炭酸ナトリウム水溶液（１．５Ｌ）で洗浄した。この際、炭酸ガスの発生が止まるまで脱圧しながら振とうを行なった。得られた有機層をバス温度３０℃、５０ｈＰａの条件下１時間エバポレーターで減圧濃縮した。
【００７４】
［単蒸留工程］
２Ｌナス型フラスコに濃縮した反応液を入れ、ｐ−メトキシフェノール２．０ｇを添加した後、バス温度４０℃，７ｈＰａの条件下、単蒸留を行ない，粗精製物（８００ｇ）を得た。
【００７５】
［精留工程］
得られた粗精製物を一部（３５６ｇ）秤りとり、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール（０．３５６ｇ，１０００ｐｐｍ）、ジブチルジチオカルバミン酸銅（０．３５６ｇ，１０００ｐｐｍ）、フェノチアジン（東京化成工業株式会社製、製品コード：P0106）（０．３５６ｇ，１０００ｐｐｍ）、Ｎ−ニトソロ−Ｎ−フェニルヒドロキシアミンアンモニウム塩（東京化成工業株式会社製、製品コード：C0646）（０．３５６ｇ，１０００ｐｐｍ）を加えた。
【００７６】
図１の精留装置１を組んだ。
精留装置１は、粗精製物用のフラスコ１０、蒸留塔２０、冷却管３０及び４０、滴下ロート５０、留分回収用フラスコ６０からなっている。蒸留塔２０の塔頂部には、重合禁止剤溶液用の容器１００、及びポンプ１１０が経路１１２を介して設けられ、重合禁止剤溶液を投入できるようになっている。
冷却管３０と蒸留塔２０は経路２２で接続され、冷却管３０と冷却管４０は経路２６で接続されている。また、冷却管３０内の経路２６の開口部には、経路２６の開閉を行う電磁弁２４が設けられている。電磁弁２４は、冷却管３０の上部に設けられた電磁石２５によって上下に動かすことができる。
図中、電磁弁２４の動きを示す矢印及び経路１１２に示される矢印以外の矢印は、蒸気ガス又は凝縮液の進行方向を示す。
加熱手段１２によりフラスコ１０内の粗精製物を加熱すると、その蒸気は蒸留塔２０及び経路２２を経て冷却管３０に達し、凝縮する。電磁弁２４が開いている場合、凝縮液は経路２６に流れ、冷却管４０及び滴下ロート５０を経てフラスコ６０へ達する。また、電磁弁２４が閉じている場合、凝縮液は経路２２へ流れて蒸留塔２０、フラスコ１０へ戻り、再度蒸留操作を受ける。
【００７７】
尚、本実施例においては、加熱手段１２はオイルバス、蒸留塔２０はマクマホン充填蒸留塔、冷却管３０はジムロート冷却管、冷却管４０はリービッヒ冷却管とした。
【００７８】
蒸留塔２０の塔頂から４種の重合禁止剤のテトラエチレングリコール溶液を滴下して重合を抑制しながら、バス（加熱手段１２）温度を５７〜２３２℃，真空ポンプ３２により系内の圧力を０．５０〜０．２８ｋＰａとし、精留を行ない、約２５ｇずつフラクション（Ｆｒ．１〜Ｆｒ．１５）に分画することで表１に示す留分（合計２７１ｇ）を得た。
具体的には、精留開始後、捕集容器（フラスコ６０）を交換しながら一定量ずつ留分を捕集した。最初に捕集した留分をＦｒ．１、次の留分をＦｒ．２、以降Ｆｒ．３〜１５とした。
【００７９】
Ｆｒ．６〜１５の各留分がそれぞれ本発明の組成物又は化合物である。組成は下記のＧＣ（ガスクロマトグラフィー）により確認した。
【００８０】
［ガスクロマトグラフィー］
アジレントテクトノロジー社製ガスクロマトグラフィー
カラム：ＨＰ１ 長さ３０ｍ×内径３２０μｍ×膜厚０．２５μｍ
試料注入条件：Ｈｅ １．５ｍＬ／ｍｉｎ
試料注入量：１μＬ
昇温条件：５０℃（１ｍｉｎ）→１０℃／ｍｉｎ昇温→２５０℃（３ｍｉｎ保持）
【００８１】
【表１】
【００８２】
実験例２
実験例１で得られたＦｒ．１〜１５を適宜選択、混合して、表２に示す組成物Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅを調製した。組成物Ｃは、実験例１の単蒸留工程で得られた粗精製物である。尚、表中の組成は重量％である。
【表２】
【００８３】
実験例３
組成物Ａ ７ｍＬ、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン ３７．２ｍｇ（組成物Ａに対して０．５ｗｔ％）を秤りとり、ガラス型枠（５２×７６ｍｍ、厚さ１ｍｍ）に流し込んだ。ＵＶ硬化装置を用いて２５４ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ照射を行ない、成形体Ａを得た。尚、ＩＲ（赤外分光法）を用いてオレフィン由来のピークが消失したことを確認し、硬化反応の終点とした。
【００８４】
組成物Ａをそれぞれ組成物Ｂ〜Ｅとした他は、実験例３と同様の方法を用いて成形体Ｂ〜Ｅを得た。
【００８５】
評価例１
成形体ＡについてＨＳ−ＧＣ（ヘッドスペース・ガスクロマトグラフィー）を測定したところ、以下のデータが得られた。揮発性有機化合物の濃度を計算すると、１５４０ｐｐｍとなった。この成形体は，無臭であった。
同様の方法で成形体Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅについて、揮発性有機化合物の濃度と成形体のにおいを確認した。結果を表３に示す。
【００８６】
ＨＳ条件 ：
サンプリングモード：ループモード
加圧圧力 ：１００ｋＰａ
抽出回数 ：１回
注入量：１ｍｌ
サンプル加熱温度 ：１５０℃
サンプル加熱時間 ：３０ｍｉｎ
インターフェース温度：２００℃
ＧＣ条件：
カラム：ＢＰＸ−５ 内径０．３２ｍｍ×長さ３０ｍ×膜厚１．０ｕｍ
昇温条件 ：５０℃（１ｍｉｎ）→１０℃／ｍｉｎ→３００℃（５ｍｉｎ）
キャリアガス：Ｃｏｎｓｔａｎｔ ｆｌｏｗ １．８ｍｌ／ｍｉｎ 線速度 ３０ｃｍ／ｓ
検出器：ＦＩＤ ３２０℃
【００８７】
【表３】
【００８８】
評価例２
成形体Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅをアニール（真空で１３０℃、２時間）して未反応のモノマーを完全に反応させ、ＹＩ値及び全光線透過率を測定した。結果を表４、図２，３に示す。
結果から、ＹＩ値は、式（２）で表される化合物の含量が７．５重量％前後で急激に低下し、７．５重量％以下であればＹＩ値が低いことが分かる。
また、成形体Ａ、Ｂは成形体Ｄ、Ｅと同程度に全光線透過率が高く、式（２）で表される化合物の量が少なくても全光線透過率に影響は無く、高い透明性を有していることが分かる。
【００８９】
ＹＩ値及び全光線透過率の測定方法を以下に示す。
全光線透過率：日本電色工業株式会社製ＮＤＨ２０００にて、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１に基づき測定した（光源：ＪＩＳに規定のものを使用した。）
ＹＩ値：株式会社日立ハイテクノロジーズ製 Ｕ４１００にて、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に基づき測定した。
【表４】
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明の組成物は、塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、バインダー、レジスト、成形材料、電子素子における絶縁体及び絶縁膜材料、光学材料等の構成成分樹脂原料等に用いることができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクリル系化合物及びそれを含む組成物、アクリル系重合体及びそれを含む重合体組成物、並びにそれらから得られる成形体及び積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
アクリル系重合体の典型例であるポリメタクリル酸メチルは、透明性に優れると共に、加工性に優れることから、フィルム、シート、パイプ等を得るための成形材料として、多種多様な分野に使用されている。
このフィルム等の用途においては、透明性に加えて、さらに軟質性や耐熱性が求められる場合がある。そのため、透明性及び耐熱性に優れるアクリル樹脂、並びに、透明性及び軟質性に優れるアクリル樹脂が開発された（特許文献１）。また、特許文献２には透明性及び耐熱性に優れるアクリル樹脂が開示されている。
しかし、特許文献１及び２に開示されているアクリル樹脂を用いた成形品は、透明性を有するが、色が黄色く、臭気を有するという欠点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−３２８０１２号公報
【特許文献２】英国特許出願公告第９１９３２４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、透明性が高く、臭気が少ないアクリル系成形体及びその原料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１で得られたアクリル樹脂には副生成物が混在し、この副生成物の含有量を減らすことにより成形体の臭気を低減できることを見出し、本発明を完成させた。
本発明によれば、以下の組成物等が提供される。
１．下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が約３重量％以下である組成物。
【化１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
２．下記式（Ａ）で表される化合物が約１００ｐｐｍ以下であり、
下記式（Ｂ）で表される化合物が約１０００ｐｐｍ以下であり、かつ
下記式（Ｃ）で表される化合物が約１００ｐｐｍ以下である、
１に記載の組成物。
（Ａ）ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＣＯ−Ｒ２
（Ｂ）ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯＨ
（Ｃ）酢酸
（式中、Ｒ１は前記式（１）のＲ１と同一の基であり、Ｒ２は前記式（１）のＲ２と同一の基である。）
３．式（３）で表される化合物を含む１又は２に記載の組成物。
【化２】
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
４．前記式（１）で表される化合物、及び
前記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が約９９．９重量％以上である、
１又は２に記載の組成物。
５．式（１）で表される化合物、
式（２）で表される化合物、及び
式（３）で表される化合物を合わせた含有量が約９９．９重量％以上である、
３に記載の組成物。
６．揮発性有機化合物（ＶＯＣ）成分が約２０００ｐｐｍ以下である、
１〜５のいずれかに記載の組成物。
７．下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（１）で表される化合物の含有量と下記式（２）で表される化合物の含有量との重量比が下記式（Ｘ）を満たす組成物。
【化３】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
０＜Ｍ１／Ｍ２≦約０．０３ （Ｘ）
（式中、Ｍ１は式（２）で表される化合物の含有量であり、Ｍ２は式（１）で表される化合物の含有量及び式（２）で表される化合物の含有量の和である。）
８．不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（１）で表される化合物。
【化４】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
９．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
重合禁止剤を含む組成物。
１０．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
酸化防止剤を含む組成物。
１１．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
重合禁止剤を合わせた含有量が約９９．９重量％以上である
９に記載の組成物。
１２．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
酸化防止剤を合わせた含有量が約９９．９重量％以上である
１０に記載の組成物。
１３．不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体。
【化５】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
１４．前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む１３記載の重合体。
１５．８に記載の化合物から得られる重合体。
１６．下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が約３重量％以下である重合体組成物。
【化６】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
１７．前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である１６記載の重合体組成物。
１８．１〜７のいずれかに記載の組成物から得られる重合体組成物。
１９．下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が約３重量％以下である成形体。
【化７】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
２０．前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である１９記載の成形体。
２１．１３〜１５のいずれかに記載の重合体、又は１６〜１８のいずれかに記載の重合体組成物から得られる成形体。
２２．基板と、
１３〜１５のいずれかに記載の重合体、又は１６〜１８のいずれかに記載の重合体組成物を用いて、前記基板上に形成される層と、
を含む積層体。
【０００６】
また、以下の組成物等が提供される。
１．下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である組成物。
【化８】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
２．下記式（Ａ）で表される化合物が１００ｐｐｍ以下であり、
下記式（Ｂ）で表される化合物が１０００ｐｐｍ以下であり、かつ
下記式（Ｃ）で表される化合物が１００ｐｐｍ以下である、
１に記載の組成物。
（Ａ）ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＣＯ−Ｒ２
（Ｂ）ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯＨ
（Ｃ）酢酸
（式中、Ｒ１は前記式（１）のＲ１と同一の基であり、Ｒ２は前記式（１）のＲ２と同一の基である。）
３．式（３）で表される化合物を含む１又は２に記載の組成物。
【化９】
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
４．前記式（１）で表される化合物、及び
前記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９９．９重量％以上である、
１又は２に記載の組成物。
５．式（１）で表される化合物、
式（２）で表される化合物、及び
式（３）で表される化合物を合わせた含有量が９９．９重量％以上である、
３に記載の組成物。
６．揮発性有機化合物（ＶＯＣ）成分が２０００ｐｐｍ以下である、
１〜５のいずれかに記載の組成物。
７．下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（１）で表される化合物の含有量と下記式（２）で表される化合物の含有量との重量比が下記式（Ｘ）を満たす組成物。
【化１０】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
０＜Ｍ１／Ｍ２≦０．０３ （Ｘ）
（式中、Ｍ１は式（２）で表される化合物の含有量であり、Ｍ２は式（１）で表される化合物の含有量及び式（２）で表される化合物の含有量の和である。）
８．不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（１）で表される化合物。
【化１１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
９．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
重合禁止剤を含む組成物。
１０．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
酸化防止剤を含む組成物。
１１．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
重合禁止剤を合わせた含有量が９９．９重量％以上である
９に記載の組成物。
１２．１〜７のいずれかに記載の組成物又は８に記載の化合物、及び
酸化防止剤を合わせた含有量が９９．９重量％以上である
１０に記載の組成物。
１３．不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体。
【化１２】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
１４．前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む１３記載の重合体。
１５．８に記載の化合物から得られる重合体。
１６．下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である重合体組成物。
【化１３】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
１７．前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である１６記載の重合体組成物。
１８．１〜７のいずれかに記載の組成物から得られる重合体組成物。
１９．下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である成形体。
【化１４】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
２０．前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である１９記載の成形体。
２１．１３〜１５のいずれかに記載の重合体、又は１６〜１８のいずれかに記載の重合体組成物から得られる成形体。
２２．基板と、
１３〜１５のいずれかに記載の重合体、又は１６〜１８のいずれかに記載の重合体組成物を用いて、前記基板上に形成される層と、
を含む積層体。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、透明性が高く、臭気が少ないアクリル系成形体及びその原料が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施例１で用いた精留装置を示す図である。
【図２】評価例１の評価結果（不純物含量とＹＩ値の関係）を示すグラフである。
【図３】評価例１の評価結果（不純物含量と全光線透過量の関係）を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の組成物は、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下の、下記式（１）で表されるアクリル系化合物を含む組成物である。即ち、本発明の組成物は、下記式（１）の化合物と式（２）の化合物の混合物、下記式（１）の化合物、式（２）の化合物及び他の化合物の混合物、又は下記式（１）の化合物と式（２）以外の他の化合物の混合物である。また、本発明の化合物は、式（２）の化合物が不純物として混在しない式（１）の化合物である。
【化１５】
式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。また、アルキル基は直鎖であっても分岐していてもよい。
式（２）で表される化合物の含有量が３重量％を超えると、その成形体は臭気が強くなる。
【００１０】
Ｒ２は、好ましくは炭素数１〜３の直鎖又は分岐のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜３の直鎖のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１又は２の直鎖のアルキル基である。最も好ましくは、メチル基である。
【００１１】
式（２）の化合物は、式（１）の化合物の製造時に副生成する。特許文献１及び２に記載の製造方法のいずれによっても、式（１）の化合物に併せて式（２）の化合物が生成する。
例えばＲ２がメチル基である式（１）の化合物を製造する場合、Ｒ２がメチル基である式（２）の化合物が副生成する。
従って、本発明の式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。
【００１２】
本発明の組成物において、式（２）で表される化合物の含有量は、好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％未満である。式（２）の化合物の定量はガスクロマトグラフィーにより行う。
【００１３】
また、本発明の組成物は、上記式（１）で表される化合物、及び式（２）で表される化合物を含み、式（１）で表される化合物の含有量と上記式（２）で表される化合物の含有量との重量比が下記式（Ｘ）を満たす。
０＜Ｍ１／Ｍ２≦０．０３ （Ｘ）
Ｍ１：式（２）で表される化合物の含有量
Ｍ２：式（１）で表される化合物の含有量及び式（２）で表される化合物の含有量の和
【００１４】
式（１）で表わされる化合物の具体例としては、アクリル酸１−アセチルオキシエチル、アクリル酸１−プロピオニルオキシエチル、アクリル酸１−ブチリルオキシエチル、アクリル酸１−イソブチリルオキシエチル、アクリル酸１−バレリルオキシエチル、アクリル酸１−イソバレリルオキシエチル、アクリル酸１−ヘキサノイルオキシエチル、アクリル酸１−ヘプタノイルオキシエチル、メタクリル酸１−アセチルオキシエチル、メタクリル酸１−プロピオニルオキシエチル、メタクリル酸１−ブチリルオキシエチル、メタクリル酸１−イソブチリルオキシエチル、メタクリル酸１−バレリルオキシエチル、メタクリル酸１−イソバレリルオキシエチル、メタクリル酸１−ヘキサノイルオキシエチル、メタクリル酸１−ヘプタノイルオキシエチル等を挙げることができる。
【００１５】
式（１）で表わされる化合物は、例えば、無色透明の液状化合物である、アクリル酸１−アセチルオキシエチルの場合、沸点は３０〜３５℃／０．７ｋＰａ、メタクリル酸１−アセチルオキシエチルの場合、沸点は４７〜５３℃／０．７ｋＰａである。
【００１６】
式（２）で表わされる化合物としては、エチリデンジアセテート、エチリデンジプロピオネート、エチリデンジブチレート、エチリデンジペンタノエート、エチリデンジヘキサノエート、エチリデンジヘプタノエート等を挙げることができる。
【００１７】
式（２）で表わされる化合物は、例えば、無色透明の液状化合物であるエチリデンジアセテートの場合、沸点は１６７−１６９℃であり（Ｃｈｅｍｉｃａｌ．Ａｂｓｔｒａｃｔ．；ｖｏｌ．９１；ｎｂ．１４０５５１）、屈折率は１．４０であり（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｄａｔａ；ｖｏｌ．１４；（１９６９）；ｐ．５０３）、密度は１．０７である（Ｔｒａｎｓ．ｅｌｅｃｔｒｏｃｈ．Ｓｏｃ．；ｖｏｌ．６３；（１９３３）；ｐ．４４３）。
【００１８】
本発明の組成物又は化合物は、種々の化成品を製造するための原料として用いることができるが、特に、アクリル系成形体を与える原料として有用である。この原料は、重合反応を行うことによって、アクリル系成形体を与えることができる。
【００１９】
本発明の組成物は、好ましくは下記式（Ａ）で表される化合物の含有量は１００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１０ｐｐｍ以下である。下記式（Ｂ）で表される化合物の含有量は好ましくは１０００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１００ｐｐｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｐｐｍである。下記式（Ｃ）で表される化合物の含有量は好ましくは１００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１０ｐｐｍ以下である。
本発明の組成物は、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物の含有量が１００ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｂ）で表される化合物の含有量が１０００ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｃ）で表される化合物の含有量が１００ｐｐｍ以下である。また例えば、下記式（Ａ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｂ）で表される化合物の含有量が１００ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｃ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍである。また例えば、下記式（Ａ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｂ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍ以下であり、下記式（Ｃ）で表される化合物の含有量が１０ｐｐｍである。
（Ａ）ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＣＯ−Ｒ２
（Ｂ）ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯＨ
（Ｃ）酢酸
式中、Ｒ１は、前記式（１）のＲ１と同一の基であり、Ｒ２は、前記式（１）のＲ２と同一の基である。
【００２０】
式（Ａ）の化合物の含有量が１００ｐｐｍを超えると、ＹＩ値がわずかに高くなる恐れがある。
式（Ｂ）の化合物の含有量が１０００ｐｐｍを超えると、ＹＩ値がわずかに高くなる恐れがある。
式（Ｃ）の化合物の含有量が１００ｐｐｍを超えると、ＹＩ値がわずかに高くなる恐れがある。
【００２１】
式（Ａ）及び（Ｂ）の化合物は、上記式（１）の化合物の原料であり、式（Ｃ）の化合物は式（１）の化合物の製造で生じる副生成物である。
例えば、Ｒ１が水素であり、Ｒ２がメチル基である式（１）の化合物を製造する場合、Ｒ２がメチル基である式（Ａ）の化合物、及びＲ１が水素である式（Ｂ）の化合物が原料である。
従って、式（Ｂ）のＲ１は前記式（１）のＲ１と同一の基であり、式（Ａ）のＲ２は前記式（１）のＲ２と同一の基である。
【００２２】
本発明の組成物は、下記式（３）で表される化合物を含んでもよい。
また、本発明の化合物と式（３）の化合物を混合して組成物としてもよい。
【化１６】
式中、Ｒ３は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。
【００２３】
式（３）の化合物は、式（１）の化合物の製造において副生成するものをそのまま組成物中に残して用いてもよい。また、副生成するものを精製により組成物中から除き、別途式（３）の化合物を用意して組成物に加えてもよい。別途式（３）の化合物を用意して組成物に加えることにより、組成物から得られる成形体の硬さを容易に調整することができる。
副生成物をそのまま用いる場合、式（３）のＲ３は、上記式（１）のＲ１と同一の基である。
【００２４】
式（３）の化合物は、好ましくは３０重量％以下含まれる。式（３）の化合物を含むことにより、本発明の組成物から得られる成形体の全光線透過率を維持したまま、耐熱性を向上でき、硬さを調整でき、及び／又は耐溶剤性を向上できる。３０重量％を超えると、成形体が脆くなって良好な板を成形できない場合がある。
【００２５】
式（３）で表される化合物としては、アセチリデンジアクリレート、アセチリデンジメタクリレート等を挙げることができる。
これらはいずれも無色透明の液体であって、アセチリデンジアクリレートは、沸点は６１−６２℃であり（４ Ｔｏｒｒ）（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）、屈折率は１．４２であり（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）、密度は１．０５である（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）。
【００２６】
アセチリデンジメタクリレートは、沸点は７４℃（６Ｔｏｒｒ）であり（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）、屈折率は１．４４であり（Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）、密度は１．０２３である（ＺｈｕｒｎａｌＯｂｓｈｃｈｅｉＫｈｉｍｉｉ；ｖｏｌ．２６；（１９５６）；ｐ．１１２７；ｅｎｇｌ．Ａｕｓｇ．Ｓ．１２７９）。
【００２７】
本発明の組成物は、重合禁止剤及び／又は酸化防止剤を含んでいてもよい。
また、本発明の化合物に重合禁止剤及び／又は酸化防止剤を混合して組成物としてもよい。
重合禁止剤は、モノマーが重合するのを阻害する添加剤である。組成物内のラジカルを捕捉して、消去・安定化することにより重合反応を防止・抑制する。
酸化防止剤は、モノマーやその重合体が酸化劣化しないようにする機能を有する。酸化防止の機構は種類によるが、ラジカルを捕捉したり、過酸化物を分解する等して、酸化劣化を防ぐ。
従って、組成物を保存するとき、これらを添加することが好ましい。
酸化防止剤の含有量は、組成物に対して５０００〜２０ｐｐｍが好ましい。また、重合禁止剤の含有量は、組成物に対して５０００〜２０ｐｐｍが好ましい。
【００２８】
重合禁止剤としては、ヒドロキノン系、及びジブチルジチオカルバミン酸金属系等が挙げられる。具体的には以下のものが挙げられる。
（１）Hydroquinone系：
ヒドロキノン、4-Methoxyphenol（４−メトキシフェノール）
（２）ジブチルジチオカルバミン酸金属系：
Sodium dimethyldithiocarbamate（ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム）、Sodium diethyldithiocarbamate（ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム）、Sodium dibutyldithiocarbamate（ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム）、Copper dibutyldithiocarbamate（ジブチルジチオカルバミン酸銅）
（３）その他：
Phenothiazine （フェノチアジン）
【００２９】
酸化防止剤としては、ヒンダードアミン（ＨＡＬＳ）系、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系、ベンゾフェノン系等が挙げられる。具体的には以下のものが挙げられる。
【００３０】
（１）ヒンダードアミン（ＨＡＬＳ）系：
Diphenylamine derivative(ジフェニルアミン誘導体)、Polymerized 2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline(２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒロドキノン重合体)、N-Isopropyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine(Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−ｐ−フェニレンジアミン)、N-(1,3-Dimethylbutyl)-N'-phenyl-p-phenylenedamine（Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−ｐ−フェニレンダミン）、6-Ethoxy-2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline（６−エトキシ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン）、チヌビン７６５、チヌビン７７０
【００３１】
（２）ヒンダードフェノール系：
2,6-Di-tert-butyl-p-cresol（２，６−ジターシャリーブチル−ｐ−クレゾール）、2,5-Di-tert-amylhydroquinone（２，５−ジターシャリーアミルヒドロキノン）、2,5-Di-tert-butyl-hydroquinone（２，５−ジターシャリーブチルヒドロキノン）、4,4'-Butylidene-bis(3-methyl-6-tert-butylphenol) （４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール））、2,2'-Methylene-bis(4-methyl-6-tert-butylphenol)（２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール））、2,2'-Methylene-bis(4-ethyl-6-tert-butylphenol) （２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ターシャリーブチルフェノール））、4,4'-Thio-bis(6-tert-butyl-m-cresol)（４，４’−チオ−ビス（６−ターシャリーブチル−ｍ−クレゾール））、Styrenated phenol （スチレン化フェノール）、BHT （ジブチルヒドロキシトルエン）IrganoX1076、Irgano3114、GA-80、スミライザーＧＳ
【００３２】
（３）リン系：
Irgafos38, Irgafos168
（４）硫黄系：
TP-D
【００３３】
（５）ベンゾフェノン系：
2,4-dihydroxybenzophenone （２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン）、
2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone （２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）、
2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone （２−ヒドロキシ−４−ノルマル−オクトキシベンゾフェノン）
【００３４】
（６）その他：
Nickel dibutyldithiocarbamate（ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル）、Zinc dimethyldithiocarbamate（ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛）、Zinc diethyldithiocarbamate（ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛）、Zinc dibutyldithiocarbamate（ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛）、2-Mercaptobenzimidazole（２−メルカプトベンズイミダゾール）、Alkylated arylphosphite（アルキル化アリールホスフィン）、Diauryl thiodipropionate （チオジプロピオン酸ジアウリル）
【００３５】
本発明の組成物は、好ましくは以下の組成のいずれかを有する：
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、上記式（１）で表される化合物、及び式（２）で表される化合物を合わせた含有量、あるいは上記式（１）で表される化合物、及び式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び重合禁止剤を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び重合禁止剤を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；及び
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び酸化防止剤を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び酸化防止剤を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上。
【００３６】
また、本発明の化合物に他の化合物等を混合して組成物とする場合、以下の組成とすることが好ましい：
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び重合禁止剤を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び重合禁止剤を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上；及び
・上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表わされる化合物、式（１）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び酸化防止剤を合わせた含有量、あるいは式（１）で表される化合物、式（３）で表される化合物、及び酸化防止剤を合わせた含有量が９９重量％以上、好ましくは９９．９重量％以上。
【００３７】
また、本発明の組成物は、例えば揮発性有機化合物（ＶＯＣ）成分が２０００ｐｐｍ以下、１９００ｐｐｍ以下、１６００ｐｐｍ以下である。
ここで揮発性有機化合物（ＶＯＣ）とは，常圧で沸点５０〜２６０℃のものを意味する。例えばガスクロマトグラフィ分析において、保持時間がノルマル−ヘキサン〜ノルマル−ヘキサデカン（ｎ−Ｃ６〜ｎ−Ｃ１６）の範囲内にあるものである。
【００３８】
本発明の組成物及び化合物は、触媒の存在下、式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸と式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルとを反応させ、洗浄、精製を経て製造することができる。
【００３９】
上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸としては、アクリル酸及びメタクリル酸を挙げることができる。
上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、吉草酸ビニル、イソ吉草酸ビニル、ヘキサン酸ビニル及びヘプタン酸ビニル等を挙げることができる。
【００４０】
上記式（Ｂ）の（メタ）アクリル酸と、上記式（Ａ）の脂肪族カルボン酸ビニルエステルとの反応に特に制限はないが、通常はこれらを混合し、ブレンステッド酸又はルイス酸等の酸触媒を用い、通常２０〜７０℃、通常０．５〜２０時間、好ましくは３〜１０時間攪拌することによって行うことができる。
反応温度が２０〜７０℃の範囲にあれば、適度の反応速度を有し、かつ重合反応の生起を防止又は抑制することができる。
反応温度は、原料にアクリル酸を使う場合、例えば４０〜５０℃である。原料にメタクリル酸を使う場合、例えば５５℃〜６０℃である。
【００４１】
上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸と、上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルとの混合割合にも制限はないが、反応性及び経済性を考慮すると、上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸１モルに対し、上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルを、通常は１．０〜１．５モル、好ましくは１．１〜１．５モルとする。脂肪族カルボン酸ビニルエステルの当量が（メタ）アクリル酸に比べて少ないと、分解反応が起きる場合がある。
【００４２】
酸触媒としては、ブレンステッド酸の触媒、ルイス酸の触媒が挙げられる。
ブレンステッド酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の無機酸、酢酸、安息香酸、蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。
【００４３】
また、ルイス酸としては、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体、塩化アルミニウム、塩化第二鉄、塩化ホウ素化合物、塩化第二錫、フッ化アンチモン、塩化亜鉛、チタン化合物、ゼオライト類、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ１５（登録商標）やＮａｆｉｏｎ（登録商標）等のイオン交換樹脂等を挙げることができる。
これらの触媒を２種以上用いてもよい。これら触媒の中でも、反応性に優れ、かつ経済的な点から硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体、ゼオライト、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ１５、Ｎａｆｉｏｎが好ましく、さらには硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸及びＡｍｂｅｒｌｙｓｔ１５が特に好ましい。
【００４４】
上記触媒は、上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸に対し、通常は０．１〜１０ｍｏｌ％、好ましくは０．１〜３ｍｏｌ％の割合で用いられる。
【００４５】
上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸と上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルとの反応は、溶媒を用いることなく行うことができるが、所望により、溶媒を用いて行ってもよい。
この溶媒としては、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、トルエン、混合キシレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン，テトラヒドロフラン，ジクロロメタン、ヘプタン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等を挙げることができ、これら溶媒は、二種以上を混合して用いてもよい。
【００４６】
反応終了後、溶媒を用いたときは溶媒を除去し、反応生成物を洗浄、乾燥、精製することによって、目的物である、前記式（１）で表されるアクリル系化合物を含む組成物を得ることができる。
このようなアクリル系化合物の製造方法においては、その反応時及び洗浄、乾燥、精製時に、上記式（Ｂ）で表される（メタ）アクリル酸又は上記式（Ａ）で表される脂肪族カルボン酸ビニルエステルが重合反応を生起することのないよう、ｐ−メトキシフェノール等の重合禁止剤を添加しておくことが好ましい。
【００４７】
下記の条件（ｉ）〜（ｖ）を満たす精製方法によらなければ、本発明の組成物又は本発明の化合物を得ることができない。
プロセス全体を通して連続系でもバッチ系でもよい。
【００４８】
（ｉ）精製は、単蒸留及び精留の２工程で行う。
１工程で行なうと、式（２）の化合物の含有量が３．０％以下とならない。また、原料である（メタ）アクリル酸が各フラクション（留分）に混ざりこむ。これは、洗浄で微量に残った酸触媒と水が、精留中にモノマーの分解反応を促進させてしまうことに起因すると考えられる。
尚、単蒸留とは、いったん液体から蒸発した気体が、蒸留塔内で凝縮して液体となることなく留出する蒸留のことである。
【００４９】
（ii）精留時に、以下の４種の重合禁止剤を用いる：ｐ−メトキシフェノール、ジブチルジチオカルバミン酸銅、フェノチアジン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキアミンアンモニウム塩
重合禁止剤が１種のみ（例えば、ｐ−メトキシフェノールのみ）の場合、式（２）の化合物の含有量が３．０％以下とならない。また、精留途中で重合反応が発生し、モノマーを含む組成物が得られない。
【００５０】
（iii）精留時に、上記４種の重合禁止剤を希釈した溶液（希釈に用いる溶媒はテトラエチレングリコール）を、蒸留塔の塔頂又は塔中から０．２ｃｃ／ｍｉｎ程度の速度で滴下して重合反応を抑制する。
蒸留塔の塔頂又は塔中から重合禁止剤を滴下しないと、蒸留塔の塔内で重合反応が起こり、精留ができない。
【００５１】
（iv）精留時に、減圧度を高くする。
株式会社日立製作所製の真空ポンプＹＴＦＯの装置能力の上限、又はこれと同等の装置能力を有する真空ポンプの装置能力の上限で減圧する。内部圧力は内部の粗精製物の気化によって大きく上下するが、２ｋＰａ以下が好ましく、１ｋＰａ以下がより好ましく、０．５ｋＰａ以下がさらに好ましい。
（ｖ）還流比をＲ／Ｄ＝５程度とする。
（Ｒは還流液量、Ｄは留出液量であり、単位は同一である。）
【００５２】
上記本発明の組成物又は化合物を用いて重合させて、本発明の重合体、重合体組成物、及び成形体が得られる。
具体的には、本発明の組成物又は化合物、又はこの組成物又は化合物と他のエチレン系不飽和化合物との混合物に重合開始剤を添加し、通常３０〜１２０℃、好ましくは３０〜１００℃、より好ましくは３５〜８０℃で、通常１〜２０時間、好ましくは２〜１０時間、重合させることによって重合体、重合体組成物又は成形体が得られる。
また、本発明の組成物又は化合物、又はこの組成物又は化合物と他のエチレン系不飽和化合物との混合物に重合開始剤を添加し、波長４００ｎｍ以下のＵＶ照射源を有するＵＶ硬化装置を用いて、通常２０〜３０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜２５００ｍＪ／ｃｍ２の光量を照射することによっても重合体を得ることができる。
【００５３】
尚、本発明における重合体組成物とは、式（１）の化合物から得られる重合体又は式（６）の繰り返し単位を含む重合体と、式（２）の化合物等の他の化合物、重合体との混合物を意味する。重合体組成物には、室温において液体のもの、室温において固体のものがある。
また、本発明における成形体とは、本発明の重合体のうち室温において固体のもの、又は重合体組成物のうち室温において固体のものを意味する。
【００５４】
エチレン系不飽和化合物に特に制限はないが、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸等のエチレン系不飽和カルボン酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル等の（メタ）アクリル酸エステル、さらには、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等を挙げることができる。
これらエチレン系不飽和化合物は、１種用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５５】
エチレン系不飽和化合物の使用量は、前記式（１）で表されるアクリル系化合物１モルに対し、通常は０．０５〜０．９５モル、好ましくは０．１〜０．８モルである。
【００５６】
重合開始剤としては、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩；４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）二塩酸塩、２，２’−アゾビス−２−メチル−Ｎ−１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチルプロピオアミド、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）等のアゾ化合物；イソブチリルパーオキサイド、２，４−ジ−クロロベンゾイルパーオキサイド、３，５，５’−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド系；ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジ−カーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジ−カーボネート、ジ−イソプロピルパーオキシジ−カーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジ−カーボネート、ジ（２−エチルエチルパーオキシ）ジ−カーボネート、ジ−メトキシブチルパーオキシジ−カーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチルパーオキシ）ジ−カーボネート等のパーオキシジ−カーボネート類；（α，α−ビス−ネオデカノイルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、１，１’，３，３’−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、メチルエチルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド、アセチルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジ−イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、アセトフェノン、ｐ−アニシル、ベンジル、ジフェニルグリオキサール、２−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノン、２−ベンゾイル安息香酸、４−ベンゾイル安息香酸、４−ベンゾイル４’−メチルジフェニルスルフィド、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、（±）−カンファーキノン、４−クロロベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ジベンゾスベロン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−（３，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホン酸、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、２−エチルアントラキノン、９−フルオレノン、２−［２−（フラン−２−イル）ビニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−イソニトロソプロピオフェノン、４−イソプロピル−４’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート、２−イソプロピルチオキサントン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、Ｎ−メチルアクリドン、２−ベンゾイル安息香酸メチル、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）ビニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、ニフェジピン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）アセトフェノン、２−ピリジルトリブロモメチルスルホン、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート、トリ−ｐ−トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、トリ−ｐ−トリルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート等を挙げることができる。
【００５７】
この重合開始剤は、単量体全量に対し、通常は０．０１〜３質量％、好ましくは０．０１〜２質量％、より好ましくは０．０３〜１質量％の割合で用いられる。
【００５８】
重合温度が３０℃以上であると、適度の重合速度を有し、また、１２０℃以下であれば、重合反応の暴走を抑制することができる。反応が暴走すると，透明な成形体が得られない恐れがある。また、発砲状（ポップコーン状）になったり，成形体に亀裂が入ってしまう恐れがある。
また重合して成形体が得られた後、例えば６０〜１３０℃でアニールしてもよい。これにより、より完全に重合反応させることができる。
【００５９】
上記重合は、溶媒を用いることなく行うことができるが、所望により、溶媒を用いて行ってもよい。
この溶媒としては、水及び／又は有機溶媒を用いることができ、有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロパノール、ターシャリーブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、ジメチルホルムアミド、ニトロメタン、ベンゾニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロペンタン等を挙げることができる。
上記の重合においては、架橋剤を用いることを要しない。
【００６０】
また、本発明の重合体組成物は、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である。
また、本発明の重合体は、下記式（６）で表される繰り返し単位を含み、不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない。
【化１７】
式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。
【００６１】
本発明の重合体組成物は、例えば上記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体、及び上記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９０重量％以上、９９重量％以上である。
【００６２】
本発明の成形体は、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下０重量％以上である成形体である。
【化１８】
式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。
ここで、特定の繰り返し単位を「含む」とは、特定の繰り返し単位の構造を重合体の分子中に含むということを意味する。
【００６３】
本発明の成形体は、例えば上記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体、及び上記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９０重量％以上、９９重量％以上である。
【００６４】
本発明の重合体、あるいは重合体組成物及び成形体に含まれる重合体は、単独重合体であっても共重合体であってもよい。単独重合体は、例えば本発明の組成物又は化合物を用いて、式（１）の化合物を重合させることにより得られる。
また共重合体は、例えば本発明の組成物又は化合物、及び他の化合物を用いて、それらを重合させることにより得られる。ここで他の化合物としては、例えば上記のエチレン系不飽和化合物が挙げられる。
また、他の化合物としては、上記式（３）の化合物が挙げられる。尚、上記式（３）の化合物は、共重合体の主鎖の構造に組み込まれると同時に、主鎖に対して架橋機能を有し、共重合体同士を架橋すると考えられる。このことは、上記式（３）の化合物が二官能性の化合物であることから予想される。
【００６５】
本発明の成形体の耐熱性及び軟質性は、式（１）の化合物の構造によって異なる。
式（１）においてＲ１が水素原子の場合、成形体は軟質性を備える。成形体は、例えばデュロメータ硬さが５０以上８５以下である。また、例えばＤＭＡ（動的粘弾性測定装置）による軟化温度が２５℃以上４５℃以下である。
また式（１）においてＲ１がメチル基の場合、成形体のガラス転移温度は室温に比べて相当高く、成形体の強度は例えば曲げ強度の測定が可能な硬さである。
【００６６】
本発明の成形体は、臭気が少なく、透明性に優れる。尚、ここでいう「透明性に優れる」とは、全光線透過率が高いことを意味する。全光線透過率は実施例記載の方法で測定できる。
全光線透過率は、式（１）の化合物の構造や組成物中の他の成分によっても異なるが、真空で１３０℃、２時間のアニール処理後において、例えば９０％以上である。上限は特に規定されないが、例えば９８％である。
尚、架橋成分（式（３）で表わされる化合物）を含んでいても透明性は変化しない。
【００６７】
また、本発明の成形体は、真空で１３０℃、２時間のアニール処理後において、ＹＩ値が２．５以下となることが好ましい。ＹＩ値は実施例記載の方法で測定できる。
【００６８】
本発明の成形体は、式（３）で表わされる化合物を含む本発明の組成物を用いて重合することによって，優れた耐溶剤性を有する成形体とすることができる。具体的には、アセトン、ヘキサン等への耐溶剤性が高い成形体とすることができる。
【００６９】
本発明の成形体は、ＶＯＣが１８００ｐｐｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１６００ｐｐｍ以下であることが好ましい。ＶＯＣはガスクロマトグラフィーにより測定することができる。
【００７０】
本発明の成形体は、透明性を活かした板材（導光板・低反射板・集光板・偏光板・拡散板・ミラー板・紫外線カット板・帯電防止板等）に好適に用いることができる。これら板材を用いることにより、光導波路・光ファイバー等の情報用光学素子、ＬＥＤやモスアイ構造が形成された導光板・液晶用導光板、携帯電話や液晶、看板等のディスプレイ用部材、メガネ・内視鏡をはじめとする光学レンズ等の光学用部材、建築用窓、太陽電池用透明部材、その他家電用品・日用雑貨・玩具・医療用機器等に用いることができる。
【００７１】
また、本発明の組成物や成形体等は、上記以外の用途にも用いることができる。
本発明の組成物等は、塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、バインダー、レジスト、成形材料、電子素子における絶縁体及び絶縁膜材料、光学材料等の構成成分樹脂原料等に用いることができる。
本発明の成形体は、発泡成形体とすることで、レンジ対応食品容器、自動車用内装材、ユニットバス又は配管用断熱材等に使うことができる。
さらに、フィルムやシートに加工することで，食品包装シート、デスクマット等の文具用途、土木シート、防水シート、窓枠シーリング材、建築物用シーリング材等の土木建築用途，ＡＶ機器用途、家電機器用途等に用いることができる。
【実施例】
【００７２】
実験例１
［反応工程］
２Ｌ三つ口フラスコに、アクリル酸（和光純薬工業株式会社製、製品コード：011-00776、和光特級）（５３１ｇ，７．３７ｍｏｌ）、酢酸ビニル（和光純薬工業株式会社製、製品コード：224-00246、和光特級）（９３７ｇ，１０．９ｍｏｌ，１．５ｅｑ．）、ｐ−メトキシフェノール（和光純薬工業株式会社製、製品コード：088-01285、和光特級）（１４．６ｇ，０．１１８ｍｏｌ，１．６ｍｏｌ％）を秤りとり、硫酸（純正化学株式会社製、製品コード：83010-0330、特級）（６．３０ｍＬ，０．１１８ｍｏｌ，１．６ｍｏｌ％）をゆっくり加え、５０℃で８時間攪拌した。
【００７３】
［洗浄工程］
室温に冷却した後、水（１．５Ｌ）を用いて洗浄し、有機層をさらに０．６Ｍ炭酸ナトリウム水溶液（１．５Ｌ）で洗浄した。この際、炭酸ガスの発生が止まるまで脱圧しながら振とうを行なった。得られた有機層をバス温度３０℃、５０ｈＰａの条件下１時間エバポレーターで減圧濃縮した。
【００７４】
［単蒸留工程］
２Ｌナス型フラスコに濃縮した反応液を入れ、ｐ−メトキシフェノール２．０ｇを添加した後、バス温度４０℃，７ｈＰａの条件下、単蒸留を行ない，粗精製物（８００ｇ）を得た。
【００７５】
［精留工程］
得られた粗精製物を一部（３５６ｇ）秤りとり、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール（０．３５６ｇ，１０００ｐｐｍ）、ジブチルジチオカルバミン酸銅（０．３５６ｇ，１０００ｐｐｍ）、フェノチアジン（東京化成工業株式会社製、製品コード：P0106）（０．３５６ｇ，１０００ｐｐｍ）、Ｎ−ニトソロ−Ｎ−フェニルヒドロキシアミンアンモニウム塩（東京化成工業株式会社製、製品コード：C0646）（０．３５６ｇ，１０００ｐｐｍ）を加えた。
【００７６】
図１の精留装置１を組んだ。
精留装置１は、粗精製物用のフラスコ１０、蒸留塔２０、冷却管３０及び４０、滴下ロート５０、留分回収用フラスコ６０からなっている。蒸留塔２０の塔頂部には、重合禁止剤溶液用の容器１００、及びポンプ１１０が経路１１２を介して設けられ、重合禁止剤溶液を投入できるようになっている。
冷却管３０と蒸留塔２０は経路２２で接続され、冷却管３０と冷却管４０は経路２６で接続されている。また、冷却管３０内の経路２６の開口部には、経路２６の開閉を行う電磁弁２４が設けられている。電磁弁２４は、冷却管３０の上部に設けられた電磁石２５によって上下に動かすことができる。
図中、電磁弁２４の動きを示す矢印及び経路１１２に示される矢印以外の矢印は、蒸気ガス又は凝縮液の進行方向を示す。
加熱手段１２によりフラスコ１０内の粗精製物を加熱すると、その蒸気は蒸留塔２０及び経路２２を経て冷却管３０に達し、凝縮する。電磁弁２４が開いている場合、凝縮液は経路２６に流れ、冷却管４０及び滴下ロート５０を経てフラスコ６０へ達する。また、電磁弁２４が閉じている場合、凝縮液は経路２２へ流れて蒸留塔２０、フラスコ１０へ戻り、再度蒸留操作を受ける。
【００７７】
尚、本実施例においては、加熱手段１２はオイルバス、蒸留塔２０はマクマホン充填蒸留塔、冷却管３０はジムロート冷却管、冷却管４０はリービッヒ冷却管とした。
【００７８】
蒸留塔２０の塔頂から４種の重合禁止剤のテトラエチレングリコール溶液を滴下して重合を抑制しながら、バス（加熱手段１２）温度を５７〜２３２℃，真空ポンプ３２により系内の圧力を０．５０〜０．２８ｋＰａとし、精留を行ない、約２５ｇずつフラクション（Ｆｒ．１〜Ｆｒ．１５）に分画することで表１に示す留分（合計２７１ｇ）を得た。
具体的には、精留開始後、捕集容器（フラスコ６０）を交換しながら一定量ずつ留分を捕集した。最初に捕集した留分をＦｒ．１、次の留分をＦｒ．２、以降Ｆｒ．３〜１５とした。
【００７９】
Ｆｒ．６〜１５の各留分がそれぞれ本発明の組成物又は化合物である。組成は下記のＧＣ（ガスクロマトグラフィー）により確認した。
【００８０】
［ガスクロマトグラフィー］
アジレントテクトノロジー社製ガスクロマトグラフィー
カラム：ＨＰ１ 長さ３０ｍ×内径３２０μｍ×膜厚０．２５μｍ
試料注入条件：Ｈｅ １．５ｍＬ／ｍｉｎ
試料注入量：１μＬ
昇温条件：５０℃（１ｍｉｎ）→１０℃／ｍｉｎ昇温→２５０℃（３ｍｉｎ保持）
【００８１】
【表１】
【００８２】
実験例２
実験例１で得られたＦｒ．１〜１５を適宜選択、混合して、表２に示す組成物Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅを調製した。組成物Ｃは、実験例１の単蒸留工程で得られた粗精製物である。尚、表中の組成は重量％である。
【表２】
【００８３】
実験例３
組成物Ａ ７ｍＬ、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン ３７．２ｍｇ（組成物Ａに対して０．５ｗｔ％）を秤りとり、ガラス型枠（５２×７６ｍｍ、厚さ１ｍｍ）に流し込んだ。ＵＶ硬化装置を用いて２５４ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ照射を行ない、成形体Ａを得た。尚、ＩＲ（赤外分光法）を用いてオレフィン由来のピークが消失したことを確認し、硬化反応の終点とした。
【００８４】
組成物Ａをそれぞれ組成物Ｂ〜Ｅとした他は、実験例３と同様の方法を用いて成形体Ｂ〜Ｅを得た。
【００８５】
評価例１
成形体ＡについてＨＳ−ＧＣ（ヘッドスペース・ガスクロマトグラフィー）を測定したところ、以下のデータが得られた。揮発性有機化合物の濃度を計算すると、１５４０ｐｐｍとなった。この成形体は，無臭であった。
同様の方法で成形体Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅについて、揮発性有機化合物の濃度と成形体のにおいを確認した。結果を表３に示す。
【００８６】
ＨＳ条件 ：
サンプリングモード：ループモード
加圧圧力 ：１００ｋＰａ
抽出回数 ：１回
注入量：１ｍｌ
サンプル加熱温度 ：１５０℃
サンプル加熱時間 ：３０ｍｉｎ
インターフェース温度：２００℃
ＧＣ条件：
カラム：ＢＰＸ−５ 内径０．３２ｍｍ×長さ３０ｍ×膜厚１．０ｕｍ
昇温条件 ：５０℃（１ｍｉｎ）→１０℃／ｍｉｎ→３００℃（５ｍｉｎ）
キャリアガス：Ｃｏｎｓｔａｎｔ ｆｌｏｗ １．８ｍｌ／ｍｉｎ 線速度 ３０ｃｍ／ｓ
検出器：ＦＩＤ ３２０℃
【００８７】
【表３】
【００８８】
評価例２
成形体Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅをアニール（真空で１３０℃、２時間）して未反応のモノマーを完全に反応させ、ＹＩ値及び全光線透過率を測定した。結果を表４、図２，３に示す。
結果から、ＹＩ値は、式（２）で表される化合物の含量が７．５重量％前後で急激に低下し、７．５重量％以下であればＹＩ値が低いことが分かる。
また、成形体Ａ、Ｂは成形体Ｄ、Ｅと同程度に全光線透過率が高く、式（２）で表される化合物の量が少なくても全光線透過率に影響は無く、高い透明性を有していることが分かる。
【００８９】
ＹＩ値及び全光線透過率の測定方法を以下に示す。
全光線透過率：日本電色工業株式会社製ＮＤＨ２０００にて、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１に基づき測定した（光源：ＪＩＳに規定のものを使用した。）
ＹＩ値：株式会社日立ハイテクノロジーズ製 Ｕ４１００にて、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に基づき測定した。
【表４】
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明の組成物は、塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、バインダー、レジスト、成形材料、電子素子における絶縁体及び絶縁膜材料、光学材料等の構成成分樹脂原料等に用いることができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である組成物。
【化１９】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項２】
下記式（Ａ）で表される化合物が１００ｐｐｍ以下であり、
下記式（Ｂ）で表される化合物が１０００ｐｐｍ以下であり、かつ
下記式（Ｃ）で表される化合物が１００ｐｐｍ以下である、
請求項１に記載の組成物。
（Ａ）ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＣＯ−Ｒ２
（Ｂ）ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯＨ
（Ｃ）酢酸
（式中、Ｒ１は前記式（１）のＲ１と同一の基であり、Ｒ２は前記式（１）のＲ２と同一の基である。）
【請求項３】
式（３）で表される化合物を含む請求項１又は２に記載の組成物。
【化２０】
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
【請求項４】
前記式（１）で表される化合物、及び
前記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９９．９重量％以上である、
請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項５】
式（１）で表される化合物、
式（２）で表される化合物、及び
式（３）で表される化合物を合わせた含有量が９９．９重量％以上である、
請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
揮発性有機化合物（ＶＯＣ）成分が２０００ｐｐｍ以下である、
請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
下記式（１）で表される化合物及び式（２）で表される化合物を含み、
下記式（１）で表される化合物の含有量と下記式（２）で表される化合物の含有量との重量比が下記式（Ｘ）を満たす組成物。
【化２１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
０＜Ｍ１／Ｍ２≦０．０３ （Ｘ）
（式中、Ｍ１は式（２）で表される化合物の含有量であり、Ｍ２は式（１）で表される化合物の含有量及び式（２）で表される化合物の含有量の和である。）
【請求項８】
不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（１）で表される化合物。
【化２２】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項９】
不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体。
【化２３】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項１０】
前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む請求項９記載の重合体。
【請求項１１】
請求項８に記載の化合物から得られる重合体。
【請求項１２】
下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である重合体組成物。
【化２４】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項１３】
前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である請求項１２記載の重合体組成物。
【請求項１４】
請求項１〜７のいずれかに記載の組成物から得られる重合体組成物。
【請求項１５】
下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である成形体。
【化２５】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項１６】
前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である請求項１５記載の成形体。
【請求項１７】
請求項９〜１１のいずれかに記載の重合体、又は請求項１２〜１４のいずれかに記載の重合体組成物から得られる成形体。
【請求項１８】
基板と、
請求項９〜１１のいずれかに記載の重合体、又は請求項１２〜１４のいずれかに記載の重合体組成物を用いて、前記基板上に形成される層と、
を含む積層体。
【請求項１】
下記式（１）で表される化合物を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である組成物。
【化１９】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項２】
下記式（Ａ）で表される化合物が１００ｐｐｍ以下であり、
下記式（Ｂ）で表される化合物が１０００ｐｐｍ以下であり、かつ
下記式（Ｃ）で表される化合物が１００ｐｐｍ以下である、
請求項１に記載の組成物。
（Ａ）ＣＨ２＝ＣＨ−ＯＣＯ−Ｒ２
（Ｂ）ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯＨ
（Ｃ）酢酸
（式中、Ｒ１は前記式（１）のＲ１と同一の基であり、Ｒ２は前記式（１）のＲ２と同一の基である。）
【請求項３】
式（３）で表される化合物を含む請求項１又は２に記載の組成物。
【化２０】
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
【請求項４】
前記式（１）で表される化合物、及び
前記式（２）で表される化合物を合わせた含有量が９９．９重量％以上である、
請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項５】
式（１）で表される化合物、
式（２）で表される化合物、及び
式（３）で表される化合物を合わせた含有量が９９．９重量％以上である、
請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
揮発性有機化合物（ＶＯＣ）成分が２０００ｐｐｍ以下である、
請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
下記式（１）で表される化合物及び式（２）で表される化合物を含み、
下記式（１）で表される化合物の含有量と下記式（２）で表される化合物の含有量との重量比が下記式（Ｘ）を満たす組成物。
【化２１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
０＜Ｍ１／Ｍ２≦０．０３ （Ｘ）
（式中、Ｍ１は式（２）で表される化合物の含有量であり、Ｍ２は式（１）で表される化合物の含有量及び式（２）で表される化合物の含有量の和である。）
【請求項８】
不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（１）で表される化合物。
【化２２】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項９】
不純物として下記式（２）で表される化合物を含まない、下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体。
【化２３】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項１０】
前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む請求項９記載の重合体。
【請求項１１】
請求項８に記載の化合物から得られる重合体。
【請求項１２】
下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である重合体組成物。
【化２４】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項１３】
前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である請求項１２記載の重合体組成物。
【請求項１４】
請求項１〜７のいずれかに記載の組成物から得られる重合体組成物。
【請求項１５】
下記式（６）で表される繰り返し単位を含む重合体を含み、
下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である成形体。
【化２５】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（６）、（２）中の全てのＲ２は同一の基である。）
【請求項１６】
前記重合体が、さらに、前記式（６）で表される繰り返し単位とは異なる、少なくとも１つの繰り返し単位を含む共重合体である請求項１５記載の成形体。
【請求項１７】
請求項９〜１１のいずれかに記載の重合体、又は請求項１２〜１４のいずれかに記載の重合体組成物から得られる成形体。
【請求項１８】
基板と、
請求項９〜１１のいずれかに記載の重合体、又は請求項１２〜１４のいずれかに記載の重合体組成物を用いて、前記基板上に形成される層と、
を含む積層体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１２−２０７００３（Ｐ２０１２−２０７００３Ａ）
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−７５８２５（Ｐ２０１１−７５８２５）
【出願日】平成２３年３月３０日（２０１１．３．３０）
【出願人】（０００１８３６４６）出光興産株式会社 (2,069)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月３０日（２０１１．３．３０）
【出願人】（０００１８３６４６）出光興産株式会社 (2,069)
【Ｆターム（参考）】
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