【課題】従来の白血球選択除去フィルター材が有する、高圧蒸気滅菌処理による性能低下という問題と、低温において溶出しやすいという問題を克服し、かつ、血小板を透過させて白血球を選択的に除去する白血球選択除去フィルター材を提供する。
【解決手段】多孔質素子から成る白血球選択除去フィルター基材の表面に、プロトンのスピン-スピン緩和時間が１ミリ秒以上２０ミリ秒以下であって、親水性基と強疎水性基の両方を含む水不溶性ポリマーを保持してなることを特徴とする白血球選択除去フィルター材。 （もっと読む）

【課題】長期熱安定性に優れ、低温で塗膜形成可能な防曇塗料及びこれを塗布、乾燥して得られる防曇性成形品を提供する。
【解決手段】 （Ｉ）ポリアルキレングリコール構造を有し、そのオキシアルキレン基くり返し数（鎖長）の平均値が３以上である重合反応性単量体の１種以上、アニオン性重合反応性単量体の１種以上、Ｎ−アルキル（メタ）アクリルアミド単量体の１種以上及び前記三者と共重合可能な単量体の１種以上が重合した重合物と、
（II）全固形分中総量０．５〜５重量％の、アルキルアミン類及び有機金属類の１種以上及び／又は（III）全固形分中総量１〜５重量％の、濡れ性向上剤、粘度調整剤、ｐＨ調整剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、可塑剤、防腐剤及び防カビ剤の１種以上とを含有する防曇塗料。 （もっと読む）

【課題】 優れた解像性を有するとともに、発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（II）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子又は低級アルキル基である。Ｒ^３は炭素原子数１〜１５のアルキル基又は脂肪族環式基であって、エーテル結合、水酸基、カルボニル基、エステル基、およびアミノ基からなる群から選ばれる１種以上の置換基を有していてもよい。ｎ_２は０又は１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 優れた解像性を有し、かつ発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物。下記一般式（１１）で表される構成単位（ａ１）を含むことを特徴とする高分子化合物。該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物。該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。
【化１】
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少なくとも１個の末端ペルフルオロポリエーテル基と少なくとも２基の（メタ）アクリル基を含む、フルオロポリエーテルポリ（メタ）アクリル化合物。好適なペルフルオロポリエーテル基には、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_aＣＦ（ＣＦ₃）−基（ここでａは平均して１〜１５である）および少なくとも２基の（メタ）アクリル基を含む。 （もっと読む）

放射線効果性積層材料、積層材料を形成するのに用いるのに適した、放射線硬化性接着剤組成物、及び積層材料の製造方法が提供される。該放射線硬化性組成物は、脂環式カルボン酸機能性モノマーの使用を含む。 （もっと読む）

（ａ）一般式Ｉで示され、式中：Ｘは、−ＣＨ_２−又は−Ｃ（Ｏ）−を意味し、但しＹが−Ｏ−であることを条件とし；−Ｃ（Ｏ）−を意味し、但しＹが−ＮＨ−であることを条件とし；−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ_２）_４−を意味し、但しＹが化学結合であることを条件とし；Ｙは、−Ｏ−、−ＮＨ−か又は化学結合を意味し、Ｒ^１は、水素又はメチルを意味し；Ｒ^２は、Ｃ_２〜Ｃ_４−アルキレン基を意味し、これらは同じか又は異なっており、かつ直鎖状又は分枝鎖状であってよいが、その際、基Ｒ^２の少なくとも５０％はエチレンである；Ｒ^３は、Ｃ_１〜Ｃ_２２−アルキル、フェニル、ｐ−（Ｃ_１〜Ｃ_１２−アルキル）フェニル又は水素を意味し；ｎは、６〜５０の整数を意味する、少なくとも１種のモノエチレン性不飽和ポリアルキレンオキシドモノマー６０〜９９質量％、（ｂ）少なくとも１個の窒素原子を含有する少なくとも１種の４級化されていない両性モノマー１〜４０質量％、（ｃ）他の非イオン性モノエチレン性不飽和モノマー０〜３９質量％、及び（ｄ）他のアニオン性モノエチレン性不飽和モノマー０〜１０質量％を重合により組み込んで含有し、かつ平均分子量Ｍｗが２０００〜５０００００Ｄである水溶性コポリマー、並びにこのコポリマーの、着色された分散剤及び金属イオン封鎖剤としての使用に関する。
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本発明は下記一般式（Ｉ）
【化７】


（式中Ｒはそれぞれ独立に水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を示し、ｎ、ｍは０〜５の繰り返しの数を示す。）で示される化合物（Ａ）及び光重合開始剤を必須成分とする紫外線硬化型樹脂組成物を用いることにより、青色レーザーの透過性、透明性、低吸水性に優れ、かつ反りの少ない高耐久性を有する高密度光ディスク用保護コート膜若しくは接着剤層を得ることができるものである。
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【目的】官能性（メタ）アクリレートを得るための、不飽和（メタ）アクリレートを選択的にエポキシ化する方法、の提供。
【構成】次式の化合物を、アルカリ金属モリブテン酸（又はタングスタン酸）塩ならびに相間移動物質を触媒として存在させた下で過酸化水素と、あるいはＲ^２が多環シクロアルキル鎖もしくは多環複素環アルキル鎖を示す場合にはヘテロポリ酸を触媒として有機過酸又は過酸化水素と、反応させるエポキシ化方法、かくして得られたエポキシ化（メタ）アクリレート類ならびに該エポキシ体中のエポキシ環の開裂方法。


［式中、ＸはＯ，Ｓ，ＮＨ等；Ｒ^１はＨ，Ｃ_１〜５アルキル；Ｒ^２はアルキル鎖、単環もしくは多環シクロアルキル鎖、複素環アルキル鎖、アルキルアリール鎖で該アルキル鎖中にオレフィン二重結合を含む、である］ （もっと読む）

【目的】 被覆に必要な揮発性有機化合物の量を低減しつつ種々の被覆材料を輸送しそしてそれらを塗布可能な表面に有効に噴霧する技術を提供する。
【構成】 流動性の、官能性有機反応材料と超臨界条件または近超臨界条件下に維持された超臨界流体二酸化炭素と混合することによって、該有機材料の化学反応を抑制する。 （もっと読む）