【課題】塗布膜厚の均一性が改善され、且つ、液浸露光により形成されたパターンのウエハー面内における寸法均一性に優れるパターンを提供可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子を有する基で置換されたラクトン構造を有する繰り返し単位を含む樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、ハロゲン原子又はＣＨ_２ＯＨを表す。Ｒ_２はアルキレン基、シクロアルキレン基、またはそれらを組み合わせた２価の連結基を表す。ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数のＲ_２は同一でも異なっていてもよい。）
【化１】

【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子を有する基で置換されたラクトン構造を有する繰り返し単位を含む樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
【化１】

一般式（Ａ１）において、
Ｒ_１は水素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、ハロゲン原子又はＣＨ_２ＯＨを表す。
Ｒ_２はアルキレン基、シクロアルキレン基、またはそれらを組み合わせた２価の連結基を表す。
ｎは０〜５の整数を表す。
ｎが２以上の場合、複数のＲ_２は同一でも異なっていてもよい。
【請求項２】
樹脂（Ａ）が下記一般式（Ａ２）で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【化２】

一般式（Ａ２）において、
Ｒ_１cは、水素原子、メチル基、トリフロロメチル基又はＣＨ_２ＯＨを表す。
Ｒ_２c〜Ｒ_４cは、各々独立に、水素原子、水酸基を表す。ただし、Ｒ_２c〜Ｒ_４cの内の少なくとも１つは、水酸基を表す。
【請求項３】
樹脂（Ａ）がシアノ基を有するラクトン構造を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
樹脂（Ａ）が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【化３】

一般式（ＩＩＩ）に於いて、
Ａは、エステル結合又はアミド結合を表す。
Ｒ_０は、アルキレン基、シクロアルキレン基又はそれらを組み合わせた２価の連結基を表し、複数ある場合は同じでも異なっていてもよい。
Ｚは、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合又はウレア結合を表し、複数ある場合は同じでも異なっていてもよい。
Ｒ_８は、ラクトン構造を有する１価の有機基を表す。
ｎは、−Ｒ_０−Ｚ−で表わされる構造の繰り返し数であり、１〜５の整数を表す。
Ｒ_７は、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の組成物を用いて形成されたレジスト膜。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の組成物を用いて膜を形成すること、該膜を露光すること、露光した膜を現像することを含むパターン形成方法。
【請求項７】
前記露光が、液浸露光であることを特徴とする請求項６に記載のパターン形成方法。

【公開番号】特開２０１１−２５７６１３（Ｐ２０１１−２５７６１３Ａ）
【公開日】平成２３年１２月２２日（２０１１．１２．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１３２４１０（Ｐ２０１０−１３２４１０）
【出願日】平成２２年６月９日（２０１０．６．９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】