【課題】感度、解像性及びリソグラフィー特性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ５−０）で表される構成単位（ａ５）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ６）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】 焦点深度ラチチュード（Ｄｅｐｔｈ Ｏｆ Ｆｏｃｕｓ）が大きく、経時でのパーティクル発生が少ないという液物性を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、前記化合物（Ａ）として、特定の２種の化合物からなる組み合わせ（Ａ−１）、又は、特定の２種の化合物からなる組み合わせ（Ａ−２）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】被処理液中の重金属の濃度が低く、カルシウムイオンが存在していても、重金属を効率よく捕捉可能で、回収率を向上することができる水処理剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）に示す部分構造を有する重合体を含有する水処理剤。
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【課題】高解像性のレジスト組成物を構成できる高分子化合物を製造するのに好適な化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物。［式（１）中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは硫黄原子であり；Ｙは、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である。式（２）中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは酸素原子であり；ｍは１であり；Ｙ’は、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜（２０−ｍ）の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である］。
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【課題】 感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る半導体用レジスト組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される化合物を含有している。
【化１】
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【課題】塗布膜厚の均一性が改善され、且つ、液浸露光により形成されたパターンのウエハー面内における寸法均一性に優れるパターンを提供可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子を有する基で置換されたラクトン構造を有する繰り返し単位を含む樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、ハロゲン原子又はＣＨ_２ＯＨを表す。Ｒ_２はアルキレン基、シクロアルキレン基、またはそれらを組み合わせた２価の連結基を表す。ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数のＲ_２は同一でも異なっていてもよい。）
【化１】
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【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつアルカリ現像時における親水性を向上させることができ、未露光部の現像欠陥を抑制し得ることに加えて、現像後のパターン形状に優れるレジスト塗膜を与えることが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】酸解離性基を有する重合体（Ａ）と、放射線照射により酸を発生する酸発生剤（Ｂ）と、下記一般式（ｘ）で表される官能基及びフッ素原子を有する重合体（Ｃ）と、を含有し、前記重合体（Ｃ）は、前記重合体（Ａ）よりもフッ素原子含有量が高い重合体である感放射線性樹脂組成物。


［一般式（ｘ）中、Ｒ^１はアルカリ解離性基、Ａは酸素原子（但し、芳香環、カルボニル基及びスルホキシル基に直結するものを除く。）、イミノ基、−ＣＯ−Ｏ−＊又は−ＳＯ_２−Ｏ−＊（「＊」はＲ^１に結合する結合手を示す。）を示す。］ （もっと読む）

【課題】 広い範囲の粘土鉱物含有率において、粘土鉱物と高分子重合体が三次元網目構造を形成し、優れた力学物性を示す有機無機複合ヒドロゲルを、開始剤を用いずに製造できる製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
プラズマによる表面処理を施した水膨潤性粘土鉱物（ｂ）と水溶性の（メタ）アクリル系モノマー（ａ）を水媒体（Ｃ）中に分散又は溶解させた後、重合開始剤を用いずに、前記（メタ）アクリル系モノマー（ａ）を加熱及び／又は紫外線の照射により重合させることを特徴とする有機無機複合ヒドロゲルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐候性、防汚性、防曇性に優れた、高透明性の有機無機複合体を形成することができる水系有機無機複合組成物を得る。
【解決手段】粒子径が１〜４００ｎｍの金属酸化物（Ａ）と、
水及び乳化剤の存在下で、加水分解性珪素化合物（ｂ１）と、２級及び／又は３級アミド基を有するビニル単量体（ｂ２）とを重合して得られる、粒子径が１０〜８００ｎｍである重合体エマルジョン粒子（Ｂ）と、
を、含有し、
前記２級及び／又は３級アミド基を有するビニル単量体（ｂ２）と、前記重合体エマルジョン粒子（Ｂ）との質量比（ｂ２）／（Ｂ）が、０．０１以上０．０５以下である水系有機無機複合組成物を提供する。 （もっと読む）