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国際特許分類[C08F220/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体 (4,622)

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【課題】 DOFの広いポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分が、相互に構造が異なるn[nは4〜6の整数]種の構成単位からなる共重合体であり、該共重合体中の各構成単位の割合がいずれも0モル%超100/(n−1)モル%以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


油相、水相、少なくとも1の油中水(W/O)系の乳化剤、および少なくとも1の水中油(O/W)系の乳化剤を含有し、20重量%乃至70重量%の、好ましくは25重量%乃至50重量%の架橋アニオン性高分子電解質を含有する組成物であって、前記高分子電解質は、部分的もしくは完全に塩化された2−メチル−2−[(1−オキソ−2−プロぺニル)−アミノ]−1−プロパンスルホン酸と少なくとも1の中性モノマーおよび任意に少なくとも1の弱酸性官能基を有するモノマーとが重合したコポリマーであり、部分的もしくは完全に塩化された2−メチル−2−[(1−オキソ−2−プロぺニル)−アミノ]−1−プロパンスルホン酸のモル比は、30%未満1%以上であることを特徴とする組成物。化粧料における適用。 (もっと読む)


【課題】DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、解像性がよく、ラインエッジラフネスが小さく、ディフェクトおよびパーティクルの生成も少ないレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】2−エチル−1,3,3,トリメチルビシクロ[2.1.1]ヘプタン−2−イル−メタクリレート,2−エチル−1,7,7,トリメチルビシクロ[2.1.1]ヘプタン−2−イル−メタクリレート,2−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−exo−2−イル−メタクリレート,2−エチル−エチルトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−exo−8−イル−メタクリレート等、エステル酸素と特定位置の炭素との間の結合が酸素によって開裂し脂環構造が脱離しうる構造特性を与える特定物質と、2−または3−シアノ−5−ノルボルニルメタクリレート,1−メタクリロイルオキシ−3−ヒドロキシアダマンチル等の特定物質を反応させてなるレジスト用重合体。 (もっと読む)


ある種の例示実施態様には、クラス1構成要素、クラス2構成要素、およびクラス3構成要素から調製される組成物が含まれ、前記クラス1構成要素が、前記組成物の約0.1パーセント〜約10乾燥重量パーセントに寄与し、前記クラス2構成要素が、前記組成物の約1パーセント〜約10乾燥重量パーセントに寄与し、そして前記クラス3構成要素が、前記組成物の乾燥重量のバランス量に寄与する。
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本発明は、芳香族モノマーおよび架橋化合物ならびに、好ましくは、ビニルクロロシランを介して支持体に結合した不飽和エステルまたはエーテルを含むコポリマーコーティングで実質的に変性された固体支持体を有する、生体高分子、特に、核酸の分離および精製のための吸収剤材料に関する。核酸の分離のためのこれらの材料の使用、特に、異なる生物源の溶解物からのDNAの一ステップ単離が本発明の目的であり、加えて、本発明の吸収剤材料で少なくとも部分的に充填されたクロマトグラフカラムまたはカートリッジ、本発明の吸収剤材料を含む膜状装置、ならびにバルクにおいて、またはクロマトグラフ装置およびサンプル調製を行うために必要なその他の装置に充填された状態で本発明の吸収剤材料を含むキットが本発明の目的である。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1つ以上の疎水基を含むモノマーと、少なくとも1つ以上の親水基を含むモノマーを含む統計的共重合体の、特にナノ粒子合成時の乳化剤としての使用、、およびステップaで、ひとつかそれ以上のナノ粒子の水溶性前駆体または溶融物を含む逆エマルジョンを、ひとつの疎水基を有するモノマー、およびすくなくともひとつ以上の親水基を有するモノマーの統計的共重合体から合成され、ステップbで粒子を生成する、粒子の生成工程に関連する。 (もっと読む)


本発明は、分子、特にポリヌクレオチドのアレイの形成及び操作において有用なヒドロゲル表面の作製及びこれらや他のアレイの化学修飾に関する。特に、本発明は、アクリルアミド、メタクリルアミド、ヒドロキシエチルメタクリレート又はN−ビニルピロリジノンである第一コモノマー及び官能基化されたアクリルアミド又はアクリレートである第ニコモノマーの混合物を支持体上で重合することを含む、固体支持体に固定化されたヒドロゲルを作製する方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、疎水性改質ジ第四級カチオン性モノマー及びこれらのコポリマーの製造、並びに、酸性組成物のための増粘剤/レオロジー改質剤としてのこのようなモノマー及びコポリマーの使用に関する。一般式:


を有する疎水性改質ジ第四級カチオン性モノマーであって、上記式中、Xは、O、NH又はNRから選択されており;Yは、ヘテロ原子を有する又は有しない任意のアルキル、アルキレンであり、そして、同一であるか又は異なるR0、R1、R2、R3、R4は、C1-C4アルキル基から選択され、Rは、ヘテロ原子を有する又は有しない任意のアルキル基から選択され、そしてR5は、原子数4を上回るアルキル鎖を有する疎水性物質である、疎水性改質ジ第四級カチオン性モノマー。
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本発明は、pH依存性膨潤挙動/溶解挙動を示す新規pH感受性ポリマーに関する。当該組成物は、苦味のある薬物の風味マスキングとして及び当該薬物の胃のデリバリーとしても有用である。前記ポリマーは、塩基性モノマーに加えて重合される疎水性モノマー又は塩基性モノマー及び親水性モノマーに加えて重合される疎水性モノマーを含む。 (もっと読む)


試験試料における被検体の存在を測定するためのセンサーであり、該センサーは:
周期律表のIA,IIA,IIIA,IVA,IB,IIB,IIIB,IVAB,VB,VIB,VIIBもしくはVIIIB族から選ばれる元素の少くとも1つの無機酸化物のナノ粒子を含有するナノ粒子膜を含み、ここで、オキシドレダクターゼおよび電気化学的活性化剤が該ナノ粒子膜中に拡散して分散されている。 (もっと読む)


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