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国際特許分類[C08F220/12]の内容

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【課題】 合わせガラスにおける近赤外光吸収特性を有する重合体層に用いる際に、優れた透光性及び耐貫通性を付与できる重合性組成物、この組成物を重合して得られる重合体、及び、この重合体からなる層を備える積層体を提供すること。
【解決手段】 本発明の合わせガラス10(積層体)は、一対の透光性基板1と、この一対の透光性基板1に挟持された重合体層2とを備えるものである。この合わせガラス10における重合体層2は、(メタ)アクリル系モノマーと、2価の銅イオンと、重合性官能基を有する第1のリン酸エステル化合物と、重合性官能基を有しない第2のリン酸エステル化合物とを含有する重合性組成物を重合してなる重合体からなるものである。 (もっと読む)


【課題】 透明性、色調および耐衝撃性と剛性との物性バランスなどに優れたゴム強化スチレン系透明樹脂組成物及びその効果的な製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂組成物中の単量体成分が、芳香族ビニル系単量体(a1)5〜70重量%、不飽和カルボン酸アルキルエステル系単量体(a2)30〜95重量%、シアン化ビニル系単量体(a3)0〜50重量%及びこれらと共重合可能な他の単量体(a4)0〜50重量%(ただしa1+a2+a3+a4=100重量%である)を含有し、(a1)、(a2)、(a3)、(a4)の合計を100重量%としたとき、紫外線吸収性単量体(a5)を0.001〜1重量%有する樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 膜厚の均一なレジスト塗膜を形成でき、微細なパターンを精度よく形成できるフォトレジスト用樹脂を得る。
【解決手段】 ルテニウム化合物で構成された重合触媒を用いて単量体を重合させフォトレジスト用樹脂を製造することを特徴とするフォトレジスト用樹脂の製造方法。ルテニウム化合物としてはルテニウム錯体が好ましい。ルテニウム錯体として、ルテニウム金属に、炭化水素環を含む炭化水素配位子、リン原子を含む配位子及びハロゲン原子から選択された少なくとも1種の配位子が配位した錯体を使用できる。ハロゲン含有化合物で構成された重合開始剤の存在下で重合を行ってもよい。ハロゲン含有化合物のハロゲン種は塩素又は臭素であるのが好ましい。 (もっと読む)


(メタ)アクリレートコポリマーとシリカナノ粒子を含むエマルションポリマーを包含する接着剤組成物が記載される。ナノ粒子を添加することにより、オーバーラップ剪断特性の有意な向上をもたらす。 (もっと読む)


【課題】衣料などの汚れを効率よく除去できかつ再汚染防止能に優れる洗剤に有用な(メタ)アクリル酸系共重合体を提供する。
【解決手段】30質量%以上95質量%未満の下記式(1):


5質量%以上70質量%未満の下記式(2):


0質量%を超えて50質量%以下の下記式(3):


および/またはビニル芳香族系単量体とを必須構成単位とする(メタ)アクリル酸系共重合体。 (もっと読む)


(メタ)アクリレートコポリマー及びシリカナノ粒子を含むエマルションポリマーを含む接着剤組成物を記載する。ナノ粒子の添加は、接着剤のオーバーラップ剪断特性の有意な増加をもたらし、同時に剥離接着を保持する。
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【課題】熱硬化時の反応性及び熱硬化後の塗膜物性、特に、外観、初期光沢、耐水性、耐溶剤性に優れ、かつ貯蔵安定性が極めて良好な粒状ビニル系重合体及びその重合体を用いた熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一級又は二級のメルカプト化合物(d)の存在下で、カルボキシル基含有ビニル系単量体(a)及びエポキシ基含有ビニル系単量体(b)を含むビニル系単量体混合物を懸濁重合して得られる粒状ビニル系重合体;及び、この粒状ビニル系重合体を含有する熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明は、硬化時の収縮を抑え、ガラス基材との密着性に優れた光硬化型樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明の光硬化型樹脂組成物は、(A)テルペン骨格を有する化合物、(B)シランカップリング剤、OH基を含む(メタ)アクリレート、リンを含む(メタ)アクリレートのいずれか1種類以上、(C)光ラジカル重合開始剤の3成分を含有することを特徴とするものである。
(A)成分が、テルペン骨格含有アクリル系モノマーである光硬化型樹脂組成物であることが好ましい。
さらには、テルペン骨格含有アクリル系モノマーが、水添テルペンジフェノールジ(メタ)アクリレート、またはテルペン骨格を有するジメチロール化合物と、(メタ)アクリル酸とを反応させて得られるジ(メタ)アクリレート化合物であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さく、また、現像後の残渣が低減され、QCM法等による測定における現像中の膨潤を抑えることができる。従って、特に超LSI製造用又はフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】酸不安定基を有する(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとベンゼン縮合環構造を有する特定の構造の(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとの共重合により得られる高分子化合物を含有するポジ型レジスト材料。 (もっと読む)


【課題】 表面硬度、耐傷性、表面平滑性に優れる透明熱可塑性樹脂組成物及び成形品を提供する。
【解決手段】 透明性を有するゴム強化アクリル系熱可塑性樹脂組成物に対し、炭素数12〜32の高級脂肪酸と炭素数12〜32の高級アルコールとのエステル化物である高級脂肪酸エステルを1〜5重量部を配合してなる樹脂組成物において、全樹脂成分の合計量に対するゴム質重合体(a)の配合量が2.5〜11.5重量%の範囲であることを特徴とする。 (もっと読む)


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