【課題】 原紙に含浸法、コーティング法、スプレー法等の加工方法により付着後に乾燥させ用いる樹脂エマルジョンあり、加工時のサイズプレス性や、加工紙に強度と耐熱黄変性等の優れた特性を付与できる新規な紙加工用樹脂エマルジョンの製造方法を提供する。
【解決手段】 乳化剤（Ａ）の存在下で、メチルアクリレート及び／又はエチルアクリレート（Ｂ）と、スルホン酸基及び／又はスルホン酸塩基を有するエチレン性不飽和単量体（Ｃ）を必須成分として含有するエチレン性不飽和単量体類を乳化重合する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、側鎖に特定の構造を有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターン形成の際、同時に感光性有機反射防止膜を形成するための感光性有機反射防止膜用の組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光性有機反射防止膜形成用の組成物は、エポキシ基及び酸発生剤（ＰＧＡ）によって分解が起こる酸分解型熱架橋剤を０．５〜５質量％と、アントラセンを含有するアクリレート単量体またはアントラセンを含有するメタアクリレート単量体を含む共重合体樹脂を１０〜２２質量％と、光酸発生剤を０．１〜１質量％と、その余の溶媒と、を含む。この感光性有機反射防止膜形成用の組成物で形成した感光性有機反射防止膜は、フォトレジストによりフォトレジストパターンを形成するための現象工程において、同時に現象される。 （もっと読む）

【課題】親水性ポリテトラフルオロエチレン膜として、現在入手できる膜とは異なる特性を有する膜を、現在使用されている方法とは異なる方法で作成するための素材の提供。
【解決手段】フッ素置換アクリレートもしくはフッ素置換メタクリレートと、不飽和無水物と、アルキルアクリレートもしくはアルキルメタクリレートとの反応生成物を含有する、フッ素置換オリゴマー又はポリマー状エステルが提供される。組成物の製造方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】半導体素子の製造工程のうち、超微細パターン形成工程で使われる有機反射防止膜重合体、これを含む有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表示され、２０００〜１０００００の重量平均分子量を有する有機反射防止膜重合体を提供する。
【化１】


（１）
（式中、Ｒ_１はＣ_１〜Ｃ_５の直鎖または側鎖アルキル基を表し、Ｒ_２及びＲ_３はそれぞれ水素またはメチル基を表し、Ｘはハロゲンを表し、ｎは１〜５を表し、ａ、ｂ及びｃは各単量体のモル分率であって、それぞれ０．１〜０．９を表す。） （もっと読む）

【課題】十分な粘着特性を有し、端末剥がれを抑制可能な水分散型粘着剤組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の水分散型粘着剤接着剤は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、これと共重合可能な窒素含有単量体及びシラン系単量体を含む単量体混合物を重合して得られ、かつ酸残基を実質的に含まない重合体を含有することを特徴とする。これにより、多価金属イオンによる架橋反応を回避して溶剤不溶分の割合の上昇及び低分子量成分の染みだしを抑制することで、経時での粘着特性の低下、特に端末剥がれを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】経時安定性を有し分散安定性が高く濃厚であり、環境性に優れた金属微粒子分散物、並びに、これを用いた着色組成物、感光性転写材料、並びに、高い黒色の膜またはブラックマトリックスを初めとする遮光画像若しくは薄膜で濃度の高い着色膜をはじめとする画像を有する遮光画像付き基板、また、平坦性に優れ、表示ムラが低いカラーフィルターおよび液晶表示装置を提供する。
【解決手段】硫黄原子および／または窒素原子を１個以上有するアルカリ可溶性ポリマーと、金属微粒子と、少なくとも１種の有機酸と、を含有することを特徴とする金属微粒子分散物。 （もっと読む）

【課題】耐ヨウ素性及び耐溶剤性に優れ、導電性基板に接着し、プラスチックフィルムタイプの色素増感型太陽電池にも対応可能なフレキシブル性を持ち、かつスクリーン印刷可能な光硬化性組成物、及び該光硬化性組成物を用いて電解液を封止した色素増感型太陽電池を提供する。
【解決手段】イソボルニルアクリレート及びアルキル基の炭素数が４〜１８のアルキル（メタ）アクリレートを含むモノマー成分、飽和熱可塑性エラストマー、並びに光重合開始剤を含有する光硬化性組成物であって、イソボルニルアクリレートとアルキル（メタ）アクリレートとの重量比が２０：８０〜７０：３０であり、温度２０℃、剪断速度１ｓｅｃ^−１の条件下で測定した粘度が５〜４０００Ｐａ・ｓである光硬化性組成物、該光硬化性組成物をシーリング材として用いて電解液を封止した色素増感型太陽電池、及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）桂皮酸から誘導される特定の繰り返し単位と、少なくとも一種の特定のポリスチレン構造を有する繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(Ａ)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、(Ｂ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）ラクトン基を有する分子量２０００以下の芳香族化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）