【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示すレジスト材料用高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂とする超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料として好適な化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物。


（式中、Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基であり、Ｘはメチレン基、酸素原子又は硫黄原子である。Ｒ²は水素原子又は酸不安定基を示す。ｍは１〜３の整数、ｎは１又は２であり、ｍ＋ｎ＝４、ａ＝１である。） （もっと読む）

【課題】ブリッジが発生しにくく、また、パターンの基板依存性の小さな化学増幅ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（４）


（式中、Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｘは電子吸引基を表す。また、ｍは０又は１〜４の整数であり、ｎは１〜５の整数である。）で示される繰り返し単位を含み、重量平均分子量が１，０００〜５０，０００である高分子化合物を含有することを特徴とする化学増幅ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は主鎖に多環式化合物を含む光反応性重合体およびその重合方法に関する。本発明に係る光反応性重合体は、ガラス転移温度が高い多環式化合物を主鎖として含むために熱的安定性に優れ、主鎖の流動性が付加重合体に比べて相対的に大きいために光反応性基が高分子主鎖内で比較的に自由に移動できるので、既存の液晶表示素子用の配向膜製造用高分子材料の短所として指摘されてきた遅い光反応速度という短所を改善することができる。 （もっと読む）

ポリマーは、化学式Iで表される第一型の反復単位を含み、式中、Xは-CH₂-、-CH₂-CH₂-、または-O-より選択され；mは0〜約5の整数であり；ここで第一型の反復単位については、R¹、R²、R³、およびR⁴の１つは、マレイミド含有基であり、第二型の反復単位については、R¹、R²、R³、およびR⁴の１つは、ヒンダード芳香族基、C₈以上のアルキル基、C₄以上のハロヒドロカルビル基もしくはペルハロカルビル基、C₇以上のアラルキル基、またはヘテロ原子ヒドロカルビル基もしくはハロヒドロカルビル基である。

（もっと読む）

【課題】メタロセン錯体を含む新規な触媒組成物を提供し、種々の高分子化合物を製造する方法を提供する。好ましくは、新規の高分子化合物、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）α−オレフィン化合物と環状オレフィン化合物、または（ｂ）ジエン化合物と環状オレフィン化合物との共重合体の製造方法であって、
１）一般式（Ｉ）で表されるメタロセン錯体、および、
２）非配位性アニオンとカチオンからなるイオン性化合物、
を含む重合触媒組成物の存在下において重合を行う方法。
［化１］


（式中、
Ｍは、第３族金属原子またはランタノイド金属原子のいずれかを示し；
Ｃｐ^*は、置換もしくは無置換のシクロペンタジエニル誘導体を含む配位子を示し；
Ｑ¹およびＱ²は、モノアニオン配位子を示す。） （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示される繰り返し単位からなる高分子化合物。


（Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異種の水素原子、又は炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基で、Ｒ¹とＲ²が結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ³⁰は水素原子又はメチル基である。）
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を用いたパターン形成方法によれば、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液（アルカリ現像液）に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。 （もっと読む）

【解決手段】ウエハーに形成したフォトレジスト層上にレジスト保護膜材料による保護膜を形成し、露光を行った後、現像を行うリソグラフィーによるパターン形成方法において用いる前記レジスト保護膜材料であって、カルボキシル基及び／又はスルホ基を有する繰り返し単位と炭化水素からなる繰り返し単位とを共重合した高分子化合物をベースとするレジスト保護膜材料。
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を適用することによって、真空中の露光におけるレジスト膜からのアウトガスの発生を抑えることができる。本発明のレジスト保護膜材料は、アルカリ現像液に可溶なためにレジスト膜の現像と同時に剥離が可能である。更に、レジスト膜を溶解することが無く、ミキシング層を形成することも無いので、現像後のレジスト形状に変化を与えることがない。 （もっと読む）

【解決手段】本発明の環状オレフィン系共重合体の製造方法は、芳香環構造を有する環状オレフィン系モノマー（Ａ）と、芳香環構造を有さない環状オレフィン系モノマー（Ｂ）とを共重合するに際し、モノマー総量の５〜９０重量％のモノマーと重合触媒とを用いて重合を開始し、重合反応中に残余のモノマーを反応系に供給して重合することを特徴としている。
【効果】本発明によれば、芳香環を有する環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位と、芳香環を有さない環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位とを有し、構造単位の偏在が少なく、容易に製造可能で、透明性、耐熱性、有機溶剤への溶解性、強度、加工性に優れ、各種光学部品用途に好適に使用できる、環状オレフィン系共重合体およびその製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】湿度変化に対する光学特性変化が小さく、かつ光弾性が小さく、適当な透湿度を有するフィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるノルボルネン系共重合体を含有するフィルムである。式中、Ｌは炭素原子数１０以下のアルキレン又は単結合を表し；Ｒ'は炭素原子数３以下のアルキル基を表し；Ｒは炭素原子数３以下のアルキル基又は水素原子を表し；Ｘ及び１００−Ｘは、共重合の組成比率を表し、０＜Ｘ＜１００である。
一般式（１）
（もっと読む）

【課題】ポリマー層の表面上に構造体を形成するための装置および方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ポリマー層（１）と、導電体を備える基板（２）であって、前記基板（２）上に前記ポリマー層（１）の第１の表面（１ａ）が与えられている基板と、前記装置の使用時に、前記ポリマー層（１）の第２の表面（１ｂ）と相互に作用し合う少なくとも１つの電極（３）とを備え、使用時に、前記基板（２）に関して少なくとも１つの電極（３）に第１の電位を印加し、それによって前記ポリマー層（１）の前記第２の表面（１ｂ）上に突出部（４）が形成されるように動作可能な、ポリマー層の表面上に構造体（地形的特性）を形成するための装置に関する。 （もっと読む）