【課題】触媒組成物およびその調製方法ならびにエチレン性不飽和モノマーからポリマーを調製するための該触媒組成物の使用を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの金属対を含有するカチオン性金属対錯体であって、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｍｎから選択される第１の金属とＮｉ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｍｎから選択される第２の金属とが１．５〜２０オングストロームの核間距離を有する特定構造の錯体を含む触媒組成物。該触媒組成物を用いた極性および／または非極性エチレン性不飽和モノマーの重合法、およびこれにより製造される付加ポリマー。 （もっと読む）

【課題】
高屈折率と高アッベ数とを兼ね備えた光学部品を得ることができる樹脂材料、及びこの樹脂材料を用いて得られる光学レンズ等の光学部品を提供する。
【解決手段】
−Ａ−Ｓｉ（Ｒ^１）（Ｒ^２）（Ｒ^３）（Ａは単結合等であり、Ｒ^１〜Ｒ^３は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基等である。）で表される含ケイ素基と、炭素−炭素二重結合を環内に有する脂環構造とを有し、芳香環構造を有しない脂環構造含有重合性単量体（Ａ）５〜３０重量％と、芳香環構造と、炭素−炭素二重結合を環内に有する脂環構造とを有し、ケイ素原子を有しない脂環構造含有重合性単量体（Ｂ）５０〜９０重量％と、これらと共重合可能な重合性単量体（Ｃ）０〜４５重量％とからなる重合性単量体組成物を、少なくとも重合して得られる脂環構造含有重合体、この脂環構造含有重合体、及び無機化合物を含有する脂環構造含有重合体組成物、この組成物を用いて得られる、屈折率が１．５６以上、アッベ数が５０以上、３ｍｍ厚の板での全光線透過率が８５％以上である光学部品。 （もっと読む）

【課題】
ノルボルネン環以外に炭素−炭素不飽和結合を有するノルボルネン系単量体（ａ）を共重合したノルボルネン系付加共重合体を提供する。
【解決手段】
ノルボルネン環以外に炭素−炭素不飽和結合を有するノルボルネン系単量体（ａ）とノルボルネン環以外に炭素−炭素不飽和結合を有しないノルボルネン系単量体（ｂ）とを、アルキル基またはアリール基と、中性の電子供与性単座配位子とを有する周期表第１０族遷移金属化合物（Ａ）とルイス酸（Ｂ）とからなる重合触媒を用いて、付加共重合して得られる付加共重合体であって、単量体（ａ）由来の繰り返し単位含量が２０〜９５モル％であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した重量平均分子量がポリスチレン換算で１６，８００〜１，０００，０００であることを特徴とする不飽和結合を有するノルボルネン系付加共重合体。 （もっと読む）

【課題】埋め込み性に優れており、且つ昇華物量が少なく、反射防止機能及びエッチング耐性に優れるレジスト下層膜を形成できるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜形成用組成物は、下記一般式（１）〜（３）で表される各繰り返し単位を有する重合体と溶剤とを含有する。
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【課題】透明性に優れ、かつ耐ドライエッチング性が改善されており、Ｆ₂レーザー用の化学増幅型フォトレジスト用の材料を提供する。
【解決手段】式（１３）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）− （１３）
（式中、Ｍ１は、含フッ素アルコール構造を有するノルボルネン誘導体に由来する構造単位；Ｍ２は炭素数２または３のエチレン性単量体であって、フッ素原子を少なくとも１つ含有する含フッ素単量体から得られる構造単位；Ｎは構造単位Ｍ１、Ｍ２と共重合可能な単量体に由来する構造単位）で表わされるポリマー主鎖中に環構造を有する重合体であって、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％、構造単位Ｎを０〜９８モル％含む数平均分子量が５００〜１００００００の含フッ素重合体。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性にも優れ、例えば、珪素含有２層レジストプロセス、あるいは珪素含有中間層膜による３層レジストプロセスといった多層レジストプロセス用レジスト下層膜として有望なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有することを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化３７】
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【課題】耐熱性に優れるとともに吸水性が低く、また材料コストが低く抑えられる光導波路および光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体９は、コア部９４と、該コア部９４より屈折率が低いクラッド部９５とを備えるコア層９３と、該コア層９３の両面に接触して設けられ、前記コア部９３より屈折率の低いクラッド層９１、９２とを有する光導波路９０と、光導波路９０の両面に設けられた導体層９０１、９０２とを有し、前記クラッド層９１、９２は、ノルボルネン系ポリマーを主材料として構成されている。また、前記ノルボルネン系ポリマーは、下記化１で表されるものを主とするものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ラセミ結合した２連子の多環ユニット、および３連子の多環ユニットによって特徴づけられるシクロオレフィンコポリマー、それらの製造方法、およびこれらの方法に使用可能な選択触媒を提供すること。
【解決手段】重心−Ｍ−重心を含む平面に対してＣ_Ｓ対称性を有していないメタロセン触媒の存在下で多環オレフィンを直鎖オレフィンと共重合することによって、上記シクロオレフィンコポリマーを製造することができる。 （もっと読む）

フォトリソグラフィ２層塗布基板を形成する、多層リソグラフィプロセスで使用するためのエッチング耐性熱硬化性下層組成物であって、該組成物は、（ａ）構造式（Ｉ）の少なくとも一つの繰り返し単位と、構造式（ＩＩ）の少なくとも一つの繰り返し単位と、任意に構造式（ＩＩＩ）の少なくとも一つの繰り返し単位と、から構成される、但し、構造式（Ｉ）、構造式（ＩＩ）及び構造式（ＩＩＩ）のいずれも酸感応性基を含有しない、少なくとも一つのシクロオレフィンポリマーと、（ｂ）アミノ又はフェノール架橋剤からなる群から選択される少なくとも一つの架橋剤と、（ｃ）少なくとも一つの熱酸発生剤（ＴＡＧ）と、（ｄ）少なくとも一つの溶媒と、（ｅ）任意に、少なくとも一つの界面活性剤と、を有する。
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【解決手段】一般式(１)で表される共重合による繰り返し単位を含み、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むネガ型レジスト材料。


(Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、又はアルキル基又はフッ素化アルキル基、Ｘはメチレン基、酸素原子又は硫黄原子。ｍは１〜３の整数、ｎは１又は２、ｍ＋ｎ＝４。Ｒ²は水素原子又はメチル基、Ｒ³は水素原子、フッ素原子、又はアルキル基又はフッ素化アルキル基、ｐ、ｑは１〜３の整数、ｐ＋ｔ＝５、ｑ＋ｕ＝７、０＜(ａ−１)＜１．０、０≦(ｂ−１)＜１．０、０≦(ｂ−２)＜１．０、０＜(ｂ−１)＋(ｂ−２)＜１．０。)
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度、高解像性で、パターン形状が良好で、酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示し、超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料として好適である。 （もっと読む）