【課題】極めて透明であり、低い誘電率（熱酸化ケイ素膜の誘電率より低いか、または、それと同等の誘電率）を有し、さらに、高い耐熱性（それに続く加工に十分耐える程度の耐熱性）を有する、３０μｍまたはそれより大きい厚さを有するフィルム形成に使用可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系ポリマー、光酸発生剤および溶媒を含む、ネガ型の自己結像可能なフィルムを形成するためのポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い耐衝撃強さおよび高い温度耐性のホモポリマーまたはコポリマーを製造するための方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明により、ノルボルネン、メチルノルボルネン、エチルノルボルネン、ブチルノルボルネン、ヘキシルノルボルネン、１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレン、５，５’−（１，２−エタンジイル）ビスビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンおよび１，４，４ａ，４ｂ，５，８，８ａ，８ｂ−オクタヒドロ−１，４：５，８−ジメタノビフェニレンの如き多環式オレフィンを塊状付加重合させるための触媒系および方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】低吸湿性と耐熱性に優れ、光学材料として有用な透明熱可塑性樹脂の提供。
【解決手段】一般式（１）及び一般式（２）を含む脂環式炭化水素共重合体。




［Ｒ¹及びＲ²は、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基］ （もっと読む）

【課題】タッチパネル用の位相差フィルムを提供することを主要な目的とする。
【解決手段】表面に透明導電膜が形成された２つの基板１１０、１２０を透明導電膜１１２、１２２が対向するように所定の間隔をあけて配置してなるタッチパネル１００において、少なくとも一方の基板１１１が、ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が８０：２０〜９０：１０、ＭＶＲ（メルトボリュームレート）が０．８〜２．０ｃｍ³／１０分である、ガラス転移温度が１７０〜２００℃の環状オレフィンの付加（共）重合体よりなるリタデーション１００〜１５０ｎｍの位相差フィルムである。 （もっと読む）

【解決手段】（１）スルホニウム構造を有する構成単位、（２）フェノール性水酸基を有する構成単位、（３）酸不安定基を有する構成単位、（４）アセナフチレン化合物またはインデン化合物において、（１）〜（３）又は（１）〜（４）で示される繰り返し単位を有し、かつ（１）の単位がポリマーを構成する全単位中に占める割合が１０モル％以下であるポリマーを含有する化学増幅ポジ型フォトレジスト材料。
【効果】ベース樹脂のポリマーが一般的に用いられる重合溶剤、精製溶剤やレジスト溶剤に対する溶解性に問題がなく、また、クロム系材料のような、パターン形成に際してのパターン剥がれやパターン崩壊を起こし易い材料を表面に持つ被加工基板上でも、安定したパターン形成ができる。 （もっと読む）

【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物、を含有するレジスト組成物であって、ベース樹脂は、一般式（１）で表される繰り返し単位を含有すると共に、一般式（２）及び／又は（３）で表される繰り返し単位を１種あるいは２種以上含有し、更に、前記ベース樹脂を構成する全繰り返し単位中、一般式（１）、（２）及び（３）で表される繰り返し単位を７０モル％以上含有する。
（もっと読む）

【課題】ポリオレフィン樹脂と極性基をもつ熱可塑性樹脂の相溶性を改善し、安定なドメイン分散構造をとり、有機溶剤耐性、機械的強度および外観に優れる樹脂組成物を与える相溶化剤、該相溶化剤を含有する樹脂組成物、その成形体を提供する。
【解決手段】α−オレフィンモノマーと下記一般式（１）：
【化１】


（式中、Ｘは重縮合系樹脂の連結基とエステル交換反応またはアミド交換反応し得る官能基を示し、ｎは０〜１０の整数を示し、ｍは０〜１０の整数を示し、ｏは１〜４の整数を示す。）
で表される化合物との共重合体からなることを特徴とする熱可塑性樹脂用相溶化剤、該相溶化剤とポリオレフィン樹脂と極性基をもつ熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、優れた解像性とエッチング耐性を有するネガ型レジスト組成物。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性であり、酸の作用によりアルカリ不溶性となるベースポリマー、及び／又は、アルカリ可溶性であり、酸の作用により架橋剤と反応してアルカリ不溶性になるベースポリマーと架橋剤の組み合わせ、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有するレジスト組成物であって、上記ベースポリマーとして用いるポリマーは、アセナフチレン系共重合体、あるいは該ポリマーの有する官能基を更に化学変換して得たポリマーであり、前記得られたポリマーを構成する全繰り返し単位に対して、アセナフチレンモノマー由来の繰り返し単位の合計が５０モル％以上であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】タイヤ用ゴム組成物として用いた際、優れたドライグリップ性能とウェットグリップ性能とを発揮し得るゴム組成物、およびそれを用いた空気入りタイヤを提供すること。
【解決手段】本発明のゴム組成物は、少なくとも一種のジエン系ポリマーからなるゴム成分１００質量部に対し、少なくとも無機充填剤を５〜３５０質量部の量で含む充填剤を総量で１０〜３５０質量部、および下記式（Ｉ）で表される化合物（Ｉ）とインデン（II）とを、下記式（Ａ）〜（Ｃ）を満たす前記化合物（Ｉ）の割合（ａ質量％）および前記インデン（II）の割合（ｂ質量％）で共重合させて得られる共重合体樹脂を１〜１００質量部の量で配合してなり、かつ前記充填剤の総量に対し、軟化剤と前記樹脂とを総量で５０質量％以上の量で配合してなることを特徴とする。
（もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と、酸不安定基含有繰り返し単位とを共重合した高分子化合物を含む第１ポジ型レジスト材料で基板上に第１レジスト膜を形成する工程、第１レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第１レジストパターンを形成する工程、第１レジストパターンにアミン化合物又はオキサゾリン化合物を適用し、C3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを含み、前記第１のレジストパターンを溶解しない溶剤を溶媒とする第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジスト膜を形成する工程、第２レジスト膜を露光、ＰＥＢ後、現像して第２レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１レジストパターンのパターンが未形成の部分に第２パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）