【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から分離可能な積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体は、光透過性の支持体と被支持基板と接着層と支持体および被支持基板との間に設けられ、光吸収性を有している構造をその繰返し単位に含んでいる重合体を含有している分離層とを備えており、重合体は支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、低吸水性、電気絶縁特性に優れたノルボルネン系共重合体の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系モノマーを溶解し、前記モノマーの重合体を溶解しない液体を溶媒として用いる、沈殿重合による、下記一般式（２）


及び、一般式（２）と異なる、特定の官能基を有さないノルボルネン系誘導体で示されるモノマーユニットを有するノルボルネン系共重合体の製造方法であって、前記沈殿重合の溶媒が脂肪族カルボン酸エステルを含むことを特徴とするノルボルネン系共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜、特には３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜、又は、レジストパターンの側壁に直接珪素酸化膜を形成したり、レジストパターンに珪素酸化膜を形成してポジネガ反転を行う際に用いるレジスト下層膜であり、反射率を低減でき、エッチング耐性が高いレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料であって、少なくともフッ素原子を有するスチレン誘導体単位を、繰り返し単位として含有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（I）〜式（XIII）で表されるオキセタン構造保有のアルカリ可溶性樹脂と、溶剤と、結像用放射線を吸収して分解するとアルカリ可溶性樹脂中のオキセタン構造が反応を起こしめる酸を発生可能な光酸発生剤とを含んでなり、自体塩基性水溶液に可溶であり、露光後は露光部がアルカリ不溶となるように構成する。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、低吸水性、電気絶縁特性に優れた、高分子量のノルボルネン系共重合体を提供する。
【解決手段】アニオン性炭化水素と、周期表第１５族の元素を含む中性配位子と、陰性の電子供与性配位子とを構成要素とする遷移金属化合物からなる［Ｍ（Ｋ）（Ｌ１）（Ｌ２）］_ｎで表す主触媒と主触媒と反応してカチオン性遷移金属化合物を生成できるイオン性化合物よりなる助触媒とからなる触媒系を用いて重合することを特徴とする、ノルボルネン骨格とエステル基の間にメチレン鎖を１つ導入したモノマーユニットを含む特定なノルボルネン系共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントプロセス法において、中間スタンパの作製に使用できる光硬化性転写シートであり、微細凹凸パターンを有する金型との離型性、凹凸パターンが転写される光硬化性樹脂との離型性が良好であり、且つ転写性に優れた光硬化性転写シートを提供する。更に、それを用いた凹凸パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】加圧により変形可能で、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤を含む光硬化性組成物からなる光硬化性転写層１１を有する光硬化性転写シートであって、前記ポリマーが、主鎖に脂環式構造を有する繰り返し単位、及び（メタ）アクリレート繰り返し単位を含む樹脂からなり、且つ前記ポリマー中の脂環式構造を有する繰り返し単位の含有率が１５〜７０質量％であることを特徴とする光硬化性転写シート１０。更に、これを用いた凹凸パターンを形成する方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換又は非置換のナフトール基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】上記繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像のポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する。このフォトレジスト膜、格子状パターンのマスクを用いて露光、現像することで微細なホールパターンを寸法制御よく形成でき、更にアミノ基又はアミン塩を有する保護膜を適用することでホールパターンの開口不良を防ぎ、寸法均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスが小さく、また、高感度でスループットの高い、更に、パターンの基板依存性の小さなネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(Ａ)水酸基を置換した芳香族環を側鎖に有する繰り返し単位（１）を含むベースポリマーと、酸存在下に繰り返し単位（１）への求電子反応により架橋を形成する架橋剤との組み合わせ(Ｂ)酸発生剤(Ｃ)塩基性成分として窒素含有化合物を有し、上記ベースポリマーの少なくとも一部は、式(３)


(Ｒ³はアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、メルカプトアルキル又はアルキルチオアルキル。)で示される基を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】オレフィンに対する高い重合活性と高い共重合性を有し、かつ分子量の高い重合体を製造するオレフィン重合用触媒、および該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィンの重合方法の提供。
【解決手段】オレフィン重合用触媒は、下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物（Ａ）を含んでなる。


（式中、Ｍは周期律表４〜６族の遷移金属原子を示し、Ｒ¹は炭素原子数７〜３０のアルキル置換アリール基であり、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁵は水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基等から選ばれ、Ｒ⁴およびＲ⁶は塩素原子である。） （もっと読む）

【課題】非晶質環状オレフィン重合体の透明性、耐熱性及び機械的物性といった特性を維持しつつ、熱インプリント性をさらに改善する。
【解決手段】非晶質環状オレフィン重合体１００重量部に対し、２−ノルボルネンが７５〜１００重量％と置換基含有ノルボルネン類が２５〜０重量％とを含有してなる重合性単量体を開環重合し、水素添加して得られる、融点が５５〜１４５℃である結晶性ノルボルネン系重合体を１〜１０重量部含有する樹脂組成物からなるフィルムであり、非晶質環状オレフィン重合体の重量平均分子量をＭｗ_Ａ、結晶性ノルボルネン系重合体の重量平均分子量をＭｗ_Ｂとしたとき、０．６≦Ｍｗ_Ａ/Ｍｗ_Ｂ≦１．０であることを特徴とする樹脂組成物。 （もっと読む）