【課題】（Ａ）エチレンおよび（Ｂ）特定の環状オレフィンとを、（Ｃ）メタロセン触媒の存在下に共重合させる際に、重合系内に（Ｄ）炭素数３〜２０のα−オレフィンを少割合供給する方法。
【解決手段】耐熱性、透明性および機械特性等を損うことなく、高活性で環状オレフィン系共重合体を製造することができる。 （もっと読む）

本発明は、アルケンとアクリレートとノルボルネンとからなる単量体混合物を、ルイス酸の存在下でラジカル開始剤により重合させるアルケン−アクリレート−ノルボルネン３元共重合体の製造方法を開示する。本発明のアルケン−アクリレート−ノルボルネン３元共重合体の製造方法は、ルイス酸を使用することにより、低温及び低圧のマイルド条件でも共重合体を製造することができ、工程が単純で、共重合体の物性制御が容易である。さらに、前記方法により製造された３元共重合体は、エチレンとノルボルネンとを同時に含むため、相対的に高いガラス転移温度を有し、フィルムの製造時、壊れる特性が改善される。 （もっと読む）

【課題】 湿式現像可能な反射防止膜組成物及びその使用方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、基板表面とポジ型フォトレジスト組成物の間に塗布する反射防止膜組成物を開示する。反射防止膜組成物は、水性アルカリ性現像液中で現像可能である。この反射防止膜組成物は、ラクトン、マレイミド、及びＮ−アルキルマレイミドから成る群から選択される１つ又は複数の部分を含む少なくとも１つのモノマー単位と、１つ又は複数の吸光性部分を含む少なくとも１つのモノマー単位とを含むポリマーを含む。このポリマーは酸に不安定な基を含まない。本発明はまた、フォトリソグラフィにおいて本発明の反射防止膜組成物を用いて、レリーフ像を形成し転写する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】配線板の樹脂層形成した場合に、電気特性および密着性優れる樹脂組成物、加工性に優れる積層体、電気特性に優れた配線板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】配線板の絶縁層を構成する樹脂組成物であって、付加型ノルボルネン系樹脂と、平均粒径２μｍ以下の球状シリカとを必須成分とし、−５０〜１５０℃の熱膨張率が６０ｐｐｍ以下であることを特徴とする樹脂組成物。前記樹脂組成物の球状シリカが、樹脂組成物中に５０重量％以上であり、さらに予め表面処理されているものである。配線板に用いる積層体であって、前記樹脂組成物より構成される樹脂層と、キャリアフィルムとを積層してなることを特徴とする積層体。前記樹脂組成物を用いて絶縁層を形成する工程と、回路層を形成する工程と、前記絶縁層をレーザー照射により開孔する工程とを含む配線板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低吸湿性、低誘電率性、耐熱性などに優れたアセナフチレン誘導体を樹脂骨格に有し、熱硬化性および／または光硬化性をもつ共重合体または変性共重合体を提供する。アルカリ現像性に有効な酸性基を有し、レジスト材料に使用することができる共重合体または変性共重合体を提供する。
【解決手段】アセナフチレン誘導体と、不飽和酸無水物とを重合させてなる共重合体。 （もっと読む）

【課題】 透明性、耐薬品性、光学特性に優れ、ガラス転移温度が高く、吸水率が低く、線膨張率が低く、一般溶剤に溶解するノルボルネン化合物付加重合体、これからなる成形品、及びこれらの用途を提供する。
【解決手段】 ノルボルネン化合物単量体の繰返し単位のみからなるノルボルネン化合物付加重合体であり、炭素及び水素のみから構成され全ての炭素が縮合環骨格の構成に関与しているノルボルネン化合物単量体の繰返し単位（ａ）と、炭素及び水素のみから構成され全ての炭素が縮合環骨格の構成に関与しているノルボルネン化合物単量体の水素の一部を、炭素数が２以下の炭化水素基のみで置換した構造を有するノルボルネン化合物単量体の繰返し単位（ｂ）との総和が全繰返し単位の７０モル％以上であって、繰返し単位（ａ）／繰返し単位（ｂ）のモル比が１０／９０〜９８／２の範囲内にあるノルボルネン化合物付加重合体。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）の重合による、繰り返し単位（２）を含むレジスト材料。


（Ｒ¹はＦ、又はフッ素化されたアルキル基。Ｒ²はＨ、又はアルキル基。Ｒ³はＯ、又はアルキレン基。Ｒ⁴及びＲ⁵はＨ、又はアルキル基又はフッ素化されたアルキル基。Ｒ⁶はＨ又は酸不安定基。）
【効果】レジスト材料は、ＡｒＦ露光において優れた解像性と透明性、エッチング耐性を有し、ＡｒＦ液浸リソグラフィーでも高い性能を発揮する。 （もっと読む）

【課題】エッチング耐性と耐熱性及び接着力は勿論、現像液に容易に溶解しないＡｒＦ感光膜樹脂及びその製造方法を提供することを目的とし、さらに、この新規のＡｒＦ感光膜樹脂に用いる共重合体及び共重合体を製造する方法、及び、前記ＡｒＦ感光膜樹脂を含む感光膜及び感光膜の製造方法を提供する。また、前記ＡｒＦ感光膜樹脂を含むフォトレジストを利用した半導体装置及び半導体装置を製造する方法を提供する。
【解決手段】遠紫外線領域で用いることができる新規のフォトレジスト物質であり、ビシクロアルケン誘導体と無水マレイン酸、又はビニレンカルボネートを共重合させた３，０００〜１００，０００分子量の共重合体であり、本発明の共重合体は優れたエッチング耐性と耐熱性及び接着性を有するだけでなく、現像液のＴＭＡＨ溶液を用いて現像することが可能である。 （もっと読む）

【課題】高屈折率でかつ低複屈折の安定した屈折率特性を得る。
【解決手段】本発明に係る光学素子としての対物レンズ１０は、脂環式炭化水素系共重合体を主成分とする光学素子用樹脂組成物を成形して得られた光学素子であって、前記脂環式炭化水素系共重合体が、α−オレフィンと所定の環状オレフィンとを共重合させて得られる共重合体であり、前記環状オレフィン部分のendo体とexo体との比（モル％）が、endo体／exo体＝０／１００〜５／９５又は９５／５〜１００／０のいずれかを満たしている。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィンの酸化劣化成分を生成せず、重合活性に優れるとともに、環状オレフィンの共重合効率が高く、さらに立体選択制、ランダム性に優れた環状オレフィン系共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】触媒として一般式（１）及び（２）で表される化合物の存在下、α−オレフィンと環状オレフィンとを共重合させて環状オレフィン系共重合体を製造することを特徴とする。


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