【課題】液浸フォトリソグラフィーのための、新規な材料およびプロセスが望まれている。また、改善されたリソグラフィー結果をもたらすことができる新規な組成物、特に、現像されたレリーフ像の改善された解像度をもたらすことができる、新規な組成物を提供することも望まれている。
【解決手段】非液浸画像化のためのだけでなく、液浸リソグラフィー処理のためをも含む、フォトレジスト組成物上に適用されるオーバーコーティング層組成物。 （もっと読む）

【課題】 高い耐熱性、透明性を有し、さらに良好な電気絶縁性、低吸水性、低誘電率を示し、特に光学材料用およびプリント回路基板用に好適なコーティング材および当該コーティング材の製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）で表される構造単位（１）と、（１）の置換基の一部がシリル基である構造単位とを特定の割合で含む環状オレフィン系付加重合体と、有機溶剤とを含むコーティング材を提供する。


［式（１）中、Ａ^１〜Ａ^４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基から選ばれる原子または基を表す。］ （もっと読む）

【課題】非環式脂肪族オレフィン由来の単位および極性モノマー由来の単位を含有するコポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】ニッケルもしくはパラジウムを金属中心とする化合物と、リン、ヒ素、窒素もしくはアンチモンを含有する有機化合物が錯体を形成した後期遷移金属触媒錯体を使用し、エチレンに代表される非環式脂肪族オレフィン由来の単位および極性モノマー由来の単位を含有するコポリマーおよびターポリマーの製造法を提供する。 （もっと読む）

【課題】
従来用いられてきた樹脂組成物では、基盤との密着性が弱い為に現像液である有機アルカリ類の水溶液、特に半導体用途で一般的に使用されている２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液ではパターン剥がれが起こり、２．３８％より低濃度の専用現像液でなければ加工できないという課題があった。本発明は上記事情にかんがみてなされたものであり、その目的とするところは密着性に優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）酸性基を有する環状オレフィン系樹脂と、（Ｂ）光酸発生剤と、（Ｃ）１３０℃以上の温度で（Ａ）の酸性基と結合しうる反応基を有する化合物と、シランカップリング剤（Ｄ）と、分子中にＳを有する酸化防止剤（Ｅ）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いて製作された半導体装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明性、耐熱性、湿水性、耐水性、耐溶剤性、酸やアルカリ等への耐薬品性に優れ、熱膨張係数（線膨張係数）が小さく、機械的性質が改良された靱性のある光学基板、およびその製造方法を提供することを課題としている。
【解決手段】
本発明の光学基板は、置換基を有さないか、ハロゲン原子、メチル基、エチル基のいずれかの置換基のみを有する環状オレフィン構造単位（１）と、トリメチルシリル基などの置換基を有する環状オレフィン構造単位（２）とを特定割合で有し、数平均分子量（Ｍｎ）が２０，０００〜３００，０００である環状オレフィン付加共重合体からなることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと環状オレフィン化合物から環状オレフィン系共重合体を工業的により簡便且つ効率的に製造する方法の提供。
【解決手段】特定の構造を有する４族金属錯体（好ましくはチタニウム錯体）と有機アルミニウムオキシ化合物又は有機ホウ素化合物から選ばれる１種以上の活性化剤（Ｂ）とからなる重合触媒の存在下で、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと少なくとも１種類の環状オレフィン化合物とを共重合させて、環状オレフィン系共重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】光酸発生剤がイマージョンリソグラフィー用液体に溶解されないようにすることができるイマージョンリソグラフィー用ポリマー、及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される反復単位を含むイマージョンリソグラフィー用ポリマーを含むフォトレジスト組成物により形成されたフォトレジスト膜は、水溶性イマージョンリソグラフィー用液体に長時間接触させても光酸発生剤がイマージョンリソグラフィー用液体に溶解されないため露光レンズの汚染を防止する。


（Ｘ_１はアルキレン、硫黄又は酸素、Ａは光酸発生基） （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れるとともに吸水性が低く、また材料コストが低く抑えられる光導波路および光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体は、コア部と、該コア部より屈折率が低いクラッド部とを備えるコア層と、該コア層の両面に接触して設けられ、コア部より屈折率の低いクラッド層を有する光導波路と、光導波路の両面に設けられた導体層を有し、クラッド層は、ノルボルネン系ポリマーを主材料として構成されている。また、ノルボルネン系ポリマーは、式で表されるものを主とするものであることが好ましい。


［式中、Ｒは、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ａは、０〜３の整数を表し、ｂは、１〜３の整数を表し、ｐ／ｑが２０以下である。］ （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れるとともに吸水性が低く、また材料コストが低く抑えられる光導波路および光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体９は、コア部９４と、該コア部９４より屈折率が低いクラッド部９５とを備えるコア層９３と、該コア層９３の両面に接触して設けられ、前記コア部９３より屈折率の低いクラッド層９１、９２とを有する光導波路９０と、光導波路９０の両面に設けられた導体層９０１、９０２とを有し、前記クラッド層９１、９２は、ノルボルネン系ポリマーを主材料として構成されている。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れるとともに吸水性が低く、また材料コストが低く抑えられる光導波路および光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体９は、コア部９４と、該コア部９４より屈折率が低いクラッド部９５とを備えるコア層９３と、該コア層９３の両面に接触して設けられ、コア部９３より屈折率の低いクラッド層９１、９２とを有する光導波路９０と、光導波路９０の両面に設けられた導体層９０１、９０２とを有し、クラッド層９１、９２は、ノルボルネン系ポリマーを主材料として構成されている。 （もっと読む）