【課題】優れたマスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）を有するパターンを形成することができる化合物及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物及びこの化合物に由来する構造単位を有する重合体。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２及びＲ^３は、互いに独立に、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基又はシアノ基で置換されていてもよく、Ｒ^２およびＲ^３は互いに結合してこれらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】高屈折性、高アッベ数、高耐熱性、高光線透過率、低吸水性を有する樹脂材料を提供すること。
【解決手段】脂肪族多環構造を有する繰り返し単位を含むポリマーであって、前記繰り返し単位内において主鎖を構成する原子から酸素１原子または硫黄１原子を介して前記脂肪族多環構造が結合しており、かつ、前記繰り返し単位がスルホニル基を環骨格の構成基として含む脂肪族環を有していることを特徴とするポリマー。 （もっと読む）

【課題】 紙及び板紙の製紙工程において、地合い性を損なうことなく、歩留の向上や生産性の向上ができる製紙用薬剤並びにそれを用いた抄紙方法を提供することを課題とする。
【解決手段】抄紙前の製紙原料において、最後のスクリーンを通過した主製紙原料流の一部をバイパス流とし、該バイパス流を更に２つあるいは３つに分流し、これら分流と製紙薬剤を一つあるいは二つの混合手段により混合し、前記主製紙原料流に還流することにより、製紙薬剤を添加、混合する抄紙方法において、前記製紙薬剤はビニル系単量体あるいはビニル系単量体混合物を乳化重合することにより得た０．２％水溶液粘度が３００ｍＰa・ｓ以下のビニル重合系水溶性カチオン性或いは両性重合体の油中水型エマルジョンが、該抄紙方法に適合する製紙薬剤であり、上記課題を解決することができる。
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【課題】
従来の吸収性樹脂では、高濃度塩水及び海水に対する吸収性能において必ずしも満足し得ない。本発明は耐塩性（高濃度塩水、２価以上のイオンを含む塩水、ゲルの耐熱性等）に優れた吸収性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
スルホン酸基を有する水溶性ビニルモノマー（ａ１）及びアルカリ性で加水分解しない非加水分解性内部架橋剤（ｂ）を必須構成単位とする架橋重合体（Ａ）を含んでなる吸収性樹脂であって、（ａ１）のスルホン酸基（ｄ）含有量が（ａ１）の重量を基準として４５〜７５重量％である吸収性樹脂（Ｃ）を用いる。 （もっと読む）

【課題】重合前は低粘度の液状であり、且つ、熱又は光ラジカル開始剤を用いて重合させた場合に体積収縮が小さい化合物であり、さらに低屈折率であるなど光学特性にも優れた化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）で表されるビニルシクロプロパン化合物及び該ビニルシクロプロパン化合物及びそれから得られる重合物及び共重合物、並びにビニルシクロプロパン化合物を用いた光重合方法。


（式（１）中、Ｘ及びＹは互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれＣ（＝Ｏ）Ｒ¹、Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ¹、ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ¹、Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ¹、ＳＣ（＝Ｏ）Ｒ¹、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ¹Ｒ²、ＳＯ₂Ｒ¹又はＲ¹を表し、Ｒ¹は非置換の、又は、炭素原子数１乃至１２の直鎖アルキル基、炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基、炭素原子数１乃至１２のアルコキシ基、炭素原子数１乃至１２のアシル基、炭素原子数１乃至１２のアシルオキシ基及びヒドロキシ基からなる群から選択される置換基によって置換された炭素原子数３乃至１８のシクロアルキル基を表し、Ｒ²は水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。） （もっと読む）

【課題】イオン交換樹脂用のモノマー、および、該モノマーから得られるイオン交換ポリマーに関するものであり、特に、フューエルセル、アルカリクロリドプロセスのような電気化学用途、並びに、有機化学における不均一触媒のような膜に結合したアニオン中心の解離に関連したカチオンイオン交換樹脂を提供する。
【解決手段】一般式〔Ｔ−ＳＯ2−Ｙ−ＳＯ2Ｔ’〕-Ｍ+（式中、ＴおよびＴ’は同一であるかまたは異なり、不飽和基または開環可能な環のような重合活性官能基を少なくとも１つ有する有機基、Ｍ+はカチオン、ＹはＮまたはＣＱ、ＱはＨ、ＣＮ、Ｆ、ＳＯ2Ｒ3、Ｃ1-20アルキル、Ｃ1-20アリール、Ｃ1-20アルキレン、置換基は１以上のハロゲン、そして、鎖は１以上の置換基Ｆ、ＳＯ2Ｒ、アザ、オキサ、チアまたはジオキサチアを含み、そして、Ｒ3は特定の置換基）の二官能性モノマー、およびこれから誘導されるポリマー。 （もっと読む）

【課題】 工業的に安価で簡便な新規なトリチオカーボネート化合物の製法を提供すること。
【解決方法】 一般式（１）で表されるトリチオカーボネート化合物とする。式（１）中、Ｒが、置換基を有していてもよく、その炭素鎖中にヘテロ原子又は環構造を含有していてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。ジチオールを塩基性条件下で二硫化炭素と反応させたのち、アリルハイラドと反応させることにより、一般式（１）で表されるトリチオカーボネート化合物を製造することができる。
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【課題】比誘電率の低い層間絶縁膜を構成する硬化パターンの形成に好適なネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法及びこの硬化パターン形成方法により得られた硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、［Ａ］シラノール基を有するポリシロキサン、［Ｂ］下記一般式（１）で表される構造単位を有し、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００である重合体、及び、［Ｃ］溶剤を含有する。
【化１】
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本発明は、回転式ふるい機を用いての分級方法を含む、吸水性ポリマー粒子を製造する方法に関し、この際、分級のために使用される回転式ふるい機は、少なくとも１個のボールノック式クリーナーを備えており、かつ回転式ふるい機の外に連行されたボールを捕捉装置によって分離する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ｐ１）を含むレジスト保護膜材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。Ｒ^2a及びＲ^2bは水素原子、又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であり、Ｒ^2aとＲ^2bは互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成することもできる。Ｒ³は単結合、又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基である。Ｒ⁴は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基であり、−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−を含んでもよい。）
【効果】上記レジスト保護膜材料はヘキサフルオロアルコールの水酸基が保護された構造を含み、波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有する。 （もっと読む）