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国際特許分類[C08F28/02]の内容

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【課題】露光の際、効果的に反射を防止し、さらに段差基板上に塗布される際にも表面が平滑な膜を形成できるとともに、上層に塗布されるレジストとのインターミキシングが抑制され、さらに、露光部がアルカリ現像液により容易に除去可能な下層膜用重合体を提供する。
【解決手段】下層膜用重合体は、2以上のポリマー鎖が酸の作用により切断可能な官能基を含む連結基で結合されており、且つ吸光性基を有する繰り返し構造単位を少なくとも1種含有する架橋ポリマーからなる。この下層膜用重合体において、酸の作用により切断可能な官能基はアセタール構造を有しているのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】100℃以上の温度領域、かつ無加湿条件で運転される燃料電池に用いられる電解質膜、膜電極接合体、およびこの電解質膜の製造方法において、電解質膜に欠陥が存在する場合でも、急激な電池性能の低下を防止することができる技術を提供する。
【解決手段】重合可能な官能基とプロトン解離性を有する官能基とを含むモノマーが重合して得られるポリマーをその構造中に含んだ高分子膜が、2つ以上積層されたことを特徴とする電解質膜を燃料電池用の電解質膜として用いる。 (もっと読む)


【課題】高分子電解質膜等として好適なプロトン伝導性ポリマー膜。
【解決手段】A)ビニル含有スルホン酸を、1以上の芳香族ポリカルボン酸、そのエステル、その酸ハライドまたはその酸無水物および1以上の芳香族テトラアミノ化合物と混合するか、または
ビニル含有スルホン酸を、1以上の芳香族および/またはヘテロ芳香族ジアミノカルボン酸、そのエステル、その酸ハライドまたはその酸無水物と混合し、
B)工程A)により得られる混合物を、不活性ガス下で、350℃までの温度に加熱して、ポリアゾールポリマーを形成し、
C)工程A)および/またはB)による混合物を用いて、支持体に層を塗布し、
D)工程C)により得られるシート状構造体に存在するビニル含有スルホン酸をラジカル重合する工程を含む方法によって得られるスルホン酸基含有ポリマーを含む電導率が少なくとも0.001S/cmのプロトン伝導性ポリマー膜。 (もっと読む)


【課題】高分子量のビニルスルホン酸重合体を短時間で製造する方法を提供すること。
【解決手段】一般式R-C(=O)-NR1R2(Rは水素原子又は低級アルキル基を表す。R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を表す)で表されるアミド化合物の存在下にビニルスルホン酸を光重合させるビニルスルホン酸単独重合体の製造方法であって、前記アミド化合物の量が、ビニルスルホン酸1モルに対し0.4モル以上2.5モル以下である方法。 (もっと読む)


【課題】 抄紙機のプレスパートにおいて湿紙が直接接触するプレスロールからの湿紙の剥離性を向上させるための湿紙剥離性改善剤およびこれを用いた湿紙の剥離性改善方法を提供する。
【解決手段】 不飽和カルボン酸および不飽和スルホン酸のうち少なくとも一方のアニオン性単量体を含む単量体成分を重合して得られるアニオン性重合体またはそのアルカリ塩を含有する湿紙剥離性改善剤を、抄紙機のプレスパートにおける湿紙が直接接触するプレスロール(プレンロール11、12)に適用する。 (もっと読む)


有機発光ダイオード(OLED)装置は、平面パネル表示(FPD)適用について、液晶表示(LCD)の最も有望な代替物の1つである。OLED技術は、ホールもしくは電子の輸送材料としてまたはエミッタとしてのいずれかで使用される有機半導体に基づく。OLED調製物における性能および寿命の共通の問題に対する研究により、改善された電荷輸送分子、ならびにトリアリールアミン‐およびポリ(パラ‐フェニレン)‐のような、ポリマーが開発された。このような有用な材料としては:(1)増強されたガラス転移温度を保有する環状トリアリールアミン‐誘導体;(2)低分子量のホール‐輸送分子および溶液からの取り出しおよびその後の架橋をプロセスするためのペンダントオキセタン基を伴うホール‐輸送ポリマーに基づくトリアリールアミン;ならびに(3)規定される電子化学特性を伴うフルオレニル基で区分されるポリ(パラ‐フェニレン)が挙げられる。OLEDおよび他の有機電子装置におけるホール輸送ポリマーとして有用であるポリマー前駆体が提供される。 (もっと読む)


【課題】ポリマー粒子作製後に所望の色に発色することができ、発色後は色素の溶出がない発色性ポリマー粒子を提供する。
【解決手段】発色性ポリマー粒子とカップリング可能な化合物とのカップリング反応により発色する部位を有する発色性ポリマー粒子において、発色する部位が、下記一般式(1)で表される構造の残基を有することを特徴とする発色性ポリマー粒子。
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本発明は、水不溶性である安定化コロイドで安定化された水性分散物を製造する方法に関する。この方法は、最初の工程において水中で水不溶性の安定化コロイドを製造する。該安定化コロイドの製造は、a1) 場合によってプロトン化されていてもよい、少なくともひとつのスルフェート基及び/又はスルホネート基を含む、少なくともひとつのオレフィン系不飽和モノマー、a2) 20℃での水への溶解度が50g/lより小さい、少なくともひとつのオレフィン系不飽和モノマー、及びa3) 約50重量%までの、20℃での水への溶解度が50g/lより大きい、少なくともひとつのオレフィン系不飽和モノマーのラジカル重合を水中で行ない、次いで、b) 少なくともひとつの他のオレフィン系不飽和モノマー及び少なくともひとつの開始剤を加えることによりなされる。該追加のオレフィン系不飽和モノマーのラジカル重合により水性分散物を得る。その際、c) 場合によっては、残存モノマーの減少を、残存モノマーの重合により、及び/又は水蒸気及び/又はガスを導入して残存モノマー及び場合によっては他の揮発性有機成分を物理的に除去することにより行う。 この方法により得られる分散物は乾燥することにより水に再分散可能なポリマー粉末に変換することができる。本発明は、水不溶性の安定化コロイドの、分散物及び水に再分散可能なポリマー粉末への使用にも関する。 (もっと読む)


【課題】通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光においても、露光−PEB間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および(D)溶剤を含有するレジスト組成物であって、樹脂(C)の分子量分散度が1.3以下、かつ重量平均分子量が1.0×10以下であることを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】環境に与える影響が小さく、高い撥水性を有する保護膜を用いて、ホトレジスト膜とのミキシングが生じにくく高解像のホトレジストパターンを形成可能なホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】液浸露光プロセスを用いたホトレジストパターンの形成方法であって、(1)基板上にホトレジスト膜を設ける工程と、(2)このホトレジスト膜上に、保護膜形成用材料を用いて保護膜を形成する工程と、(3)前記基板の少なくとも前記保護膜上に液浸露光用液体を配置し、この液浸露光用液体及び前記保護膜を介して、前記ホトレジスト膜を選択的に露光する工程と、(4)極性有機溶剤を含有する保護膜洗浄除去液を用いて前記保護膜を除去する工程と、(5)アルカリ現像液を用いて前記ホトレジスト膜を現像処理する工程と、を有するホトレジストパターン形成方法、及びこのホトレジストパターン形成方法に用いる保護膜形成用材料並びに保護膜洗浄除去液。 (もっと読む)


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