【課題】 曲げ強さなどの力学的物性に優れた複合体、ならびにその製造方法を提供する。
【解決手段】 化合物（Ｉ）の加水分解縮合物とケイ素含有重合体とを含み、該加水分解縮合物と該ケイ素含有重合体との重量比が１：９９〜８５：１５の範囲である。化合物（Ｉ）は、ハロゲン原子およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも１つの原子団が結合した金属原子（Ｍ）を含む少なくとも１種類の化合物である。ケイ素含有重合体は、たとえば単量体（Ｅ）に由来する構造単位を含む。
【化９】


［式中、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵およびＲ²⁶は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子および水酸基から選ばれる１つの原子団（Ｇ）であり、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵およびＲ²⁶から選ばれる少なくとも１つの原子団は、アルコキシ基、ハロゲン原子または水酸基である。］ （もっと読む）

【課題】 臭気、残留溶剤量が少なく、架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体（Ａ）の重合に用いることができる溶媒を用いた製造方法の提供。
【解決手段】 架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体（Ａ）の製造方法であって、エチルアルコール系溶媒中で（メタ）アクリル酸エステル単量体を主成分とする単量体を重合せしめる重合体（Ａ）の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】プラズマ重合により、より低い誘電率の膜を製造する方法およびより低い誘電率の高分子膜を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物のガスを含む混合ガスを減圧下の反応室に供給する工程と、反応室内に形成されたプラズマ中を通過させることにより反応室内に設置された基板表面に前記ガスを吹き付けて、前記有機化合物を骨格に含む高分子膜を基板表面上に成長させる工程とを含む高分子膜の製造方法。該製造方法により得られる高分子膜。


（ＰＣＡは炭素原子数７以上のポリシクロ脂肪族炭化水素基。ＡＬＫは炭素原子数１〜１０の二価の脂肪族炭化水素基。ｍは１または２。ｎは０または１。Ｒ１およびＲ２は炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数２〜６のアルケニル基、炭素原子数２〜６のアルキニル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０のアリール基または炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基。） （もっと読む）

本発明は、主成分として式ＣＨ_２＝ＣＣＨ_３ＣＯＯ−Ｘ−Ｏ−ＣＯＣＣＨ_３＝ＣＨ_２［式中、Ｘは二官能性基を表す］のジメタクリラートとメルカプタンとから構成されたポリマーネットワークに関する。このジメタクリラート／調節剤−ネットワークは、その特性が、極めて短いポリメタクリラートブロックに基づき、主に基Ｘの特性により決定される材料である。基Ｘの種類に応じて、これは極めて柔軟で、フレキシブルか又は高硬質の、強靱の、耐溶剤性のネットワークである。 （もっと読む）

構造（Ｉ）のモノマーの重合により形成されたモノマー単位を有するポリマーとコポリマー（ここで、Ｒ¹はエチレン性不飽和の重合性基を含む部分構造であり、Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₃のアルキレン基であり、Ｒ³は、Ｃ₁〜₁₀の線状若しくは環状アルキル基、Ｃ₆〜₁₀の芳香族若しくは置換芳香族基、Ｃ₁〜₈のアルコキシメチル基、又はＣ₁〜₈のアルコキシエチル基である）は、感光性組成物のバインダー樹脂として、また、半導体デバイスや材料の製造におけるフォトリソグラフィープロセスに有用である。
【化１】

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