【課題】半導体デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、膜特性に優れた絶縁膜が形成可能な組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）〜（ＩＶ）表される化合物のうちの少なくともいずれかの重合物を含む組成物、該組成物を用いた膜製造方法、該方法で製造された膜、該を含む半導体デバイス。Ｒ_４Ｓｉ （Ｉ）Ｒ_３Ｓｉ-（Ｘ-ＳｉＲ_２）_ｍ-Ｘ-Ｓｉ-Ｒ_３ （II）＊ -（Ｘ-ＳｉＲ_２）_ｎ- ＊ （III）ｍ・ＲＳｉ(Ｏ_0.5)₃ （ＩＶ）（式（Ｉ）〜（ＩＶ）中、Ｒは非加水分解性基、Ｘは−Ｏ−等、ｍは０以上の整数、ｎは２〜１６の整数を表し、式（III）の＊同士は結合して環を形成し、式（ＩＶ）は、ｍ個のＲＳｉ(Ｏ_0.5)₃ユニットを有し、各ユニットが、各ユニットにおける酸素原子を共有して他のユニットに連結しカゴ構造を形成している化合物を表し、ｍは８〜１６の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】フッ素を有するシルセスキオキサンを含む重合体を提供し、この重合体を表面改質剤として利用すること、好ましくはマトリックス樹脂の表面改質剤として利用することである。
【解決手段】１つの付加重合性官能基を有するフルオロシルセスキオキサン（ａ）の付加重合体、または１つの付加重合性官能基を有するフルオロシルセスキオキサン（ａ）と、付加重合性単量体（ｂ）との付加共重合体、およびそれを含むコーティング膜、および、１つの付加重合性官能基を有するフルオロシルセスキオキサン（ａ）と、付加重合性官能基を有するオルガノポリシロキサン（ｃ）との付加共重合体、または、１つの付加重合性官能基を有するフルオロシルセスキオキサンと、付加重合性官能基を有するオルガノポリシロキサン（ｃ）と、付加重合性単量体（ｂ）との付加共重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および
（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】透明性、高表面硬度性、耐候性、耐薬品性、耐久性及び耐熱性に優れたフィルム積層体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス転移温度が７０℃以上２２０℃以下である透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に、光硬化性を有するかご型のシルセスキオキサン樹脂を含有した光硬化性樹脂組成物を塗布流延し、該光硬化性樹脂組成物を光硬化させて、波長５５０ｎｍでの光透過率が９０％以上であると共に、耐熱温度が２５０℃以上の樹脂層を形成し、かつ、該樹脂層と透明プラスチックフィルムとの厚みの比率（樹脂層の厚み÷透明プラスチックフィルムの厚み）を０．１以上及び５．０以下にしてフィルム積層体を得る。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、機械的強度、難燃性、密着性、及び電気特性（誘電特性）に優れ、絶縁基板用樹脂等の情報通信関連材料として適する熱硬化性樹脂組成物及び電子機器を提供する。
【解決手段】本発明は、籠状シルセスキオキサン基が共有結合した高分子（Ａ）と、熱硬化性樹脂（Ｂ）と、を少なくとも含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 光学的透明性が十分に高く、耐光性、耐熱性及び機械特性に優れる硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）エステル末端にシロキサン構造を含む置換基を有するモノ（メタ）アクリレートと、（Ｂ）ポリオルガノシロキサン骨格を有する多官能（メタ）アクリレートと、（Ｃ）非シリコーン系（メタ）アクリレートと、（Ｄ）ラジカル重合開始剤と、を含有する、硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リチウム塩の配合量を低減しても、優れた帯電防止性を有する硬化膜が得られる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）繰り返し単位としてアルキレンオキサイド単位及びジメチルシロキサン単位を含む重合体、又は繰り返し単位としてアルキレンオキサイド単位及びジフルオロメチン単位を含む重合体、（Ｂ）下記式（３ａ）又は（３ｂ）で示される化合物、（Ｃ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物、（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする硬化性組成物。ＬｉＣ_ｎ’Ｆ_{２ｎ’＋１}Ｘ （３ａ）Ｌｉ（Ｃ_ｎ’Ｆ_{２ｎ’＋１}Ｙ）_２Ｎ （３ｂ） （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも低屈折率で誘電率、ヤング率等の膜特性に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ｍ個のＲＳｉ(Ｏ_0.5)₃ユニット（ｍは８〜１６の整数を表し、Ｒはそれぞれ独立して非加水分解性基を表し、Ｒのうち、少なくとも２つはビニル基またはエチニル基を含む基である）を有し、各ユニットが、各ユニットにおける酸素原子を共有して他のユニットに連結しカゴ構造を形成している化合物（Ｉ）の重合物を含む組成物。
ただし、組成物に含まれる固形分のうち、化合物（Ｉ）のビニル基同士が反応した重合物が６０質量％以上である。 （もっと読む）

【課題】劣化しない防汚コーティングの製造に好適なポリオルガノシリル化カルボキシレートの単量体又は重合体の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アリール、アラルキルまたはハロゲン基等を表し、Ｒ^７は、水素、アルキル基または−ＣＯＯＲ^９（ここで、Ｒ^９はアルキル基を表す）を表し、Ｒ^８は、水素、アルキル基または−ＣＨ_２−ＣＯ_２−（ＳｉＲ^４Ｒ^５Ｏ）_ｎ−ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｒ^３を表し、そしてｎは、ジヒドロカルビルシロキサン単位の数３から２０を表す］で表されるポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体。 （もっと読む）

本発明は、硬化または架橋ポリシロキサンおよびフッ素化ポリマーまたはオリゴマーを含む汚れ剥離組成物に関する。本発明は、また、海水に沈められる物品への適用のための汚れ剥離塗料における該汚れ剥離組成物の使用に関する。 （もっと読む）