【課題】高いイオン伝導度と、高強度、低溶媒含有率を満足するリチウム二次電池用高分子電解質の提供。
【解決手段】少なくとも非水溶媒とイオン性高分子とを含有するリチウム二次電池用高分子電解質であって、該イオン性高分子が、下記式（１）：
−（ＣＦ_２−ＣＦＲｆ）−｛Ｒｆはフッ素原子又は炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基｝又は下記式（２）：−（ＣＨ_２−ＣＨＲｈ）−｛Ｒｈは水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素系アルキル基｝で表される繰り返し単位と、下記式（３）：−ＳＯ_２ＮＬｉＳＯ_２Ｒｇ｛Ｒｇはフッ素原子又は炭素数１〜８のフルオロアルキル基又はアルキル基｝で表されるスルホンイミド基を有する繰り返し単位とを含有する共重合体であり、かつ、該高分子電解質中の該イオン性高分子の含有量が、２５質量％以上９５質量％以下であることを特徴とする前記リチウム二次電池用高分子電解質。 （もっと読む）

【課題】リチウムイオン二次電池用固体電解質の構成材料として、優れたイオン伝導性に寄与するイオン性高分子の提供。
【解決手段】脂肪族炭化水素からなる繰り返し単位とスルホンイミド基を有する繰り返し単位とを含有するイオン性高分子であって、該スルホンイミド基を有する繰り返し単位中のスルホンイミド基は、下記式（１）：
−ＳＯ_２Ｎ（Ｍ）ＳＯ_２Ｒ^１ ・・・（１）
｛式中、Ｒ^１は、フッ素原子、炭素数１〜８のアルキル基、及びフルオロアルキル基から成る群から選ばれる基であり、そしてＭは、プロトン又はリチウムイオンである。｝で表されることを特徴とする前記イオン性高分子。 （もっと読む）

【課題】 ゴム材料に有用な加工性、耐摩耗性および低ロス性のバランスが改良されたポリブタジエンゴムおよびその製造方法、さらにポリブタジエンゴムを含んだ組成物に関する。
【解決手段】 ムーニー粘度（ＭＬ_１＋４，１００℃）が３０〜１２０、５％トルエン溶液粘度（Ｔｃｐ）とムーニー粘度の比が１．８〜６．０、ＧＰＣによるポリスチレン換算のｚ＋１平均分子量と数平均分子量の比が１０以上、流動パラフィンで３０ｗｔ％に希釈した溶液の粘弾性について損失弾性率が１００Ｐａの時の貯蔵弾性率が２０Ｐａ以上であって、且つ重合触媒がコバルト化合物及びＲ²_3-nＡｌＸ_n（式中、Ｒ²は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｘはハロゲンを示し、ｎは１〜２の数である。）で表されるハロゲン含有アルミニウム化合物及び水からなる触媒により重合されることを特徴とするポリブタジエンゴム。 （もっと読む）

【課題】 ゴム材料に有用な加工性、耐摩耗性および低ロス性のバランスが改良されたポリブタジエンゴムおよびその製造方法、さらにポリブタジエンゴムを含んだ組成物に関する。
【解決手段】 ムーニー粘度が３０〜１２０、５％トルエン溶液粘度（Ｔｃｐ）とムーニー粘度（ＭＬ_１＋４，１００℃）の比が１．８〜６．０、ＧＰＣによるポリスチレン換算のｚ＋１平均分子量と数平均分子量の比が１０以上、流動パラフィンで３０ｗｔ％に希釈した溶液の粘弾性について損失弾性率が１００Ｐａの時の貯蔵弾性率が２０Ｐａ以上であることを特徴とするポリブタジエンゴム。 （もっと読む）

【課題】内燃機関用潤滑油における無灰分散剤、駆動系潤滑油における摩擦調整剤などの用途に有用な新規なコハク酸イミド化合物、並びに該化合物を含有した潤滑油添加剤及び潤滑油組成物を提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表されるコハク酸イミド化合物。


［式（１）中、Ｒは数平均分子量５００以上５０００未満のアルキル基又はアルケニル基を示す。］ （もっと読む）

【課題】内燃機関用潤滑油における無灰分散剤、駆動系潤滑油における摩擦調整剤などの用途に有用な新規なコハク酸イミド化合物、並びに該化合物を含有した潤滑油添加剤及び潤滑油組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるコハク酸イミド化合物。


［式（１）中、Ｒは数平均分子量５００以上５０００未満のアルキル基又はアルケニル基を示す。］ （もっと読む）

【課題】本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
【解決手段】（Ａ）無機顔料、（Ｂ）分子内にリン酸基及びスルホン酸基の少なくとも一方を有し、酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇである分散樹脂、（Ｃ）重合開始剤、及び、（Ｄ）重合性化合物、を含有し、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に設けられ赤外光を遮光する遮光膜形成用の黒色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】希少金属や有害金属などの金属を効率よく吸着して回収する方法を提供すること。
【解決手段】ポリアリルアミンを二硫化炭素で架橋させて得られるチオウレア骨格を有するハイドロゲルを用いて希少金属や有害金属などの金属を吸着して回収する。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する樹脂と、式（Ｄ’）で表される化合物とを含有するレジスト組成物。［Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はＣ₁〜Ｃ₆ペルフルオロアルキル基を表す。ＵはＣ_１〜Ｃ_２０２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−等で置き換わっていてもよい。Ｘ^１は−Ｏ−ＣＯ−等を表す。Ａ^＋は有機対イオンを表す。Ｒ’^１〜Ｒ’^４は置換基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₂₀アルキル基、置換基を有していてもよいＣ₃〜Ｃ₃₀飽和環状炭化水素基又は置換基を有していてもよいＣ₂〜Ｃ₂₀アルケニル基を表す。Ａ’^１は置換基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₃₆炭化水素基を表し、該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。］
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