【課題】液浸リソグラフィ工程およびダマシン工程への適用できる反射防止膜用架橋重合体、これを含む反射防止膜用組成物、及びこれを利用したフォトレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】アクリレート及びアクロレインの共重合体をエタンチオールで変性して得られた（アクリレート／３，３ージチオエチルプロペン）高分子がイオウ元素を含む屈折率の高い反射防止膜用架橋剤重合体として優れていることを見いだした。さらに、反射防止膜用組成物に関するものであり、上記架橋重合体、光吸収用ベース樹脂、熱酸発生剤及び有機溶媒から構成される。該反射防止膜用組成物は半導体素子の製造工程中、特に１９３ｎｍＡｒＦ光源を利用した液浸リソグラフィ工程及びダマシン工程に非常に適切に用いられ得る。 （もっと読む）

【課題】リポポリマーのポリマーとして、分散度(Mw/Mn、Mwは重量平均分子量、Mnは数平均分子量を表す)が特定の範囲にあり、リポポリマーについて煩雑な工程を経ることなく製造することができ、又、リポポリマーの末端に位置する活性基を介して、このリポポリマーを構成分子として金基板上に構築する生体膜類似構造体の提供。
【解決手段】予め脂質を導入したＲＡＦＴ試薬を反応させた、末端に活性基としてチオール基（SH基）を有するピロリドン重合体又は2-ヒドロキシ-エチルアクリレート重合体と脂質からなることを特徴とするリポポリマー。 （もっと読む）

本発明は、ゴム変性モノビニリデン芳香族ポリマー組成物であり、該ゴムは、スルファニルシラン鎖末端変性弾性ポリマーである。本発明において、官能化ゴムは、標準的なグラフト重合プロセス技術において十分なグラフトレベルを与え、所望のゴム粒子サイズ分布および形態を与える。ゴム変性モノビニリデン芳香族ポリマーの範囲を通じ、本発明に係る変性弾性ポリマーの使用により、樹脂特性、特に明澄性、表面特性および物理特性（ゴム変性モノビニリデン芳香族ホモポリマー（例えば高衝撃ポリスチレンおよびコポリマー（例えばＡＢＳ））の両者を包含する）の組合せを改善できることを見出した。官能化ゴムは、スルファニル官能基を有し、これは最適な反応性グラフト部位を与える。これは、グラフト重合条件下でモノビニリデン芳香族ポリマーブロックが形成され、ブタジエンポリマーブロックにグラフトされることを確実にする。これは特に、ポリブタジエンホモポリマーゴム（これは、よりコスト効率よくゴム変性モノビニリデン芳香族ポリマーにおいて使用される）を使用可能にするために望ましい。 （もっと読む）

【課題】カーボンブラック配合において良好な加工性を有し、耐摩耗性、破壊特性、低ヒステリシスロス性、及びウエットスキッド特性が良好であり、これらがバランスよく改良された低燃費用タイヤなどを製造することが可能なゴム組成物に含まれる変性共役ジオレフィン共重合ゴムの製造方法を提供する。
【解決手段】所定の共役ジオレフィン共重合ゴムを得、得られた共役ジオレフィン共重合ゴムに、所定の成分を段階的に（２段階で）変性反応させる変性共役ジオレフィン共重合ゴムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高感度で、経時保存した後においても、現像液への溶出性および感度が低下しない、側鎖に複素環を含む連結基を介してビニル基が置換したフェニル基を有する重合体およびこれを含んでなる感光性組成物を提供する。また、高感度であり経時保存した後においても耐刷性と現像液への溶出性が低下しない平版印刷版を提供する。
【解決手段】側鎖に複素環を含む連結基を介してビニル基が置換したフェニル基を有する重合体であって、複素環を有さないモノマーを重合させた後に、複素環を有する基とビニル基を置換基として有する芳香族化合物を付加させることを特徴とする重合体。 （もっと読む）

本発明は、２つのポリマー鎖をカップリングして、末端基が官能化されたポリマーにすること、同時にポリマー溶液から遷移金属を沈殿させること並びにポリマー鎖末端のハロゲン原子を除去することに関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、環状ジスルフィド結合を１分子内に２個含む新規架橋剤、この架橋剤を含み耐熱性と耐疲労性の優れたゴム組成物、およびこのゴム組成物を用いて製造した耐熱性と耐疲労性の優れたタイヤに関する。
【解決手段】
式（１）：
Ｘ−Ｒ¹−Ｙ （１）
（式中、Ｒ¹はヘテロ原子を含んでいてもよい２価の炭素数１〜１００００の炭化水素基；ＸおよびＹは同じかまたは異なり、いずれも式（２）：


で表わされる炭素数１〜１０の１価の３〜１２員環残基である）で表わされる架橋剤。 （もっと読む）

一般式（Ｉ）または（ＩＩ）（式中、Ｒ_１およびＲ_２がそれぞれ、アルキレン基、置換アルキレン基、芳香族基またはポリエーテル基等である）で表されるチオール修飾高分子誘導体、ならびにジスルフィド結合架橋材料およびチオール反応性架橋剤で架橋された材料を開示する。Ｒ_１およびＲ_２は、同一または異なる化学構造を有し、Ｐは、側鎖カルボキシル基を有する高分子の残基である。チオール修飾高分子誘導体は、分子量１０００〜５，０００，０００を有する。本発明の一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表されるチオール修飾高分子誘導体は、フレキシブルな化学構造の側鎖および調節可能な特性を有し、かつ穏やかな反応条件、高い製造歩留まり、高い修飾度、および制御可能な修飾度等の多くの利点を有する。本発明のチオール修飾高分子誘導体から製造される架橋材料は、細胞の付着を防ぐため使用することができ、かつ細胞増殖の基質として使用することができる。
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【課題】 金属超微粒子が均一分散したビニル系熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アミノ基含有化合物、カルボキシル基含有化合物、ヒドロキシル基含有化合物、アミド基含有化合物、スルホン酸基含有化合物、スルフィン酸基含有化合物、ホスホン酸基含有化合物、およびホスフィン酸基含有化合物からなる群より選ばれる２種以上の有機低分子化合物によって表面修飾された金属超微粒子と、（Ｂ）メルカプト基を末端に有するビニル系熱可塑性樹脂とを必須成分とした超微粒子含有熱可塑性樹脂組成物を作成する。 （もっと読む）

本発明は、原子移動ラジカル重合によって製造したポリマー鎖のヒドロキシル末端基によるｉｎ ｓｉｔｕ官能化と、それと同時に行われるポリマー溶液からの遷移金属の除去とに関する。 （もっと読む）