本発明は、（ａ）少なくとも１種のヒドロキシル基含有化合物（Ａ）と、（ｂ）遊離イソシアネート基及び／又はブロック化イソシアネート基を有する少なくとも１種の化合物（Ｂ）と、（ｃ）シラン基の架橋のための少なくとも１種のホスフェート含有触媒（Ｃ）と、（ｄ）少なくとも１種の更なる触媒（Ｄ）とを含有する被覆剤であって、被覆剤の１種又は１種より多い成分が加水分解性シラン基を含有し、前記触媒（Ｄ）が二環式アミンであることを特徴とする被覆剤に関する。 （もっと読む）

【課題】防汚性、防曇性に優れ、良好な耐摩耗性を有する親水膜を形成するのに用いられる親水性組成物を提供すること。また、該親水性組成物により形成された親水膜を備えた、防汚性、防曇性及びその耐摩耗性に優れた表面を有する親水性部材を提供すること。
【解決手段】（Ａ）（Ａ１）主鎖にウレタン構造の繰り返し単位、（Ａ２）加水分解性シリル基、（Ａ３）親水性基を有する親水性ポリマーを含有する親水性組成物であって、該親水性ポリマーは、ポリマーを構成する全繰り返し単位に対する親水性基を有する繰り返し単位の含有量が５０モル％以上であることを特徴とする親水性組成物。 （もっと読む）

本発明は、新規のポリ尿素および／またはポリウレタンのポリ有機シロキサン化合物、その生成方法、その使用、新規の一成分系または二成分系およびそれによる硬化組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点によって阻害されない新規なシラン基含有ポリイソシアネートを提供する。
【解決手段】Ａ）アミノシランと環状カーボネートおよび／またはラクトンとの反応から得ることができるシラン基含有ヒドロキシウレタンおよび／またはヒドロキシアミドの少なくとも１種と、Ｂ）Ａ）のＮＣＯ反応性基に基づいてモル過剰量の、脂肪族的、脂環式的、芳香脂肪族的および／または芳香族的結合イソシアネート基含有ジイソシアネートの少なくとも１種とを反応させ、任意に、その後に未反応過剰ジイソシアネートを除去することによって得られる、アロファネート基含有ポリイソシアネート。 （もっと読む）

【課題】放射線で反応速度を調節でき、かつ架橋密度の調節も容易でフィルム設計裕度が向上する半導体用接着部材、半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 粘接着剤層と基材層を備える接着部材であって、前記粘接着剤層が、（Ａ）エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂硬化剤、（Ｂ）官能基を有する重量平均分子量が１０万以上であるポリマー、（Ｃ）プロトン供与性化合物、（Ｄ）光酸発生剤及び（Ｅ）放射線重合性化合物を含むことを特徴とする半導体用接着部材。 （もっと読む）

【課題】 良好な貯蔵安定性を有し、反発弾性と機械物性が共に良好である軟質ポリウレタンフォームを提供する。
【解決手段】 下記に示す条件にて、ピュアＭＤＩ（イ）に当量以下のポリオール（ロ）をウレタン化反応させ、その後ポリメリックＭＤＩ（ハ）を混合して得られる軟質ポリウレタンフォーム用ポリイソシアネート組成物により解決する。
（２，２′−ＭＤＩ＋２，４′−ＭＤＩ）／ＭＤＩ＝６０〜８５質量％
ＭＤＩ／（（イ）＋（ハ））＝５０〜９０質量％
ただし、（ロ）は、数平均分子量７００〜１０，０００、平均官能基数２〜８、繰り返し単位におけるオキシエチレン基が１０〜４０％であるポリエーテルポリオールである。 （もっと読む）

【課題】彫刻感度が高く、低レーザーエネルギーで効率的に彫刻が可能であるとともに、解像度が良好なパターン形成材料を提供すること。
【解決手段】支持体上に、−Ｃ（Ｒ¹）＝Ｎ−Ｏ−で表される部位（Ｒ^１は水素原子または１価の有機基を表す）を少なくとも１つ分子中に有するポリマーを含有する層を設けたパターン形成材料。 （もっと読む）

【課題】
高屈折率樹脂の材料となる新規な１，３，５−トリチアン骨格を有するポリイソシアナート化合物を供給すること
【解決手段】
式（１）


（式中、ｎは０から３の整数を示す。）で示されるポリイソシアナート化合物。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）少なくとも１種のヒドロキシル基含有化合物（Ａ）、（ｂ）少なくとも１種のイソシアネート基含有化合物（Ｂ）、（ｃ）シラン基の架橋結合のための少なくとも１種の触媒（Ｄ）を含有する被覆剤（この際、（ｉ）被覆剤の１種以上の成分は、加水分解可能なシラン基を含有し、かつ（ｉｉ）被覆剤は、統計的に分配されたＳｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造の領域を有する被膜に最終硬化され得る）に関し、この被覆剤は、１種以上の触媒（Ｄ）が燐を含有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】水分散性に優れ、かつ高い架橋性、高い塗膜硬度を発現する水性ポリイソシアネート組成物、及びこれを硬化剤とした水性塗料組成物の提供。
【解決手段】
ポリイソシアネートが下記構造式（１）で示され、１）イソシアネー基の平均数（ｎ_M）が２．３〜３．２、イソシアネー基の平均数（ｎ_M）と親水基平均数（ｍ_M）とがｍ_M／（ｍ_M＋ｎ_M）＝０．０２〜０．４０、２）イソシアネート基濃度が１０〜２４質量％、３）イソシアヌレート３量体濃度：６０質量％〜９５質量％で、ウレトジオン２量体濃度；２〜２５質量％、４）２５℃における粘度が２００〜１０００ｍＰａ・ｓである水性ポリイソシアネート組成物。
（Ａ）_ｍ−Ｒ−（ＮＣＯ）_ｎ （但し、Ａ：親水基、ｍ：親水基数、ｎ：イソシアネート基数、Ｒ：脂肪族ジイソシアネート及び／または脂環族ジイソシネートの少なくとも１種以上から誘導されるポリイソシアネートのイソシアネート基を除く残基） （もっと読む）