【課題】（１）多孔質及び／又は内部に空隙を有する無機酸化物微粒子（Ａ）の存在下に、
（２）下記ビスシラン化合物（Ｂ）を含む有機ケイ素化合物を加水分解・縮合させることにより得られる、（１）成分と（２）成分の加水分解・縮合物が一体化した複合樹脂。
Ｘ_nＲ_3-nＳｉ−Ｙ−ＳｉＲ_3-nＸ_n （Ｂ）
（式中、Ｙはフッ素原子で置換されてもよい２価の有機基又は芳香環を含んでもよい２価の有機基であり、Ｒは１価の有機基であり、ＸはＯＨ基又は加水分解性基であり、ｎ＝１、２又は３である。）
【解決手段】本発明の複合樹脂は、多孔質及び／又は内部に空隙を有する無機酸化物微粒子を含有するため、樹脂中に空隙を有する。屈折率が最も低い空気を含むため、硬化物或いは硬化被膜とすると、屈折率を低くすることができる。 （もっと読む）

【課題】膜中の非架橋部位が低減されて十分に低い誘電率を呈する膜を形成できる有機無機複合体、その有機無機複合体からなる膜、及びその膜を用いた半導体装置の各製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による有機無機複合体の製造方法は、第一調製工程で調製した特定の架橋性化合物を含む前駆体Ａと、第二調製工程で調整した酸触媒を含む前駆体Ｂとを混合工程で混合して、特定の架橋性化合物を加水分解させた後、複合体形成工程において、その加水分解物にアルカリ触媒を加え、その加水分解物を縮合させて有機無機複合体を形成する方法である。 （もっと読む）

【課題】 特に短波長領域（青色域及び紫外域）における発光輝度が高い電界発光素子を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）：
【化１】


［式中、Ｘは蛍光又は燐光を示す有機分子を示し、Ｒ^１は低級アルコキシ基、ヒドロキシル基、アリル基、エステル基及びハロゲン原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、Ｒ^２は低級アルキル基及び水素原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、ｎは１〜３の整数を示し、ｍは１〜４の整数を示す。］
で表される有機ケイ素化合物の重合体からなる発光材料を含有する発光層と、前記発光層に電圧を印加するための陽極及び陰極とを備えることを特徴とする電界発光素子。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも、誘電率特性、膜強度、ＣＭＰ耐性に優れた膜を形成できる膜形成用組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供する。
【解決手段】 特定の環状シラン化合物およびシリコン系界面活性剤を含むことを特徴とする膜形成用組成物、該組成物を用いた絶縁膜の製造方法、および、該絶縁膜。 （もっと読む）

シリコーン系液晶またはベシクルが、まず、（Ａ）三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン；および、（Ｂ）モノ−アルケニルポリエーテルを、白金触媒の存在下、ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）が形成されるまで反応させる。ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）を、ついで、（Ｄ）不飽和炭化水素、たとえば、α，ω−ジエン；および、（Ｅ）水を、白金触媒の存在下、シリコーン系液晶またはベシクルが形成されるまで反応させる。シリコーン系液晶またはベシクルはまた、硬質な液晶ゲルまたはベシクルペーストが形成されるまで、加熱することも可能である。 （もっと読む）

【課題】 均一に塗膜形成可能な組成物、良好な面状を有し、低誘電率である絶縁膜および該絶縁膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式（１）により表される化合物、その加水分解物、及び／または、それらの縮合物、及び、溶媒を含有し、全溶媒中、沸点が８５℃〜２５０℃の有機溶剤が２５質量％以上占めることを特徴とする絶縁膜形成用組成物、該組成物を用いた絶縁膜の製造方法及び該絶縁膜。
【化１】


式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は、各々独立に、水素原子または置換基である。ただし、Ｒ₁及びＲ₂のうち少なくとも１つは加水分解性基を表す。Ｘ₁は炭素原子またはケイ素原子を表す。Ｌ₁は２価の連結基を表す。ｍは０または１を表し、ｍが０の場合ｎは３〜５の整数を表し、ｍが１の場合ｎは２〜３の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】 透明性、耐ＵＶ性に優れ、しかも、耐熱着色性に優れた光素子封止用樹脂組成物を提供する。
【解決の手段】 （Ｒ１−ＳｉＯ_３／２）_ａ−ｎ（Ｘ１−ＳｉＯ_３／２）_ｎ （Ｉ）
（Ｒ１は、炭素−炭素不飽和結合を含有する炭化水素基又はシリルオキシ基。Ｘ１は、Ｈ−Ｓｉ結合及び炭素−炭素不飽和結合を含有しない１価の有機基。ａは、６〜１４の偶数、ｎはａより小さい正の整数。）で表される炭素−炭素不飽和結合を含有する籠型構造体の液状のシルセスキオキサン（Ａ）と
（Ｒ２−ＳｉＯ_３／２）_ａ−ｎ（Ｘ２−ＳｉＯ_３／２）_ｎ （ＩＩ）
（Ｒ２は、水素原子を表すか又はＨ−Ｓｉ結合を含有する１価の有機基を表す。Ｘ２は、Ｈ−Ｓｉ結合及び炭素−炭素不飽和結合を含有しない１価の有機基。ａ及びｎは上記に同じ。）で表されるＨ−Ｓｉ結合を含有する籠型構造体の液状のシルセスキオキサン（Ｂ）とを樹脂成分として含有する光素子封止用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 耐エッチング性、耐薬品性、及び耐湿性に優れ、密着性が良好であり、しかも誘電率の低いシリカ系被膜、該シリカ系被膜の形成に好適なシリカ系被膜形成用材料等の提供。
【解決手段】 本発明のシリカ系被膜形成用材料は、ＣＨｘ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合、Ｓｉ−ＣＨ_３結合、及びＳｉ−ＣＨｘ−結合を構造の一部に有するシリコーンポリマーを含む。ｘは、０〜２の整数を表す。シリコーンポリマーが一般式（１）〜（３）で表されるシリコン化合物と、一般式（４）〜（７）で表されるシリコン化合物とを加水分解縮重合反応させて得られる態様等が好ましい。
【化１３】


【化１４】


一般式（１）〜（７）中、ｎは０又は１を表す。Ｒ^１はｎ＝０のとき、塩素、臭素、フッ素及び水素のいずれかを表し、ｎ＝１のとき、炭素数１〜４の炭化水素、芳香族炭化水素、水素、カルボキシル基のいずれかを表す。Ｒ^２は炭素数１〜４の炭化水素、芳香族炭化水素、及び水素のいずれかを表す。Ｒ^３は炭素数１〜３の炭化水素及び芳香族炭化水素のいずれかを表す。 （もっと読む）

【課題】実質的な硬化性低下を伴なうことなく、硬化物の非着色性を改善できる硬化性組成物を提供する
【解決手段】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物（Ａ）、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物（Ｂ）、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）含有する硬化性組成物に、特定の亜リン酸系化合物（Ｄ）を含有させる。 （もっと読む）

【課題】 表示コントラストが高くかつ応答速度の速い液晶組成物、該液晶組成物を含む液晶素子、該液晶組成物に好適なシロキサンポリマー架橋体を提供すること。
【解決手段】 側鎖に液晶性基を有する高分子架橋体と低分子液晶の混合物に、二色性色素を溶解した液晶組成物であり、好適には、前記高分子架橋体が、側鎖に液晶性基を有するシロキサンポリマー架橋体の場合であり、印加電圧の周波数を大きくすることで該液晶組成物の誘電率異方性が正から負に変わる。更に、該液晶組成物を含有する液晶素子、並びに該液晶組成物に好適なシロキサンポリマー架橋体である。 （もっと読む）