【課題】半導体素子等の絶縁膜材料として、ＰＣＴ後の誘電特性、ＰＣＴ後のＣＭＰ耐性、ＰＣＴ後の基板との密着性に優れた膜が形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】組成物は、（Ａ）下記式（１）、（２）中の少なくとも１種の化合物を水酸化テトラアルキルアンモニウムと水で加水分解、縮合した慣性半径が５〜５０ｎｍの物 Ｒ_ａＳｉ（ＯＲ^１）_４−ａ ・・・・・（１） （式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ^１は１価の有機基、ａは０〜２の整数を示す。） Ｒ^３_ｂ（Ｒ^４Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^７）_ｄ−Ｓｉ（Ｏ^５）_３−ｃＲ^６_ｃ ・・（２） 〔式中、Ｒ^３〜Ｒ^６は同一または異なり、それぞれ１価の有機基、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜２の数を示し、Ｒ^７は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｎ−で表される基（ここで、ｎは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕ならびに（Ｂ）有機溶媒を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＨ基を有するポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせずに、ゲル化することなく、低粘度の、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 １分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する有機化合物と、１分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する環状ポリオルガノシロキサンを、ヒドロシリル化反応することによって得られるＳｉＨ基含有化合物を含む硬化性組成物を硬化した成形体は、耐熱クラック性及び耐熱耐光性が不十分な場合がある。
【解決手段】 １分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する環状ポリオルガノシロキサン（β１）と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物（α１）を、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させた後に、未反応の（β１）を除去し、さらに得られた反応物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する有機化合物（α２）を、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させることにより得られる、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物（Ｂ）を用いる。 （もっと読む）

本発明は反応性の官能基を含んでなるアミノ及び／又はアンモニウム−ポリシロキサン化合物及び前記化合物の塩、特にポリ第四級ポリシロキサンコポリマー及びそれらからの塩に関する。本発明は更に、それらの製法、天然又は合成繊維又は繊維−様基材のような基材の表面処理のための、特に洗浄抵抗性親水性柔軟剤としてのそれらの使用に関する。本発明は更に化粧品調合物及び反応性アミノ−及び／又はアンモニウム−ポリシロキサン化合物及びそれらの塩を含む調合物中へのそれらの使用に関する。 （もっと読む）

エラストマーと充填剤とを結合するための１種以上のシランカップリング剤を含む組成物であって、前記シランが１以上の加水分解性基を含み、該加水分解性基が前記シランを前記エラストマー及び充填剤と共に配合することにより放出されて、配合組成物の下流における加工性又は最終ゴム製品の特性或いはその両方を改良する配合物を生ずる組成物が開示されている。 （もっと読む）

１５０℃以上の高温で使用するＳｉＣなどのワイドギャップ半導体装置において、ワイドギャップ半導体素子の絶縁性を改善し、高耐電圧のワイドギャップ半導体装置を得るために、ワイドギャップ半導体素子の外面を合成高分子化合物で被覆する前記合成高分子化合物は、シロキサン（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合体）による橋かけ構造を有する１種以上の有機珪素ポリマーＡと、シロキサンによる線状連結構造を有する１種以上の有機珪素ポリマーＢとをシロキサン結合により連結させた有機珪素ポリマーＣ同士を、付加反応により生成される共有結合で連結させて三次元の立体構造に形成している。
（もっと読む）

【課題】優れた耐湿性及び高い接着性を有しかつ熱による着色が少ない実用性の高い光学材料用組成物、それを硬化してなる光学材料、その製造方法、並びに、それを用いた液晶表示装置及びＬＥＤを提供すること。
【解決手段】（Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、（Ｄ）１分子中に少なくとも１個のエポキシ基を含有する化合物、及び、（Ｅ）１分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を含有する化合物を含有する光学材料用組成物。 （もっと読む）

【課題】厚膜でも全くクラックが入らず、さらに耐候性に優れた平坦化膜用塗布液および該塗布液を用いて形成される平坦化膜を提供する。
【解決手段】下記式（１）に示すシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体及び溶剤を含有する平坦化膜用塗布液を用いて平坦化膜を作製する。
【化１】


式（１）におけるすべてのＲは非置換のフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、又はｔ−ブチルであり、Ｙ¹は式（ａ−１）、（ａ−３）、（ａ−５）、（ａ−７）、（ａ−８）または（ａ−９）で示される基である。Ｒ^aがビニル、アリルまたはスチリルであって、Ｘ¹¹，Ｘ¹³，Ｘ¹⁵，Ｘ¹⁷，Ｘ¹⁹が炭素数１〜４のアルキルまたは非置換のフェニルである。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、優れた実装信頼性、冷熱衝撃性を有する硬化性組成物、およびその硬化性組成物により封止、被覆された半導体装置を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および、（Ｄ）固形低弾性率樹脂成分を必須成分として含有することを特徴とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】シランエステル中のたとえばオリゴマーなどの一部の不純物を低減または排除するシランエステルの製造方法またはプロセスを提供する。
【解決手段】カルボン酸の無水塩を供給する工程と、前記カルボン酸無水塩を、第一の溶媒と、前記、第一の溶媒に実質的に混和しない第二の溶媒と、を含む二相反応系に添加する工程と、前記カルボン酸無水塩と、前記第一の溶媒と、前記第二の溶媒と、の混合物を加熱する工程と、前記カルボン酸無水塩と、前記第一の溶媒と、前記第二の溶媒と、の混合物にハロゲン化アルキル置換基を含むシランを添加してシランエステルを生成する工程と、さらに、低級アルカン溶媒で生成したシランエステルを抽出する工程と、を含む。 （もっと読む）