【課題】硬化状態を所望の状態に段階的且つ安定的に制御可能で、プロセスマージンを取りやすい光硬化性樹脂組成物の硬化方法、及びレリーフパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】光異性化反応及び加熱による分子内環化反応を経てポリアミンを発生する塩基発生剤、及び、特定の高分子前駆体を含有する光硬化性樹脂組成物を利用し、下記工程１〜工程４により、所定温度での前記樹脂組成物の貯蔵弾性率を段階的に変化させる光硬化性樹脂組成物の硬化方法、並びに、レリーフパターンの製造方法である。
工程１：基材に前記光硬化性樹脂組成物を塗布し、塗膜を形成する
工程２：上記塗膜を基材側及び／又は塗膜表面側から光照射する
工程３：塗膜を加熱し、塗膜の少なくとも一部を硬化させる
工程４：上記工程２及び工程３を繰り返し、前記塗膜を硬化させる （もっと読む）

【課題】優れた防汚性能を有し、該防汚性能が高温高湿環境下においても劣化しにくい汚れ防止コート層付き透光性基材の提供。
【解決手段】透光性基材と、該透光性基材上に下式（ａ）で表される化合物およびその部分縮合体から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ａ）を含有するコート液を塗布し、硬化させてなる汚れ防止コート層とを備える汚れ防止コート層付き透光性基材。Ｒ^ＦＯ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ａＣＦ_２−（Ｑ）_ｂ（−（ＣＨ_２）_ｄ−ＳｉＬ_ｅＲ_３−ｅ）_ｃ…（ａ）。Ｒ^Ｆ：炭素数１〜２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された炭素数２〜２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基であって、−ＯＣＦ_２Ｏ−構造を有さず、かつ隣接する酸素原子とともに−ＯＣＦ_２Ｏ−構造を形成しない基。ｄ：２〜６の整数。Ｌ：加水分解性基。ｅ：１〜３の整数。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハへの良好な密着性、粘着性を有し、耐薬品性、耐熱性、低透湿性に優れ、かつ、使用後は半導体ウエハ表面に残存せずに容易に剥離できる半導体ウエハの保護膜、ならびに該保護膜を利用する半導体ウエハ表面の保護方法および半導体ウエハの加工方法を提供する。
【解決手段】硬化性フルオロポリエーテルエラストマー組成物の硬化皮膜からなる半導体ウエハの保護膜；半導体ウエハの片面または両面を上記保護膜で被覆することを含む半導体ウエハ表面の保護方法；（ａ）半導体ウエハの片面を上記保護膜で被覆して保護膜被覆半導体ウエハを得る工程を有する半導体ウエハの加工方法。上記加工方法は、（ｂ）裏面研削工程、（ｃ）貫通孔形成工程、（ｄ）貫通電極作製工程、および（ｅ）保護膜剥離工程の特定の組み合わせを更に有してもよい。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法でマイクロレンズを形成する際の下地膜をインクジェットで形成する際に、膜厚が薄くて均一な表面撥水性硬化膜を形成できる光硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】溶媒（Ａ）、光反応性官能基を２つ以上有している化合物（Ｂ）、界面活性剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）を含有する光硬化性組成物であって、溶媒（Ａ）の含有量が４０〜９８重量％である光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】末端にエポキシ基を有し、またシロキサン結合を含有しないビニル系重合体およびカチオン性光開始剤からなる光硬化性組成物および硬化物を提供する。
【解決手段】分子末端が下記一般式（１）で表されるビニル系重合体（Ａ）およびカチオン系光開始剤（Ｂ）を含むことを特徴とする光硬化性組成物。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、又は、２つの炭化水素基がエーテル結合もしくはエステル結合で結合されてなる炭素数１〜１０の１価の基を表すが、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３が相互に結合し、環構造を形成していても構わない。Ｒ^４は直接結合または炭素数１〜１０の２価の炭化水素基、又は、２つの炭化水素基がエーテル結合もしくはエステル結合で結合されてなる炭素数１〜１０の１価の基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３とＲ^４が相互に結合し、環構造を形成していても構わない。） （もっと読む）

【課題】水接触角が約９０°より大きく、ヘキサンデカン接触角が約４５°より大きい表面層を作成することができるコーティング組成物の提供。
【解決手段】溶媒中、官能化ポリフルオロポリエーテルと官能化ポリブタジエンとを、官能化ポリフルオロポリエーテル／官能化ポリブタジエンの重量比が約２０／８０〜約８０／２０になるように含むコーティング混合物を含む組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリイソシアネートとの反応により、ポリウレタンを製造するための出発化合物として、貯蔵寿命等が改善された少なくとも１つの非末端アルコキシシリル基を有するアルコキシル化生成物、ならびにその製造方法およびその使用を提供する。
【解決手段】１つ以上のエポキシ官能性アルコキシシランを、またエポキシド化合物もしくはコモノマーとの混合物で、ブロックまたはランダムで形成されたアルコキシシリル基を有するポリエーテルアルコールのＯＨ基の反応性を低下させる。 （もっと読む）

【課題】広範囲の分散質に適用することが可能で、少量の添加で優れた分散安定性を発揮することができる非水性分散媒用分散剤を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される化合物からなる非水性分散媒用分散剤である。
【化８】


ただし、式（１）のＲは分岐鎖を有するアルキル基および／又はアルケニル基を含有する炭素数が１ないし２４であるアルキル基および／又はアルケニル基を示し、式（１）のＡＯは炭素数が１ないし４のオキシアルキレン基を示し、ｎはアルキレンオキシドの平均付加モル数を示し、１ないし３０の範囲であり、式（１）のＸは炭素原子、水素原子及び／又は酸素原子からなる連結基である。 （もっと読む）

【課題】硬度が良好で、伸び、柔軟性、触感の点でも良好であり、耐指紋視認性及び指紋拭取り性に優れた活性エネルギー線硬化型ハードコート用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）及びポリテトラメチレングリコール骨格部分の数平均分子量が６００以上であるポリテトラメチレングリコール骨格を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）及び平均粒径が１０μｍ以下であるシルクパウダー（Ｃ）を含有する組成物であって、該組成物の硬化膜のオレイン酸との接触角が２５度以下である活性エネルギー線硬化型ハードコート用樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）下記式（１）で示される近赤外光吸収色素１種以上、（Ｂ）高分子化合物１種以上、及び（Ｃ）溶剤１種以上を含有する近赤外光吸収膜形成材料。


（式中、Ｒ¹、Ｒ²は１価炭化水素基、ｋは０〜５の整数、ｍは０又は１、ｎは１又は２、ＺはＯ、Ｓ、及びＣ（Ｒ’）（Ｒ”）のいずれかで示される基、Ｒ’及びＲ”はＨ又は１価炭化水素基。Ｘ^-は陰イオン）
【効果】本発明の材料によって形成された近赤外光吸収膜とフォトレジスト膜とを含む積層膜を光リソグラフィーに用いることにより、光オートフォーカスの検出精度が向上し、光リソグラフィーの投影像が明瞭となり、コントラストが向上するため、良好なフォトレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）