低圧蒸気放電ランプは、充填ガスが充填された放電空間（3）を、気密状態で取り囲む放射線透過性の放電管（1）を有する。充填ガスは、実質的に水銀を含まず、インジウム化合物およびバッファガスを含む。放電管（1）は、前記放電空間（3）内でガス放電を持続させる放電手段（2）を有する。放電管（1）には、発光層（4）が設置される。発光層（4）は、珪窒化物またはオキソ珪窒化物をベースとする発光材料を含む。発光材料は、希土類のエミッタを有することが好ましい。発光材料は、ユーロピウム、セリウム、イッテリビウムのエミッタを有することが好ましい。
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化学式（Ｔｂ_1-x-y-z-wＹ_xＧｄ_yＬｕ_zＣｅ_w）₃Ｍ_rＡｌ_s-rＯ_12+δ（式中、ＭはＳｃ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎ、又はＭｇから選択され、０＜ｗ≦０．３、０≦ｘ＜１、０≦ｙ≦０．４、０≦ｚ＜１、０≦ｒ≦４．５、４．５≦ｓ≦６、−１．５≦δ≦１．５）と、化学式（ＲＥ_1-xＳｃ_xＣｅ_y）₂Ａ_3-pＢ_pＳｉ_z-qＧｅ_qＯ_12+δ（式中、ＲＥはランタニドイオン又はＹ³⁺から選択され、ＡはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、又はＢａから選択され、ＢはＭｇ及びＺｎから選択され、０≦ｐ≦３、０≦ｑ≦３、２．５≦ｚ≦３．５、０≦ｘ＜１、０＜ｙ≦０．３、−１．５≦δ≦１．５）と、化学式（Ｃａ_1-x-y-zＳｒ_xＢａ_yＣｅ_z）₃（Ｓｃ_1-a-bＬｕ_aＤ_c）₂Ｓｉ_n-wＧｅ_wＯ_12+δ（式中、ＤはＭｇ又はＺｕの何れかであり、０≦ｘ＜１、０≦ｙ＜１、０＜Ｚ≦０．３、０≦ａ≦１、０≦ｃ≦１、０≦ｗ≦３、２．５≦ｎ≦３．５、−１．５≦δ≦１．５）とを有する蛍光体組成物。光源と上記の蛍光体組成物のうちの少なくとも１つとを含む発光デバイスもまた開示される。 （もっと読む）

本発明は、シンチレーション物質に関し、これらは、X線、ガンマー線およびアルファ線の記録および測定；固溶体構造の非破壊試験；三次元陽電子発光断層X線撮影；および、X線コンピュータ断層写真撮影ならびに蛍光X線撮影のために、核物理分野、医学分野および石油業界にて利用することができる。ルテチウム(Lu)とセリウム(Ce)とを含むシリケートに基づくシンチレーチング物質は、物質の組成が、化学式：Ce_xLu_2+2y-xSi_1-yO_5+y；Ce_xLi_q+pLu_2-p+2y-x-zA_zSi_1-yO_5+y-p；Ce_xLi_q+pLu_9.33-x-p-z□_0.67A_zSi₆O_26-p(式中、Aは、Gd、Sc、Y、La、Eu、Tbからなる群より選択される少なくとも1つの元素であり；xは、1×10^-4f.u.と0.02f.u.との間の値であり；yは、0.024f.u.と0.09f.u.との間の値であり；zは、0.05f.u.を上回らない値であり；qは、0.2f.u.を上回らない値であり；pは、0.05f.u.を上回らない値である)；Ce_xLi_1+q+pLu_9-x-p-zA_zSi₆O_26-p(式中、zは、8.9f.u.を上回らない値である)によって表される。達成可能な技術的成果は、高密度；高光収率；低い残光；および、三次元X線断層撮影(PET)用のシンチレーチング素子の製造の間の低い損失パーセンテージを有するシンチレーチング物質である。 （もっと読む）

シリカ又はケイ酸塩をマトリックスとするガラス成分、希土類元素及びガラス修飾成分を含有し、上記希土類元素は、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる１種以上の元素と、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ及びＹｂからなる群より選ばれる１種以上の元素と、を含み、上述のガラス修飾成分は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｂ及びＡｌからなる群より選ばれる１種以上の元素を含み、波長１００ｎｍ未満の光子を入射されると、紫外光領域、可視光領域又は赤外光領域の光を発するガラスシンチレータ。 （もっと読む）