【課題】泡質が良く、拭き取り性に優れた、４級アンモニウム塩を含有する硬質表面用洗浄剤組成物、及び硬質表面の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（ａ）アミンオキシド型界面活性剤を０．０１〜３質量％、（ｂ）４級アンモニウム塩、（ｃ）炭素数が２〜６のアルカノールアミン、（ｄ）アルキル基の炭素数が１〜３、アルキレン基の炭素数が２〜４のアルキレングリコールモノアルキルエーテル、（ｅ）炭素数が１〜３のアルカノール、（ｆ）アルキル（炭素数８〜１６）又はアルケニル（炭素数８〜１６）グリコシド型界面活性剤、及び水を含有し、（ｆ）／（ａ）の質量比が０．０１〜０．３である硬質表面用洗浄剤組成物を、泡吐出機構を有するトリガースプレーヤーを用いて泡状で硬質表面に噴霧し、付着した泡を拭き取って、硬質表面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い磁気ディスク基板用洗浄剤、および磁気ディスク基板の洗浄方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】 分子内に１個以上のアミノ基および１個以上のスルホン酸基を有する化合物（A）またはその塩、ならびに水を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも第１剤と第２剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記第１剤がアミン化合物を含有し、前記第２剤が酸化剤を含有し、さらに炭酸アルキレンを組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】 洗浄時において電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 アルカリ成分（Ａ）、下記一般式（１）で表わされるポリオキシアルキレン化合物（Ｂ）および水を必須成分とすることを特徴とする電子材料用洗浄剤。
ＨＯ−（ＥＯ）ｍ−（ＰＯ）ｎ−（ＥＯ）ｍ−Ｈ （１）
［式（１）中、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基；ｍはエチレンオキサイドの平均付加モル数を表し１〜２５０の数、ｎはプロピレンオキサイドの平均付加モル数を表し１〜１００の数である。式（１）中の（ＥＯ）ｍと（ＰＯ）ｎと（ＥＯ）ｍは、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドがブロック状で付加している。］ （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素芳香族環状化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された、半導体用基板用の洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】酵素をより高濃度に溶解することができる界面活性剤含有組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物及びその塩から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ａ）、界面活性剤（Ｂ）及び水（Ｃ）を含有し、界面活性剤含有組成物に対して、（Ａ）の含有量が０．１〜３０重量％、（Ｂ）の含有量が３５〜７５重量％、（Ｃ）の含有量が１０〜６５重量％である界面活性剤含有組成物。


［式中、Ｘはイミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】 研磨剤由来の砥粒の除去性、絶縁膜上の金属残渣と有機残渣の除去性に優れ、かつ銅配線の耐腐食性に優れる銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨の後に続く工程において使用される洗浄剤であって、アミン（Ａ）、グアニジンの塩またはグアニジン誘導体の塩（Ｂ）、および水を必須成分とし、使用時のｐＨが８．０〜１３．０であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤を高濃度で配合する液体洗浄剤組成物において、洗浄力、衣類等繊維製品の消臭性、及び保存安定性に優れる、液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】界面活性剤（Ａ）を３５〜８５質量％、ハイドロトロープ剤（Ｂ）を０．１〜５質量％、過酸化水素（Ｃ）を０．３〜１０質量％、水混和性溶剤（Ｄ）を２〜４０質量％、並びに水を含有し、界面活性剤（Ａ）として、特定二種の非イオン界面活性剤（ａ１）、（ａ２）と陽イオン界面活性剤（ａ３）とをそれぞれ特定範囲で含有し、（ａ３）／（Ｂ）質量比が０．１〜３であり、ＪＩＳ Ｋ３３６２：１９９８の８．３項に記載の２０℃におけるｐＨが３〜７である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属珪酸塩とアルミノ珪酸塩とを含有する粉末洗浄剤組成物において、アルカリ金属珪酸塩とアルミノ珪酸塩が合一して形成される水不溶分の発生を低減できる粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】平均粒径が１〜１０００μｍのアルカリ金属珪酸塩（ａ１）の表面に、表面処理剤（ａ２）が存在して複合化されているアルカリ金属珪酸塩粒子（Ａ）と、平均粒径が０．１〜５０μｍのアルミノ珪酸塩（Ｂ）とを含有する粉末洗浄剤組成物であって、（ａ２）が、融点４５℃〜９０℃、分子量２００〜７００、透湿率０〜２％、２０℃の水１００ｇに対する溶解度０．５ｇ以下の非イオン性有機化合物及び／又は陽イオン性有機化合物である、粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄時には豊かな泡立ちを示すが、すすぎ時には瞬時にヌルツキがなくなり、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）スルホコハク酸ジ若しくはモノアルキルエステル又はその塩（一つのアルキル基の炭素数は５〜１８）、（ｂ）炭素数８〜２１の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤〔但し（ａ）を除く〕、及び（ｃ）アルキルグリセリルエーテル（アルキル基の炭素数は６〜１８）を含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 （もっと読む）