基材，例えば電子デバイス基材，例えば超小型電子ウェハまたはフラットパネルディスプレイからの有機物質の除去のために有用な組成物および方法を提供する。最小体積の組成物をコーティングとして無機基材に適用することによって、十分な熱を加え、そして直ちに水でリンスして完全な除去を実現する方法を提供する。これらの組成物および方法は、ポジ型およびネガ型の種類のフォトレジスト、更に電子デバイスからの熱硬化性ポリマーを除去および完全に溶解させるのに特に好適である。 （もっと読む）

【課題】洗濯物の再汚染防止効果に優れ、白濁等が生じず外観安定性にも優れており、かつ容器中の酸素が吸収されて該容器が凹むことを抑制できる液体洗浄剤組成物の提供を目的とする。
【解決手段】（Ａ）成分：特定のアルキレンオキサイド付加体と、（Ｂ）成分：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸と、（Ｃ）成分：アルカノールアミンと、（Ｄ）成分：過酸化水素とを含有し、前記（Ａ）成分の含有量が５０〜７０質量％であることを特徴とする液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性を維持しつつ、優れた除菌効果または抗菌性効果を発現できる液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分と、（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分とを含有することを特徴とする液体洗浄剤組成物。（Ａ）成分：水溶性亜鉛塩、水溶性銅塩、または水溶性銀塩。（Ｂ）成分：ポリエチレンイミン、または、長鎖アルキルアミン化合物および／もしくは該長鎖アルキルアミン化合物から生じた陰イオン（ただし、前記長鎖アルキルアミン化合物は、下記一般式（Ｉ）等からなる群より１種以上選択されるものである。）。（Ｃ）成分：界面活性剤。
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【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面における有機物汚染やパーティクル汚染を、銅配線の腐食を引き起こすことなく除去することができ、基板表面を高清浄化しうる洗浄剤及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】ポリカルボン酸およびジエチレントリアミン五酢酸を含有し、ＳｉＯＣを構成成分として含有する誘電率が３．０以下の絶縁膜上に銅拡散防止用バリア膜及び銅配線を備える半導体デバイスの化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】油汚れ等に対して優れた洗浄力を有し、硬度成分を含む水を用いて調製された場合でも外観安定性に非常に優れた硬質表面用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】
（ａ）ノニオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤、（ｂ）銅フタロシアニン系色素、（ｃ）特定のポリエーテル化合物の幹鎖に、アクリル酸及び／又はメタクリル酸を主体とするモノエチレン性不飽和単量体をグラフト重合した高分子化合物、（ｄ）アルカノールアミン並びに水を含有する、硬質表面用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にするフラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、有効成分濃度０．０１〜１５重量％における２５℃でのｐＨ及び酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

本発明は、ａ）約８個〜約１６個の炭素原子を含有する脂肪酸石鹸約１％〜約２０％と、ｂ）合成界面活性剤約２％〜約２０％と、ｃ）水と、を含む洗浄料組成物に関し、この組成物は、約９ＮＴＵ以下の濁度をもたらす所定の量以下の濃度で金属イオンを含む。
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【課題】バイオフィルムを効果的に除去することができる組成物を提供する。
【解決手段】分子内に、１若しくは２のグアニジル基と炭素数８〜１８の炭化水素基とを有する化合物又はその塩を含有するバイオフィルム除去剤組成物。 （もっと読む）

【課題】水溶性切削油剤、水溶性研削油剤、水溶性研磨剤、水溶性塑性加工油剤及び水溶性洗浄剤等に使用される水溶性潤滑油剤における消泡剤（発泡抑制剤）を提供することを目的とする。
【解決手段】pHが８〜１１．５の範囲内において等電位点を持つ特定のアミン化合物からなる消泡剤である。 （もっと読む）

連続的水相、１５〜５０ｗｔ％を含む効果的な汚れ除去量のアルカリ源および２〜３０ｗｔ％の非イオン性界面活性剤、０．１〜１０ｗｔ％を含む効果的な水調整量または金属イオン封鎖量の水調整剤または金属イオン封鎖剤、０〜１０ｗｔ％を含む効果的な汚れ除去量およびエマルジョン安定化量のアルキルポリグルコシド界面活性剤、１〜２５ｗｔ％を含む効果的な増粘化量のポリカルボン酸、０．２５〜５ｗｔ％を含む効果的な増粘化量の脂肪酸を含む相安定性の増粘化されたエマルジョンを含む液体クリーナー濃縮組成物であって、分散相が、非イオン性界面活性剤の一部分を含み、そして該増粘されたエマルジョン濃縮物が製造および使用の間に吐出を可能にするずり減粘を示し、そして粘度が２０℃においてＢｏｈｌｉｎ ＣＶＯレオメーターを使用して、０．２／秒のずり速度の回転せん断モードで測定して、１００、０００ｃＰ超を含む、組成物。
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