マンガン化合物とシュウ酸、それの塩またはそれの誘導体を含む、漂白触媒混合物が特許請求される。シュウ酸の存在によって、漂白触媒としてのマンガン化合物の作用が増強される。 （もっと読む）

【課題】ハンダ付けした部品の隙間に残存するフラックス残渣の洗浄に好適なフラックス用洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物からなる成分（Ａ）を７５．０〜９９．２重量％、アルカノールアミンである成分（Ｂ）を０．５〜１０．０重量％、及び、炭素数１〜６のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸及び／又はその塩である成分（Ｃ）を０．３〜５．０重量％含有するフラックス用洗浄剤組成物。下記式（Ｉ）において、Ｒ¹は炭素数１〜８の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を示し、ｎは１〜４である。
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【課題】空気清浄を目的に使用されるフィルターの洗浄、再生、再利用に際し、優れた洗浄性能を示す空気清浄用フィルター洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ剤を２５〜９４質量％、（Ｂ）界面活性剤を１〜５０質量％、（Ｃ）水溶性有機溶剤を４〜６０質量％、（Ｄ）キレート剤を１〜５０質量％含有し、前記（Ａ）アルカリ剤として、アルカリ金属水酸化物、アミン系アルカリ性物質、炭酸塩、珪酸塩、リン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも３種類をそれぞれ５質量％以上含む空気フィルター用洗浄剤組成物。ただし、前記（Ａ）〜（Ｄ）の含有量は、水を除く空気フィルター用洗浄剤組成物全体を１００質量％とした場合の値である。 （もっと読む）

【課題】低起泡性で泡切れ性にも優れ、かつ優れたパーティクルの除去性及びリンス性を実現する電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるアニオン性界面活性剤を含有する電子材料用洗浄剤で、０．２重量％水溶液の２０℃におけるロス・マイルス試験による起泡力が５０ｍｍ以下で、泡の安定度が５ｍｍ以下である電子材料用洗浄剤。


［Ｒ¹及びＲ²は炭素数１〜６のアルキル基で、Ｒ¹とＲ²の炭素数の合計は２〜７；Ｒ³は炭素数１〜３のアルキレン基；Ｒ⁴は炭素数２〜４のアルキレン基；Ｘ^-は−ＣＯＯ^-、−ＯＣＨ₂ＣＯＯ^-、−ＯＳＯ₃^-、−ＳＯ₃^-又は−ＯＰＯ₂（ＯＲ⁵）^-であって、Ｒ⁵は水素原子又はＲ¹（Ｃ＝Ｏ）_a−Ｎ（Ｒ²）−Ｒ³−（ＯＲ⁴）^b−で表される基；Ｍ⁺はカチオン；ａは０又は１；ｂは平均値であって０〜１０を表す。］ （もっと読む）

【課題】特殊な溶媒を使用しなくても短時間に調製可能な水難溶性粉体含有組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】界面活性剤水溶液に可溶化する水難溶性粉体を、１５〜４０℃の水に、濃度が３〜３３質量％となるように分散させて水難溶性粉体の水分散液を調製し、
前記水分散液と、前記水分散液の０．２〜５質量倍の１５〜４０℃、２０〜４０質量％アニオン界面活性剤含有水溶液とを混合することを特徴とする、水難溶性粉体含有組成物の製造方法。 （もっと読む）

アミンオキシド界面活性剤、アルカリ金属水酸化物、第二アルカリ源、キレート化剤、非イオン性界面活性剤、及び凝固剤を含む、実質的に非水性固体濃縮組成物が提供され、そして該濃縮組成物は、安定な水溶液を調製するのに有用である。所望により、本組成物は、アニオン性界面活性剤、腐食防止剤、染料、香料、又は安定化剤の任意の１種又は組み合わせを含んでよい。本発明の超濃縮組成物は、固体送達に特に適している。 （もっと読む）

【課題】
硬質床表面を洗浄するための洗浄法であって、実質的に清浄で非滑性な硬質床表面を効果的に復元させることができる有効な洗浄法を提供する。
【解決手段】
下記の逐次的な過程(a)〜(c)を含む、脂肪および脂肪酸のＣａ塩を含有する複合汚れを有する、グラウトで固めた素焼き陶製タイル表面たる硬質床表面の洗浄法であって:
(a)最初に、複合的汚れが存在する硬質床表面にアルカリ性pHを有する第一クリーナーを接触させ、続いて該複合汚れに機械的力を印加し、
(b)次に、処理された床表面に酸性pHを有する第二クリーナーを接触させ、機械的汚れ除去作用を加え、
(c)次いで、処理された床表面に中性pHを有する第三クリーナーを接触させる、硬質床表面の洗浄法。 （もっと読む）

アミンオキシド、水溶性溶媒、アルカリ源、キレート剤およびハイドトロープを含む、実質的に水を含まない濃縮組成物が提供され、この濃縮組成物は、安定な、水を含む、全体で水に溶解性の溶液を調製するのに有用である。この組成物は、任意選択的に、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、腐食防止剤、染料、香料、または保存料のいずれか１種またはそれらの組み合わせを含むことができる。本発明の超濃縮組成物は、希釈の前の基剤への被覆、または液体濃縮物を直接希釈剤に加えることを含む、多くの送達方法に独自に適している。 （もっと読む）

【課題】従来の洗浄剤組成物は、枚葉処理装置に用いるには除去能力は必ずしも十分ではない。ＨＳＱ、ＭＳＱ等のシロキサン膜からなる低誘電率膜のドライエッチングにおいてはＨＳＱ、ＭＳＱのエッチング表面に変質層が生成されるが、従来の洗浄剤組成物は、この変質層に対するエッチング速度が極めて速く、このため、この組成物を用いたドライエッチングの後処理洗浄においては意図するエッチング寸法よりも実際のエッチング寸法が拡大してしまう問題がある。
【解決手段】半導体回路の製造工程においてドライエッチング後及び／又はアッシング後の半導体基板からフォトレジスト残渣及び／又はポリマー残渣を除去する洗浄剤組成物であって、残渣除去成分（Ａ）、半導体基板の配線材料に用いる金属の腐食防止成分（Ｂ）、半導体基板の層間絶縁膜材料の保護成分（Ｃ）及び水を含有し、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）が下記化合物であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 コラーゲン本来の保湿性能等を十分保持し、特に未変性の水溶性コラーゲンをｐＨ５．５〜８．５において安定に可溶化するコラーゲン可溶化剤を提供する
【解決手段】 アルギニン（Ａ）及び／又はその塩（Ａ’）、並びに一般式（１）で表されるアシルアルギニンエステル（Ｂ）及び／又はその塩（Ｂ’）を含有することを特徴とするコラーゲン可溶化剤。
【化３】


式中、Ｒ¹は水素原子又はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜２１の１価の炭化水素基、Ｒ²はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜２１の１価の炭化水素基を表す。 （もっと読む）