【課題】 基材の表面に高分子膜を形成させる蒸着重合に続いて熱処理を行なうことができて、その冷却に長時間を要せず、装置内に付着する重合物を容易に除去し得る蒸着重合装置を提供すること。
【解決手段】 真空槽１１内に重合熱処理室２１を設けてそれぞれ独立して真空排気可能とし、かつ重合熱処理室２１の内面に近接して８５０℃以上の温度に加熱可能なヒータ２３と開閉し得る加熱ヒータ２４を設ける。また重合熱処理室２１には開閉可能な仕切ゲート３４を介して冷却槽４１を接続し、冷却槽４１と重合熱処理室２１との間に基材Ｓを搬送するための搬送ローラ４７を設ける。蒸着重合の後、重合熱処理室２１の温度を上げて熱処理することができ、熱処理の後は８５０℃以上の温度に加熱して付着重合物を熱分解し排除し得る。 （もっと読む）

【目的】 基板温度が低温状態で基板上に形成された高分子膜に十分なポーリング処理を施して、焦電圧電性に優れた有機焦電圧電体の形成方法の提供。
【構成】 真空中で基板温度が低温で、高分子膜が形成可能な原料モノマーを蒸発させて、基板上に高分子膜を形成後、真空処理室内にガスを導入しながら、高分子膜の下部に設けた電極と、基板の前方に配置された針状の電極間に高電界を印加し、基板温度を昇温しながら高分子膜にポーリング処理を行う。
【効果】 高分子膜がオリゴマー状態から、未反応部分が膜内部で基板の昇温時に反応する際にポーリング処理が行われて、圧電性や焦電性が向上した有機焦電圧電体を容易にかつ効率よく形成することが出来る。 （もっと読む）

【構成】２成分以上の有機系光学材料を溶液または分散液状態で各成分毎に設けた噴霧ノズルから高真空容器内に噴霧して基板上に堆積させ、加熱処理する。
【効果】この発明によって、有機系光材料の分解温度よりもはるかに低い温度において高品質で高機能な複合型光学薄膜の製造が可能となる。また、この発明によって、２成分以上の有機系光材料から成る複合型光学薄膜において、マイクロメートル未満の微細領域で構造が制御された複合型光学薄膜の製造が可能になり、またさらに、２成分以上の有機系光材料から成る複合型光学薄膜において、その深さ方向に成分の濃度を任意に変化させたものの製造が可能となる。そして、この発明の光学薄膜の製造方法に使用される有機系光材料は、加熱および／または加圧により成形することが可能なものであれば任意のものを使用することができ、さらに、２成分以上の有機系光材料の成分毎に最適な溶媒を選択することができ、この発明は、複合型光学材料を開発、改良する上で、極めて有用なものである。 （もっと読む）

【目的】耐久性、着消色性等の諸特性に優れた有機フォトクロミック膜をプラズマ重合により形成させる。
【構成】基板表面に有機フォトクロミック化合物の単独あるいは有機フォトクロミック化合物と高分子樹脂の複合したプラズマ重合膜を成膜する。 （もっと読む）

［構成］ 真空処理室１ａの両壁部１９ａ、１９ｂにフランジ加熱ヒ−タ１４ａ、１４ｂを埋設し、これ以外の各バレル１０面が対向する外周壁部１８には処理室加熱ヒ−タ１３が埋設されている。また、真空排気系用配管５１の壁部にも排気系加熱ヒ−タ１５が埋設されており、更に蒸発源容器５ａ、５ｂのに接続されている導入管６ａ、６ｂにも導入管加熱ヒ−タ１６ａ、１６ｂが埋設されている。これら各加熱ヒ−タは各々独立して温度制御が可能である。導入管加熱ヒ−タ１６ａ、１６ｂを設けたことで導入管６ａ、６ｂにモノマが付着せず蒸発速度の低下が防止でき、排気系加熱ヒータ１５を設けたことで真空排気系２の内壁にモノマが付着せず排気能力の低下が防止でき、蒸発レ−トが不安定となる要因を取り除くことができる。
［効果］ 被蒸着物表面上に形成される高分子被膜の質を良好にする。 （もっと読む）

［目的］ 蒸着重合装置における蒸発源容器の蒸発源噴出口にモノマを付着・堆積させず、モノマの蒸発レートを安定化させる。
［構成］ 原料モノマＡ、Ｂが供給された蒸発源容器７の蒸発源貯蔵部１４ａ、１４ｂの外周部と蒸発源噴出口部１３ａ、１３ｂの外周部とに、それぞれ別個に蒸発源加熱ヒータ９ａ、９ｂと蒸発源噴出口加熱用ヒータ１２ａ、１２ｂとを設け、蒸発源加熱ヒータ９ａ、９ｂの温度よりも蒸発源噴出口加熱用ヒータ１２ａ、１２ｂの温度を若干高くする。これにより蒸発源噴出口部１３ａ、１３ｂの温度が低下するのを防ぎ、蒸発源容器７ａ、７ｂ全体の温度がそれぞれ一定化するので、蒸発源噴出口１３ａ、１３ｂにモノマが付着・堆積することなくモノマＡ、Ｂの蒸発速度及び蒸発レートが常に安定化する。 （もっと読む）

基体を被覆するための装置は、大気圧より低い圧力に維持された蒸着室、前記蒸着室に伴われた二つ以上の拡張性熱プラズマ源（１４）を含む一つ以上の配列体、及び各配列体についてオリフィス（１５）を含む少なくとも一つの注入器（１３）を含む。基体を蒸着室中に配置し、各拡張性熱プラズマ源により中心軸を有するプラズマジェットを生じさせ、同時に注入器によりプラズマ中へ気化反応物を注入して基体上に蒸着された被覆を形成する。注入器オリフィスは、全体的に均一な被覆特性を有する被覆が一般に得られるように、拡張性熱プラズマ源から特定の距離以内に位置させる。
（もっと読む）