【課題】エアー溜まり痕の残存を良好に防止できるとともに、被覆層の剥離を抑制でき、耐久性に優れた成形型の製造方法を提供する。また、エアー溜まり痕のないガラスゴブ及びガラス成形体を低コストで安定的に製造することができるガラスゴブ及びガラス成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】成形型の基材に所定の形状を有する成形面を形成する工程と、スパッタ法により成形面に被覆層を成膜する工程とを有する。被覆層の成膜は、成膜中にプロセスガスのイオンの一部が成形面に衝突することによって成形面の算術平均粗さ（Ｒａ）が成膜前よりも増大するように選択されたバイアス電圧を基材に印加した状態で行う。 （もっと読む）

【課題】サファイア基板上に化合物半導体層を成長させて作製する半導体装置において、光取り出し効率の高い半導体装置を作製できるサファイア基板を提供する。
【解決手段】サファイア基板１の面に複数の凸起２，２，…をランダム配置で形成し、その面上にＧａＮ層１０を成長させた。さらにその上に、多重量子井戸層１２，ｐ−ＡｌＧａＮ層１４，ｐ−ＧａＮ層１６、ＩＴＯ層１８を形成し、２つの電極２１，２２も形成して半導体発光素子を作製した。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、上述した問題を解決し、成長温度が1050℃以下のAlGaNやGaNやGaInNだけでなく、成長温度が高い高Al組成のAl_xGa_1-xNにおいても結晶性の良いIII族窒化物半導体エピタキシャル基板、III族窒化物半導体素子、III族窒化物半導体自立基板およびこれらを製造するためのIII族窒化物半導体成長用基板、ならびに、これらを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも表面部分がAlを含むIII族窒化物半導体からなる結晶成長基板と、前記表面部分上に形成されたZrまたはHfからなる単一金属層とを具えることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、金属、金属ハロゲン化物、またはこれらの混合物を前駆物質として利用した金属ナノプレート(Metal nano-plate)の製造方法であって、詳細には、反応炉の前端部に位置させた金属、金属ハロゲン化物、またはこれらの混合物を含む前駆物質と、反応炉の後端部に位置させた単結晶基板とを、不活性気体が流れる雰囲気で熱処理し、前記単結晶基板上に単結晶体の金属ナノプレート(nano-plate)が形成される特徴がある。
本発明の製造方法は、触媒を使用しない気相移送法を利用して、数マイクロメートル大きさの金属ナノプレートを製造することができ、その工程が簡単で且つ再現性があって、製造されたナノプレートが、欠陥及び不純物を含まない高結晶性及び高純度単結晶状態の貴金属ナノプレートである長所があり、単結晶基板の表面方向を制御し、金属ナノプレートの形状及び単結晶基板との配向性を制御できる長所を有して、数マイクロメートル大きさの金属ナノプレートを大量生産することができる長所がある。
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本発明は構造化表面を有する半製品において、少なくとも１つの高融点金属を有し、酸化し、且つ次に還元した表面を含む半製品、およびそれらの製造方法、および高キャパシタンス素子の製造へのそれらの使用も含む。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも、合成膜の外側を形成する軽くて耐候性を有する樹脂の層ａ）、支持層ｂ）、並びに層ａ）及び層ｂ）の間に配置された金属層ｃ）及び／又は水蒸気耐性を有する金属処理された樹脂の層、からなる複数のシート材料（ａ，ｂ，ｃ）から構成された合成膜（１）の使用に関するものである。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着法によって形成される、均一な厚さを有するステンレス蒸着層を備えたステンレス蒸着ガラス容器及び、そのようなステンレス蒸着ガラス容器の安定的な製造方法を提供する。
【解決手段】 ステンレス蒸着ガラス容器及びその製造方法において、ガラス容器の外面及び内面、あるいはいずれか一方の表面に対して、例えば、全体量に対して、ニッケルの含有量を５〜２５重量％、及びクロムの含有量を８〜３０重量％の範囲内の値としたステンレス材料を主成分としたステンレス蒸着層を、直接的または間接的に形成する。 （もっと読む）

【課題】 成膜完了後の変形が少なく、従って、切断等の取り扱いが容易である光学素子を提供する。
【解決手段】 負の線膨張係数を有するガラス製の基板１の表面に、SiＯ_２薄膜２とNb_２Ｏ_５薄膜３を、交互に合計約100層成膜して、多層光学薄膜４を形成する。基板１の線膨張係数が負であって、多層光学薄膜４との差が大きいので、基板１を、通常200℃程度である成膜状態から常温としたとき、多層光学薄膜４の圧縮応力と、温度降下によって発生する熱応力が相殺して、基板１の変形（反り）が軽減される。よって、基板１をダイシングソー等により切断するときに加工が容易であり、破損することが少なく、かつ、切り出された光学素子の面精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】この発明は、均一な金属被膜の成膜を実現したうえで、簡便にして容易なレンズ着脱操作を実現し得るようにすることにある。
【解決手段】保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入した支柱部材２２を離脱させた状態で、第１及び第２のレンズ支持部材１４，１５間へのレンズ１６の着脱を実行し、装着したレンズ１６に成膜を施す際には、上記支柱部材２２を保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入して、支柱１３及び支柱部材２２をレンズ１６の周囲に等間隔に配した状態で、レンズ１６の成膜処理を行うように構成した。 （もっと読む）

【課題】 貴金属材料の使用量を削減しつつ、低抵抗の電気配線を高い生産能力で形成することができる成膜方法等を提供する。
【解決手段】 基板５０上に薄膜５２のパターン１２を形成する成膜方法であって、マスク１０を用いて気相成長法により基板５０上に金属下地膜６０を成膜し、パターン１２を形成する第１工程と、基板５０にメッキ処理を施して金属下地層からなるパターン１２上に金属膜６５を成膜する第２工程と、を有する。
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