説明

国際特許分類[C23C16/505]の内容

国際特許分類[C23C16/505]の下位に属する分類

国際特許分類[C23C16/505]に分類される特許

101 - 110 / 454


【課題】電気回路を電気的に安定して取付可能とする。
【解決手段】インピーダンス整合器の出力部分に設けられたソケット40は、円筒形状に成形された金属体40aの中心部に、給電棒32を嵌め込んで保持するための嵌込孔41を備えている。嵌込孔41の内壁には、絶縁物からなる被膜層42が設けられており、給電棒32との間が電気的に絶縁されている。第2の高周波電源51にて生成された高周波電力は、誘導結合により給電棒32に伝達される。 (もっと読む)


【課題】異常放電の発生を抑制可能とするプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】反応室αを有するように、絶縁フランジ81を挟んでチャンバ2と電極フランジ4から構成される処理室内に、被処理体10を載置する支持手段15と、これを上下移動する昇降機構と、被処理体に向けてプロセスガスを供給するシャワープレート5を収容する。チャンバの側壁に、反応室に被処理体の搬出入口12を設けると共に、支持手段に一端が接続され、チャンバに他端が接続されるプレート部材40を設ける。該プレート部材は、支持手段の外周縁部に設けた第一部位と、チャンバの側壁部に設けた第二部位、及び支持手段の移動に伴い、第一部位と第二部位とに電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位から構成されている。シャワープレートに配置されたガス噴出口6を通して導出されたプロセスガスがプラズマ化するように印加する電圧印加手段33を備える。 (もっと読む)


【課題】各アンテナに発生する高周波電圧のバラツキを低減できて、プラズマ発生部の大口径化、大容積化を図っても均一なプラズマを発生でき、プラズマによる薄膜形成やプラズマイオン注入を安定化できる高周波電力供給装置およびプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】2つ以上の誘導性のアンテナ1と、各アンテナ1に対して電力を供給する高周波電源2、4と、各高周波電源2、4に含まれ、各アンテナ1にそれぞれ対応する高周波電力増幅器4と、高周波増幅器4の高周波出力とアンテナ1との間にインピーダンス整合用の受動回路および配線とを有し、各アンテナ1での定在波の発生を回避するために受動回路の出力点から対応するアンテナ1の任意の点までの長さが、高周波電力が各配線および各アンテナ1を波として伝搬する際の高周波電力の波長の1/4未満である。 (もっと読む)


【課題】簡単かつ汎用性のある方法で、微結晶シリコン層からなる光電変換層の表面に凹凸を設けることができる薄膜太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】この薄膜太陽電池の製造方法は、基板50上に第1導電型(例えばn型)微結晶シリコン層を形成する工程と、第1導電型微結晶シリコン層上にi型微結晶シリコン層を形成する工程と、i型微結晶シリコン層を水素プラズマで処理する工程と、i型微結晶シリコン層上に第2導電型(例えばp型)微結晶シリコン層を形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】放電空間が1つのチャンバー内に複数あり、それぞれの電極に均等に電力を導入することのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】反応容器としての密封可能なチャンバー3があり、その内部中央に、1つのアノード電極4がチャンバー3の底面に対して略垂直に配置されている。アノード電極4の左右両面には、被処理物であるガラス基板1,1が配置されている。カソード電極2,2へは、1個のプラズマ励起電源8により電力が供給される。電源8とチャンバー3との間には、カソード・アノード電極2,4および電源8の間のインピーダンスを整合する1個のマッチングボックス7が配設されている。電源8とマッチングボックス7とは1本の電力導入線10で接続されている。電力導入線10は、マッチングボックス7からカソード電極2までの間で2本に分岐され、分岐された部分からは対称に延びている。 (もっと読む)


【課題】被処理体に対して面内均一性の高いプラズマ処理を行うこと。
【解決手段】載置台27と誘電体窓部材3を介して対向するようにアンテナ5を設ける。このアンテナ5は、各々長さが等しく、互いに横に平行に並べた直線状の複数のアンテナ部材51により構成されている。このアンテナ5の一端側を高周波電源部6に電源側導電路61により接続すると共に、その他端側を接地点に接地側導電路62により接続する。前記電源側導電路61及び接地側導電路62の少なくとも一方に、アンテナ5の電位分布を調整するための電位分布調整用のコンデンサ7を設け、前記高周波電源部6から各アンテナ部材51を介して接地点に至るまでの各高周波経路のインピーダンスが互いに等しくなるように設定する。 (もっと読む)


【課題】ウェーハ表層の酸素濃度を高め、この表層の高強度化を図ることが可能な半導体ウェーハの表層高強度化方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハの表層の一部に、酸化性ガスの雰囲気での熱処理に伴う内方拡散またはイオン注入によって酸素を導入する。その後、表層を除く部分は溶融させず、表層のみを高エネルギ光の照射により溶融させる。これにより、表層に導入された酸素が表層の全域に熱拡散し、その後、これを冷却して固化させることで、表層が高酸素濃度領域部となる。その結果、ウェーハ表層の酸素濃度を高め、この表層の高強度化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】大気圧雰囲気下での炭化水素系ガスを原料とした、従来より高硬度の非晶質硬質炭素皮膜が得られる非晶質硬質炭素皮膜の成膜方法及びその成膜装置を提供することを解決すべき課題とする。
【解決手段】保持電極に基材を保持する基材保持工程と、大気圧雰囲気下において、印加電極を有する電極体を保持電極に対向させ、電極体と保持電極との間に炭化水素系ガスを含む原料ガスを供給し、電極体と保持電極との間に直流バイアス電圧を発生させながら、印加電極に交流電圧を印加して電極体と基材の表面との間でグロー放電プラズマを発生させ、排ガスを排気して、基材の表面に非晶質硬質炭素皮膜の成膜を行う成膜工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


本発明の一の実施形態によれば、プラズマ処理装置は、被処理体に対する工程が行われる内部空間を提供するチャンバーと、前記チャンバーの側部を囲むように配置され、前記内部空間に電界を形成して前記内部空間に供給されたソースガスからプラズマを生成するアンテナと、を含み、前記アンテナは、第1回転方向に沿って前記チャンバーの一側から前記チャンバーの他側を向いてらせん形状を形成し、前記第1回転方向に沿って電流が流れるらせんアンテナと、前記チャンバーの前記一側に位置する前記らせんアンテナの一端に接続され、前記第1回転方向と反対方向に電流が流れる延長アンテナと、前記延長アンテナと前記らせんアンテナを接続する接続アンテナと、を含む。 (もっと読む)


【課題】高周波増幅回路内の素子の損傷を未然に防止すること。
【解決手段】複数の入力側フェライト51及び複数の出力側フェライト52のうち、少なくともいずれか一つの温度を計測する温度計測部を設け、この温度計測部によって計測された温度が予め設定されている第1の閾値を超えた場合に、高周波電源を停止または出力低減させる高周波電源装置を提供する。 (もっと読む)


101 - 110 / 454