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国際特許分類[C23G3/00]の内容

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【課題】ワークの各面に対して洗浄液の高速噴射がなされ、以て、切粉等の除去のための洗浄を十分且つ効率よく行なうことができる機械部品等洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】底部に複数の高速噴射ノズルを備えた洗浄槽1と、ロボットハンド先端にワーククランパー4を備えていて前記ワーククランパー4が前記洗浄槽1内に臨む多軸ロボット3とから成る。好ましくは、前記洗浄槽1の一側面側に設置されるワーク供給部6と、前記洗浄槽1の他側面側に設置されるワーク排出部7とを更に備え、前記洗浄槽1内に、ワーク位置決め用コンベアリフトユニット10が設置され、前記多軸ロボット3は6軸ロボットとされ、また、前記洗浄槽1に切粉回収装置2が連設される。 (もっと読む)


【課題】金属加工後の加工屑や加工油の洗浄と表面防錆方法とその装置に関し、金属加工現場でアルカリイオン水を用いて洗浄と防錆を同時に行うための方法と、そのシステムを提供する。
【解決手段】金属材料又は金属加工部品を洗浄するための洗浄水を収容する洗浄槽と、電解槽中にイオン交換隔膜を介して対向する正・負電極を設けて、所定のpH値のイオン水を生成するイオン水生成装置とを備え、前記洗浄槽内における金属材料又は金属加工部品の少なくとも洗浄工程時間中に、その洗浄水を汲み上げ、次にその洗浄水を前記イオン水生成装置へ流入させ、そのイオン水生成装置により流入水をpH値12以上の高pHにイオン化したイオン水を生成させ、次にその生成イオン水を前記洗浄槽へ戻し、前記金属材料または金属加工部品の表面を生成イオン水により所定時間以上洗浄することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 洗浄作業を停止することなく洗浄液の交換が行える多槽式洗浄装置と洗浄方法を提供する。
【解決手段】 多槽式洗浄装置は洗浄槽1に2つの循環槽2,3が併設され、循環槽2にはオイル分離機21とヒータ22が付設され、洗浄槽1と循環槽2とは2本の洗浄液の戻り管路23及び供給管路24で接続されている。戻り管路23は洗浄槽1の浸漬部12に接続されるとともに開閉弁23aを備え、供給管路24は中間にポンプ25を備え、このポンプ25と循環槽2との間を個別の供給管路24a、ポンプ25と洗浄槽1との間を共通の供給管路24bとし、個別の供給管路24aには開閉弁24cを設け、共通の供給管路24bについては更に分岐し、一方をスプレーブース11のスプレーノズルに、他方を浸漬部12に連結している。 (もっと読む)


ワーク洗浄装置(1)では、スパイラル状の送りフィンを備えた回転ドラムが同軸状に配置されている。従って、回転ドラムを軸線周りに回転させるだけで、ワークを回転ドラム内で自動的に搬送することができるとともに、回転ドラム間でのワークの受け渡しも容易である。複数の回転ドラムには、筒状体(11)の内面から内側に向かって突出するスパイラル状の送りフィン(12)を備えた洗浄用回転ドラム(10)が含まれている。洗浄用回転ドラム(10)において、送りフィン(12)は、軸線方向における一方側から他方側に向かって内側に向かう高さ寸法が漸次高くなっている。それ故、洗浄用回転ドラム(10)の内部で洗浄液が送りフィン(12)を乗り越えることなどによる撹拌が起こるので、高い洗浄効果を得ることができる。 (もっと読む)


【目的】 少ない処理液により高品質の処理を行い得るようにする技術を提供する。
【構成】 半導体ウエハWは第1の処理部材11に支持ピン2により支持されるようになっており、第1の処理部材11の平坦な対向面1aと半導体ウエハWの被処理面Waとの間には隙間3が形成される。第1の処理部材11に対向する第2の処理部材12と半導体ウエハWの被処理面Wbとの間には隙間4が形成される。それぞれの隙間3,4には、処理液が供給されるようになっており、処理液はそれぞれの隙間3,4の中に毛細管現象により広がり、それぞれの被処理面Wa,Wbが処理される。次いで、それぞれの隙間3,4の中に乾燥用のガスを供給することにより、処理液が除去されるとともに、被処理面Wa,Wbが乾燥処理される。 (もっと読む)


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