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国際特許分類[C30B29/20]の内容

国際特許分類[C30B29/20]に分類される特許

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【課題】費用が安く純度の高いα−アルミナを得るための手段を提供する。
【解決手段】α−アルミナ焼成体を生産する方法のフロー1は、ベーマイトに加水するステップ101、混練するステップ102、脱気するステップ103、押出成形するステップ104、および焼くステップ105を備えている。前記ステップ103およびステップ104において、ベーマイトを脱気し、高圧で押出成形することによりベーマイト内部の気体を排除することができるので、ステップ105において、1回の焼成のみでサファイア単結晶の原料として要求される高い嵩密度を備えたα−アルミナ焼成体を生産することができる。 (もっと読む)


【課題】モリブデンルツボ内のサファイア融液への難溶解物の混入を防止する。
【解決手段】
CZ法によるサファイア単結晶の製造方法であって、モリブデンルツボ14をチャンバー11内の還元性雰囲気中で熱処理し、表面の酸化膜を除去する空焼き工程と、モリブデンルツボ14にサファイア原料を投入し、これを融解することによってサファイア融液21を得る融解工程と、サファイア融液21に浸漬した種結晶を引き上げることによってサファイア単結晶20を得る引き上げ工程とを備える。還元性雰囲気は、水素濃度が10ppm以上5vol%以下の水素雰囲気とする。 (もっと読む)


【課題】モリブデンルツボ内のサファイア融液への難溶解物の混入を防止する。
【解決手段】
CZ法によるサファイア単結晶の製造方法であって、サファイア原料を減圧の不活性雰囲気で熱処理することによって脱ガス処理する脱ガス工程と、サファイア原料をモリブデンルツボ14内で融解することによってサファイア融液21を得る融解工程と、サファイア融液21に浸漬した種結晶を引き上げることによってサファイア単結晶20を得る引き上げ工程とを備える。脱ガス工程では、サファイア原料の表面が500℃以上1000℃以下となるように加熱し、且つ、チャンバー11より排出される排気ガス中の酸素濃度が0.1ppm以下になるまで脱ガス処理を続ける。 (もっと読む)


【課題】モリブデンルツボ内のサファイア融液への難溶解物の混入を防止する。
【解決手段】サファイア融液21を保持するモリブデンルツボ14と、サファイア融液21に浸漬した種結晶を引き上げる引き上げ機構19と、モリブデンルツボ14を囲繞し、軸方向に分割された上部ヒーター15a及び下部ヒーター15bからなる抵抗加熱ヒーター15と、上部ヒーター15a及び下部ヒーター15bの出力をそれぞれ制御するコントローラ23とを備える。本発明によれば、モリブデンルツボ14にかかる熱負荷を微調整することができるため、難溶解物の発生を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】サファイア単結晶の製造時のように2000℃以上の高温での使用環境下において、開封部の形状変化を抑制した耐久性に優れたルツボを提供する。
【解決手段】タングステンまたはモリブデンを主成分とするルツボ本体部とルツボ本体部の側壁部5に融点2100℃以上の金属または合金からなるリング状補強部材3を具備するルツボ1であって、前記リング状補強部材3は、タングステンまたはタングステンを主成分とする合金からなることが好ましく、また、ルツボ本体部の高さL1とリング状補強部材の高さL2の比(L2/L1)が0.001〜1であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】金属坩堝を1000℃以上の高温で使用するための坩堝炉において、高温時の坩堝近傍の雰囲気を制御すると共に、ルツボ内の温度制御の精密化、ルツボの長寿命化が可能となる坩堝炉を提供する。
【解決手段】1000℃以上の高温において、金属坩堝4中で化合物の処理を行うための坩堝炉であって、坩堝4の周辺に耐熱性で着脱可能な薄い緻密質セラミックスからなる第一のスリーブ1を置き、該第一のスリーブ1の外側に断熱材からなる第二のスリーブ2並びに加熱装置3を置いたことを特徴とする坩堝炉である。 (もっと読む)


【課題】入射側部材と出射側部材との間に生じる隙間を減少させることにより、積層部材を確実に密着し、接合不良が起き難く且つ安定したレーザ接合をすることができるレーザ接合装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、複数の透明部材102,104からなる積層部材100の接合領域101にレーザ光110を照射し、積層部材を接合するレーザ接合装置1であって、積層部材を載置する載置部2と、積層部材にレーザ光を出射するレーザ光源ユニット5と、載置された積層部材の一方の面に接する第1の押え部材81であって、レーザ接合時において、積層部材の少なくとも2つの透明部材の合わせ面103とレーザ光とが交わる領域に対して、合わせ面の法線方向に位置する第1押え部材と、載置された積層部材の一方の面と対向する他方の面に接する第2の押え部材80とを備え、第1及び第2の押え部材の少なくとも一方は、積層部材を押圧する、構成とした。 (もっと読む)


【課題】窒化物系化合物をエピタキシャル成長する際に、不規則な反りが発生しない大口径サファイア単結晶基板を提供する。
【解決手段】チョクラルスキー法により、サブグレインや気泡のない直胴部の直径が150mm以上のc軸方位サファイア単結晶体を育成し、これを水平方向に切断・基板加工することにより、平面方向の応力分布が同心円状を呈した6インチ以上の大口径サファイア単結晶基板を得る。この基板は窒化物系化合物をエピタキシャル成長する際に発生する基板の反りが規則的な碗型であり、窒化物系化合物の膜厚や膜組成を容易に均一に制御できるため、LEDの歩留まり向上に優れた効果が得られる。 (もっと読む)


【課題】 CZ法によりc軸サファイア単結晶を引き上げる際に、該単結晶の肩部及び直胴上部に泡群が生じない製造方法を提供する。
【解決手段】 直胴部直径Dのc軸サファイア単結晶の製造方法において、拡径部(肩部)の形成時における拡径部結晶直径をd[mm]、結晶引き上げ速度をL[mm/h]、拡径部半径増加速度をφ[mm/h]としたとき、0.6≦d/D<1.0にある間は、φ<7.0mm/h、かつL×φが55以下の範囲を維持するよう、結晶引き上げ速度及び拡径部半径増加速度を調整し、結晶直径Dに到達後は、所望の直胴長の単結晶体を継続して引き上げることにより、c軸方位のサファイア単結晶体を得る。該製造方法により得られるサファイア単結晶体の肩部及び直胴上部には泡群が形成される確立が極めて低く、該サファイア単結晶体からのLED用サファイア単結晶基板の取得率を向上させることが可能である。 (もっと読む)


【課題】種晶の入れ替えにかかる時間を顕著に短縮し、生産性を向上し、更に繰り返し的な冷却及び再加熱による変形及び寿命減少を防止すること。
【解決手段】本発明のサファイア単結晶成長装置は、アルミナを収納しアルミナが溶融される第1チャンバーであって上面に挿入口が形成されている第1チャンバーと、第1チャンバーの挿入口と連通するように第1チャンバーの上部に設けられた第2チャンバーと、第2チャンバーを通過して第1チャンバー内に下降するか、または第1チャンバーから上昇する種晶ロッドであって終端に種晶が設けられた種晶ロッドと、第2チャンバーの下端に設けられ挿入口を開閉するチャンバー遮断部とを含み、種晶の入れ替えのために種晶ロッドの終端が上昇し第2チャンバーの内部に収納されれば、チャンバー遮断部は、挿入口を閉鎖することを特徴とする。 (もっと読む)


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