【課題】薄膜部の撓みを抑制できる保護装置を提供する。
【解決手段】保護装置は、基板の表面の所定領域を保護する。保護装置は、第１方向に沿って配置された相互に対向する一対の可撓部を含み、基板の表面に接続されて所定領域の周囲を囲うフレーム部と、所定領域と対向するようにフレーム部に張設され、フレーム部によって形成された開口部を閉塞する薄膜部とを備えている。可撓部は、薄膜部側の端面が基板との接続部側に凹んだ湾曲形状を有する。 （もっと読む）

【課題】使用後のフォトマスクからペリクルを容易に除去できるフォトマスクを提供すること。
【解決手段】透明基板上のパターン領域の外周におけるペリクルフレーム装着領域に遮光膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。前記フォトマスクは、ネガ型レジスト用であることが好ましい。また、前記フォトマスクにおける前記ペリクルフレーム装着領域に形成されている遮光膜と前記透明基板とが直接接していることが好ましい。また、前記フォトマスクにおける前記透明基板が、石英ガラス基板であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光(ＥＵＶ光)に対する高い透過性を有し且つ化学的に安定な材料であるシリコン単結晶膜をペリクル膜として備えたリソグラフィ用ペリクルおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のリソグラフィ用ペリクルは、単結晶シリコンのペリクル膜１０を備えており、当該ペリクル膜１０は、外枠部２０ａと該外枠部２０ａの内側領域の多孔部２０ｂ（メッシュ構造）を有する支持部材２０により支持されている。また、ペリクル膜１０の表面の酸化を防止するために、単結晶シリコン膜が外部に露出される部分を被覆する酸化防止膜３０ａ、３０ｂが形成されている。支持部材２０はＳＯＩ基板のハンドル基板を加工することにより得られ、単結晶シリコンのペリクル膜１０はＳＯＩ基板のＳＯＩ層から得られる。ペリクル膜１０は支持部材２０と強固に結合しているから、十分な機械的強度を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】ペリクルからの酸及びアンモニウムイオンの放出が少なく、かつ、ペリクル検出センサーによる検出性に優れるペリクルを提供すること。
【解決手段】アルマイト層を表面に有するアルミニウム製ペリクルフレーム、及び、前記ペリクルフレームに張設したペリクル膜を有し、前記アルマイト層の厚さが、４〜８μｍであることを特徴とするペリクル。前記アルマイト層は、黒色染料を含むアルマイト層であることが好ましい。また、本発明のペリクルは、リソグラフィー用ペリクルであることが好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】対角長が１０００ｍｍ以上の大型合成石英ガラス基板材料を垂直保持した状態で基板材料の表裏面の平坦度及び平行度を測定し、そのデータを基に基板の凸部分及び厚い部分を部分的に除去する大型合成石英ガラス基板の製造方法であって、上記除去が、基板対角長の１５〜５０％の直径を有する第１の加工ツールで加工除去した後、第１の加工ツールより小さい第２の加工ツールで更に加工除去を行うことを特徴とする大型合成石英ガラス基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、大型合成石英ガラス基板材料の平坦度及び平行度を短時間で修正することができ、高平坦度及び高平行度の大型合成石英ガラス基板を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクパターンを保護した状態でフォトマスクからペリクルを外した後に残ったグルーを取り除くことができるペリクル・グルーの除去装置及びその方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、フォトマスクのペリクル跡に残るグルーの内側にマスクパターンを覆うように被せるカバーと、前記カバー内に流体を送る手段と、前記グルーに洗浄液をかける手段とからなり、流体圧により前記カバー内に洗浄液が浸入しないことを特徴とするペリクル・グルーの除去装置の構成とした。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）応力の検査対象である膜を有するフォトマスクブランク又はその製造中間体の表面形状を測定する工程、（Ｂ）検査対象である膜を除去する工程、及び（Ｃ）検査対象である膜が除去された処理基板の表面形状を測定する工程を含む処理により、検査対象である膜の除去前のフォトマスクブランク又はその製造中間体と、検査対象である膜の除去後の処理基板との双方の表面形状を得、それら表面形状を比較することによって、検査対象である膜がもつ応力を評価するフォトマスクブランク又はその製造中間体の検査方法。
【効果】フォトマスクブランクの製造方法を最適化して、光学機能膜や加工機能膜のエッチング加工前後で、表面形状の変化が生じるおそれが極めて低いフォトマスクブランクを製造することができると共に、フォトマスク製造時に表面形状の変化による寸法誤差発生が低減されていることが保証されたフォトマスクブランクが与えられる。 （もっと読む）

【解決手段】フォトマスク用基板に位相シフト膜を成膜し、更に、該位相シフト膜に高エネルギー線を照射する基板形状調整処理を行って得たフォトマスクブランク又はその製造中間体について、基板形状調整処理後のフォトマスクブランク又はその製造中間体の表面形状を測定し、更に、上記フォトマスクブランク又はその製造中間体から位相シフト膜を除去して、位相シフト膜が除去された処理基板の表面形状を測定し、上記各々の表面形状を比較することによって、上記基板形状調整処理した位相シフト膜の応力による位相シフト膜除去前後のそりの変化を評価するフォトマスクブランク又はその製造中間体の検査方法。
【効果】本発明によれば、基板の形状調整処理後の位相シフト膜が与える基板への応力を、より正確に評価することができる。 （もっと読む）

【課題】無機酸の含有量を低減して、高エネルギーの光の照射下においてもヘイズの発生を可及的に防止できるペリクル用支持枠の製造方法、及びこれによって得られるペリクル用支持枠を提供する。
【解決手段】アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム材で形成され、光学的薄膜体を備えてペリクルとして使用されるペリクル用支持枠の製造方法であって、酒石酸を含んだアルカリ性水溶液を用いた陽極酸化処理によりアルミニウム材の表面に陽極酸化皮膜を形成し、有機系染料を用いて染色処理した後、水蒸気により封孔処理してペリクル用支持枠を得る。 （もっと読む）

【課題】大型のマスクを、ハンドリングアームから落下する恐れなく安全に搬送する。
【解決手段】マスク２をハンドリングアーム５０に搭載して搬送するマスク搬送装置に、ハンドリングアーム５０の傾きを調節する傾き調節機構を設け、マスク２を搭載したハンドリングアーム５０を、傾き調節機構により、ハンドリングアーム５０のたわむ方向と反対方向に傾けながら、マスク２を搬送する。マスク２を搭載したハンドリングアーム５０のたわみ量が小さくなり、大型のマスク２が、ハンドリングアーム５０から落下する恐れなく安全に搬送される。 （もっと読む）