【課題】ペリクル膜の張力のばらつきによる不具合が生じず、かつ、ペリクル膜の張力による撓みが小さいペリクルフレーム、及び、このペリクルフレームを用いたペリクルを提供すること。
【解決手段】枠体の対向する少なくとも一対の辺において、両端部より辺中点方向に延在する非貫通の凹部が辺外側面に部分的に設けられていることを特徴とするペリクルフレーム、及び、前記ペリクルフレームにペリクル膜を張設したペリクルであり、好ましくは、一対の長辺のみに前記凹部を設けられ、又は、全辺に前記凹部を設けられている。 （もっと読む）

【課題】 熱変形によるペリクルフレームの変形を抑制し、ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるペリクルフレームおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 事前に所定温度で加熱処理しておくことで、リソグラフィー工程時の温度変化によるフレーム変形が実質的に生じないようにすることを特徴とする。温度変化によるフレーム変形が平坦度３μｍ以下であること、前記加熱処理温度が１４０〜２５０℃であること、ヤング率が１〜８０ＧＰａである材料で構成されたものであること、がそれぞれ好ましい。 （もっと読む）

【課題】ペリクルの輸送時に、ペリクル収納ケースに収納されているペリクルに対して塵埃等の異物が付着することを抑制し得る梱包体を提供する。
【解決手段】梱包箱と、該梱包箱の中に収納されるペリクル収納ケースを該梱包箱内において保護する緩衝材とを含み、
前記緩衝材は、ペリクル収納ケースの上面、又は底面を支持する伸縮可能な支持膜と、
前記支持膜が貼張される平面視略多角形の枠体と、を有し、
前記支持膜は、前記枠体の少なくとも１辺上において、当該辺１辺上の少なくとも中央部を挟んだ位置において実質的に固定され貼張されていることを特徴とするペリクル収納ケースの梱包体。 （もっと読む）

【課題】 ＡｒＦ露光光を用いた光透過型リソグラフィにおいて、表面反射率および裏面反射率が低減された、さらなる微細化に対応可能なマスクブランクを提供する。
【解決手段】 合成石英からなる基板１１上に、スパッタリングターゲットにＴａを用い、キセノン（Ｘｅ）と窒素（Ｎ）の混合ガス雰囲気で、ＤＣマグネトロンスパッタにより、ＴａＮ（膜組成比 Ｔａ：８４．０原子％，Ｎ：１６．０原子％）からなる遮光層１２を４３ｎｍの膜厚で成膜する。次に、遮光層１２が成膜された基板１１を枚葉式ＲＦスパッタ装置内に設置し、遮光層１２の上に、ＴａＳｉＯ混合焼結ターゲットを用い、アルゴン（Ａｒ）ガス雰囲気で、ＲＦマグネトロンスパッタにより、ＴａＳｉＯ（膜組成比 Ｔａ：２７．４原子％，Ｓｉ：５．９原子％，Ｏ：６６．７原子％）からなる表面反射防止層１３を１２ｎｍの膜厚で成膜する。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層がゲル組成物からなることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル、好ましくは、前記ゲル組成物のＡＳＴＭ Ｄ−１４０３で規定される針入度が５０以上である。 （もっと読む）

【課題】マスクにペリクルを貼り付けた後に、マスクの平坦度がフラットになるようにしたペリクル貼付用器具、フォトマスク用支持器具、ペリクル貼付装置およびペリクル貼付方法、フォトマスクを提供する。
【解決手段】フォトマスク用支持器具４は、枠状のペリクルフレーム３ｂの開口部に貼り渡されたペリクル膜３ａを備えるペリクル３を、そのペリクルフレーム３ｂをマスク２に押し当てて取着する際にマスク２を支持するものである。フォトマスク用支持器具４は、フォトマスク２を支持する支持面４ａを有している。フォトマスク用支持器具４は、マスク２と接する面が３次元的に歪んだ形状を有している。すなわち、支持面４ａに、ペリクルフレーム３ｂからの押し付け力が不均一となるように（ペリクルフレーム３ｂからの押し付け力が局所的に作用するように）凹部４ｂが設けられている。 （もっと読む）

【課題】 ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなペリクルフレームを提供すること、及びこのようなペリクルフレームを有するリソグラフィ用ペリクルを提供する。
【解決手段】 平坦面上に設置したペリクルフレームに、荷重をかけた状態で加熱処理する工程を含むペリクルフレームの製造方法であり、効率的に平坦度１５μｍ以下のペリクルフレームが得られる。 （もっと読む）

【課題】転写時における基板の自重たわみによる平坦度の悪化を緩和させ、転写時のマスク基板の平坦度を改善することができるペリクル及びペリクル貼付方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、マスク基板に圧着して貼り付けるペリクルフレームと、前記ペリクルフレームに張られたペリクル膜と、を備え、前記ペリクルフレームは、前記マスク基板に貼り付けることで歪応力を発生し、前記歪応力は、前記マスク基板の自重たわみを相殺することを特徴とするペリクルであり、前記マスク基板の自重たわみを相殺することから、マスク基板の平坦度を改善することが出来る。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクス用ガラス基板に発塵のおそれが少ないマーカを形成する。
【解決手段】マスクブランクス用ガラス基板１２の製造方法であって、ガラス基板１２表
面における転写に影響のない領域であって、かつ鏡面状の表面にレーザ光を照射させて、
マスクブランクス用ガラス基板１２を識別、又は管理するためのマーカとして用いられる
凹部２０を形成するマーキング工程を備える。また、ガラス基板１２に関する基板情報を
準備する工程を更に備え、ガラス基板１２に関する基板情報と、マーカとを対応付けする
。 （もっと読む）

【課題】ペリクルからのアウトガスや保管時の環境から吸着するガスを低減することにある。
【解決手段】ペリクル１を内部に保持するチャンバー３と、このチャンバー３内に雰囲気ガスを導入するガス導入系５と、このガス導入系５を制御することにより、雰囲気ガスを所要のガス流量及び所要のガス圧力に調節してチャンバー３内に導入するコントローラ７とを備えたペリクルの脱ガス装置である。 （もっと読む）