【課題】マスクからペリクルを剥離する際に糊残りが発生しにくく、且つ、耐荷重性に優れたペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル枠と、該ペリクル枠の一端面にペリクル膜を有し、他端面に粘着剤を有するペリクルであって、該粘着剤が、炭素数４〜１４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルとエポキシ基との反応性を有する官能基を有するモノマーとの共重合体である（メタ）アクリル酸アルキルエステル共重合体と、多官能性エポキシ化合物との反応生成物を含み、且つ、該粘着剤の引っ張り速度３０ｍｍ/ｍinでの引っ張り試験によって得られる２３℃における３００％モジュラス値が５０〜３５０mN/ｍｍ^２であるペリクル。 （もっと読む）

【課題】製造工程の簡略化や製造に必要なエネルギーの低減が可能であり、しかも接着層に発泡がないために歩留りが良好なペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル膜１１と、前記ペリクル膜が一方の端面に接着層１２を介して貼り付けられたペリクルフレーム１３と、前記ペリクルフレームの他方の端面に設けられた粘着層１４を有するペリクル１であって、前記接着層が硬化時に加熱を必要としない二液混合硬化型接着剤を使用して加熱をせずに形成し、硬化時に加熱を必要としない二液混合硬化型接着剤はシリコーン樹脂である。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク上のヘイズの発生を効果的に防止するペリクルを提供。
【解決手段】ペリクル枠と、前記ペリクル枠の一端面にペリクル膜を有し、他端面に粘着剤を有するペリクルであって、前記粘着剤が重合開始末端を備えた重合体と重合開始剤を含む粘着剤組成物からなる粘着剤であって、前記粘着剤中の重合開始剤の全重量が粘着剤全重量に対し8ｐｐｍ以下であることを特徴とするペリクル。 （もっと読む）

【課題】気圧調整孔から発生するか、又はこれを通過する可能性のある異物を低減し得るリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】外周面から内周面へ貫通する気圧調整孔が設けられたペリクルフレームを有し、前記気圧調整孔の深さ方向に垂直な断面の断面積Ｓ（ｍｍ²）と前記気圧調整孔の前記深さ方向の長さＬ（ｍｍ）との比Ｓ／Ｌが、０．２５ｍｍ以上５．０ｍｍ以下であることを特徴とし、好ましくは、前記断面積Ｓが０．５ｍｍ²以上１０．０ｍｍ²以下である、リソグラフィ用ペリクル。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクにペリクルを装着する際、ペリクル膜の膨らみが防止されると共にパーティクルの混入も防止できるペリクル装着方法を提供する。
【解決手段】本発明によるペリクル装着方法は、クリーンルーム（１）内にマスク（１３）を鉛直方向に延在するように支持する工程と、マスクのパターン面と対向するようにペリクル（２３）を配置する工程とを具える。そして、クリーンルームの天井側から床面に向けて、加熱された清浄空気をマスクにほぼ平行にダウンフローとして流出させながらマスクに対してペリクルを圧着する。ペリクル空間内に封入された加熱された清浄空気は、その後の冷却工程において体積が収縮し、ペリクル膜の膨らみが防止される。また、ペリクル保持装置に設け整流板（３０）によりダウンフローがペリクル膜と衝突するように方向転換させることにより、ペリクル膜の膨らみを防止することもできる。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって使用をしても、透過率の低下を抑制することができるリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 フレーム６と、フレーム６の一方の表面に接着されたペリクル膜７を有し、ペリクル膜７が、耐クリープ性の低い接着剤よりなる接着剤層によって、フレーム６の一方の表面に接着され、時間経過とともに、ペリクル膜７の張力が徐々に低下するように構成されたリソグラフィー用ペリクル５。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィー用ペリクルに使用されるペリクル膜であって、均一な膜厚を有するペリクル膜を形成することができるペリクル膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板５の面内の温度分布が同心円状になるように、基板５の温度を制御し、スピンコーティング装置によって、基板５の中心部に、ペリクル膜材料を含む溶液３０を滴下し、基板５を回転させて、遠心力により、基板５の中心部に滴下された溶液３０を基板５上で展開して、基板５上に塗膜を形成し、溶液３０中の揮発成分を蒸発させて、基板５上に、リソグラフィー用ペリクルに使用されるペリクル膜を形成するペリクル膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ペリクル膜の張力のばらつきによる不具合が生じず、かつ、ペリクル膜の張力による撓みが小さいペリクルフレーム、及び、このペリクルフレームを用いたペリクルを提供すること。
【解決手段】枠体の対向する少なくとも一対の辺において、両端部より辺中点方向に延在する非貫通の凹部が辺外側面に部分的に設けられていることを特徴とするペリクルフレーム、及び、前記ペリクルフレームにペリクル膜を張設したペリクルであり、好ましくは、一対の長辺のみに前記凹部を設けられ、又は、全辺に前記凹部を設けられている。 （もっと読む）

【課題】 熱変形によるペリクルフレームの変形を抑制し、ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるペリクルフレームおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 事前に所定温度で加熱処理しておくことで、リソグラフィー工程時の温度変化によるフレーム変形が実質的に生じないようにすることを特徴とする。温度変化によるフレーム変形が平坦度３μｍ以下であること、前記加熱処理温度が１４０〜２５０℃であること、ヤング率が１〜８０ＧＰａである材料で構成されたものであること、がそれぞれ好ましい。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスクとペリクルフレームの間から、粘着剤層を容易に除去し、フォトマスクから剥離することができるペリクルを提供する。
【解決手段】 ペリクルフレーム１１の一方の表面１２に、ペリクルフレーム１１の内側から、ペリクルフレーム１１の幅の８０％以下の領域にのみ、フォトマスクに付着させるための粘着剤層１６が形成され、粘着剤層１６が形成された領域の外側のペリクルフレーム１１に、ペリクルフレーム１１のペリクル膜２０を接着する他方の表面１３に向けて、傾斜する傾斜面１５を備えたペリクル。 （もっと読む）