【課題】カラーフィルタ基板を連続して製造するとき、現像ムラ、照度の不均一で同一箇所に発生するパターン太りと、成り行きでどこに発生するのかわからない基板周辺部のパターン太りを同時に低減し所定の太さのパターンを形成するフォトマスクの提供を目的とした。
【解決手段】表面に感光性レジスト膜を塗布した基板にパターン露光を行うフォトマスクにおいて、前記感光性レジストの塗布膜厚に対応して、あるいは前記感光性レジストの現像ムラに対応して、前記現像ムラを生じた部位の光透過量を低減したことを特徴とするフォトマスクである。 （もっと読む）

【課題】グラファイト製成型容器の使用に起因する内部異物の発生や泡の巻き込みが解消されたＴｉＯ₂を含有するシリカガラスの成型方法の提供。
【解決手段】グラファイト製成型容器の成型面側の表面、および、該成型容器内に設置されるＴｉＯ₂を含有するシリカガラスの表面の少なくとも一方に、ＳｉＯ₂粒子を含む懸濁液を塗布した後、前記グラファイト製成型容器内にＴｉＯ₂を含有するシリカガラスを設置し、前記成型容器内で前記ＴｉＯ₂を含有するシリカガラスを、不活性ガス雰囲気下、１５００℃以上の温度で成型して、所望の形状の成型体を得ることを特徴とするチタニアドープト石英ガラスの成型方法。 （もっと読む）

【課題】ペリクル膜の劣化具合によらず、容易にペリクル膜の傷や破れを検知することが可能なペリクル検査装置を提供する。
【解決手段】原版３に設置されたペリクル膜２の損傷を検知するペリクル検査装置１であって、ペリクル膜２の固有振動数を計測する計測手段５、６を有し、該計測手段５、６が計測した固有振動数の値に基づいて、ペリクル膜２の損傷を検知する。 （もっと読む）

【解決手段】バーナーから形成される高温火炎ガス域内に石英ガラス形成原料を供給して、この石英ガラス形成原料から石英スートを生成させ、このスートから合成石英ガラスを製造する方法において、バーナー全体及び合成石英ガラスの成長部位を共に囲繞する囲繞管を設けると共に、囲繞管を覆うように、かつ高温火炎ガス域の下流部及び合成石英ガラスの成長部位を共に覆うよう排気用風洞を設け、これら囲繞管及び風洞内に浮遊スートの排出方向に沿って浮遊スート排出用気体を流通させ、この排出用気体と共に浮遊スートを含む高温火炎ガス流を排出する合成石英ガラスの製造方法。
【効果】未固着の浮遊スートがインゴットの溶融成長面へ付着することを防止することができ、成長中の石英ガラス中に発生する泡の生成を防止することができ、バーナーから供給される酸水素流量の低減ができて、エネルギー効率の向上が図れる。 （もっと読む）

【課題】マスクにペリクルを貼り付ける際に、マスクの平坦度を任意に制御することができるペリクル貼付装置およびペリクル貼付方法を提供することを目的とする。
【解決手段】マスクにペリクルを圧着して貼り付けるペリクル貼付装置であって、前記ペリクルを所定の圧力で制御しながら前記マスクに押し当てるペリクル押圧制御部と、ペリクル圧着時において前記マスクに接して局所的に圧着応力を加えるマスク基板保持器具を複数個具備するマスク基板保持部と、前記ペリクルを貼り付けた状態で前記マスクの平坦度測定を行う平坦度測定部とを少なくとも備え、前記マスク基板保持器具は前記マスクに対して垂直方向に伸張する先端部を有し、その伸張量はそれぞれ独立して制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、傷が発生せず、洗浄効果も高い研磨した石英ガラス基板のスクラブ洗浄方法を提供する。
【解決手段】２流体ジェット洗浄によりスクラブ洗浄時にスクラブ材にからんで基板に傷をつけるような異物を除去し、その後、スクラブ材として３０％圧縮応力が２０〜１００ｋＰａ、２０ｋＰａにおける圧縮弾性率が５０〜２００ｋＰａであるスクラブ材を用いて、スクラブ洗浄することで、スクラブ洗浄による傷の発生を抑制し、なおかつ基板の主表面のみならず端面まで細かい付着物を除去する。 （もっと読む）

【解決手段】ペリクル膜とペリクルフレームと粘着剤層とを有し、前記ペリクル膜が前記ペリクルフレームの上端面に張設され、前記粘着剤層が、前記ペリクルフレームを基板に貼り付け可能に、ペリクルフレームの下端面の全周に亘って設けられてなるペリクルであって、前記粘着剤層の幅方向の断面の形状が逆ドーム型であり、かつ、該断面の幅（Ｗ）と高さ（Ｈ）との比（Ｈ／Ｗ）が０．１３以上１．０以下であることを特徴とするペリクル。
【効果】本発明によれば、ペリクルを確実にフォトマスクに貼り付け、その状態を長期間に亘って安定的に維持することができる。 （もっと読む）

【課題】軟Ｘ線領域等の短波長を使用して形成される、より集積度の高い新世代の半導体回路の製造工程で使用されるマスクの運搬時及び保管時において、マスク表面に貼り付けるペリクル膜の使用を不要にすると共に、塵、埃、静電気、及びガスの発生を防止すること。
【解決手段】本発明のマスクケースは、マスク１０を収容する内ケース上部１及び内ケース下部２と、この内ケースを運搬中に振動を防止するための上緩衝材３，下緩衝材４と、全体を収納する出荷ケース上部５及び出荷ケース下部６と、を備えて構成する。内ケース上部１の左右両端には、内ケース下部２を係合するための留め具（クリップ）１１を取り付ける。内ケース下部２の上面周辺部には、マスク１０の下面周辺部と係合するパッキン２１を取り付ける。内ケース上部１の平板部には、該平板部を貫通するガス抜き穴１２を設ける。ガス抜き穴１２の下部には、ガスを吸着できる吸着膜を貼り付ける。 （もっと読む）

【課題】 ペリクル枠に気圧調整用の貫通孔が設けられ、当該貫通孔にフィルタ部材が取り付けられたペリクルにおいて、その通気性を高め、フィルタ部材の取り付けを容易とし、フィルタ部材からの発塵を抑え、さらにペリクル取り扱い時にフィルタ部材の接触、破損を防止することを課題とする。
【解決手段】 貫通孔を（１）ペリクル外部に開口しフィルタ部材を収容する凹形状の外側段部と、（２）前記外側段部の底面に開口する凹形状の内側段部と、（３）一端が前記内側段部の底面に開口し他端がペリクル内部に開口する通気孔によって構成する。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなペリクルフレームを提供すること、及び、このようなペリクルフレームを有するリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】ペリクルフレームバーの断面が、上辺及び下辺が平行な基本四辺形の両側辺に、四辺形状の窪みを有した形状であることを特徴とするペリクルフレーム、好ましくは、前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な辺を有した長方形であるペリクルフレーム、及び、前記ペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。 （もっと読む）