【課題】新規な保護膜が形成されたレジストパターン形成用部材を提供する。
【解決手段】保護膜付きレジストパターン形成用部材は、酸化物を含む表面を有し、レジストパターン形成のためレジスト膜に密着して用いられるレジストパターン形成用部材と、レジストパターン形成用部材上に形成され、直鎖状で主鎖がパーフルオロポリエーテルを含み末端基に水酸基を含む両親媒性分子を含む保護膜とを有する （もっと読む）

【課題】ペリクルの搬送性を向上し、且つ粘着剤層の劣化を抑制できるペリクル梱包体及びペリクル梱包方法を提供する。
【解決手段】ペリクル梱包体１では、ペリクル２における粘着剤層８の層面８ａと載置面５ａとの成す角度が０°よりも大きく９０°よりも小さくなるように、ペリクル２が支持体５によって支持されている。このように、ペリク２ルを載置面５ａに対して傾斜した状態で保持することにより、ペリクル２を水平に保持する構成に比べて、梱包箱４の幅寸法を小さくすることができる。そのため、搬送スペースを確保できると共に持ち運び易くなり、搬送性の向上を図ることができる。また、ペリクル２を垂直に保持する構成に比べて、ペリクル２の自重による粘着剤層８への負荷を軽減できるので、粘着剤層８の経時劣化を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】有機ガスの吸着性能に優れた粘着剤を有するペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル枠と、該ペリクル枠の一端面にペリクル膜を有し、他端面に粘着剤を有するペリクルであって、該粘着剤のトルエンによる重量膨潤度が５倍以上であることを特徴とするペリクル。 （もっと読む）

【解決手段】硫黄をドープしたチタニアドープ石英ガラス部材。
【効果】本発明によれば、ＥＵＶリソグラフィの実用機に適したゼロ膨張となる温度を有し、広い低熱膨張温度域を有する、硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材、その製造方法、及びこの硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材からなるＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板等のＥＵＶリソグラフィ用光学部材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】所望する個数の標準粒子が付着した感度検定用のペリクルを簡便に得ること
【解決手段】ペリクル膜面の異物を検査する装置に用いる感度検定用の標準粒子付着ペリクルの作製方法。（１）ペリクル膜面に予め標準粒子を散布して標準粒子付着ペリクルを調製する工程、（２）得られた標準粒子付着ペリクルの前記粒子が付着した表面に、実質的に粒子が付着していない清浄なペリクル膜を密着させる工程、（３）互いに密着したペリクル膜を引き剥がす事によって清浄なペリクル膜面側に標準粒子を転写させる工程、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクへの異物付着を招くことなく周囲雰囲気の圧力変化時に対応できる通気性を有し、かつ、フォトマスクに貼り付ける時に巻き込んだ空気によるペリクル膜の中央部の膨れを速やかに解消して平坦性を元の状態に回復させることができるペリクルの取付方法を提供する。
【解決手段】枠体２と、枠体２の下縁面に積層された粘着材層３と、枠体２の上縁面に展張接着されたペリクル膜４と、を備え、フィルター８を取り付けた第一の貫通孔５と、フィルター又はシール材を取り外し可能に取り付けた第二の貫通孔６と、を枠体２の側面に有するペリクル１をフォトマスク７に取り付ける方法であって、ペリクル１を粘着材層３でフォトマスク７に貼り付け、第二の貫通孔６からフィルター又はシール材を取り外し、ペリクル膜４の中央部の膨れ量が所定の値以下に回復した後に第二の貫通孔６にフィルター又はシール材を取り付ける。 （もっと読む）

【課題】 ペリクル膜にバリがないペリクルおよびそのようなペリクルの製造方法を提供する。
【解決手段】 ペリクルフレームのペリクル膜貼り付け用接着面及びレチクル貼り付け用粘着面とフレーム内外側面とのなす角部にＣ面取りがなされており、該ペリクル膜貼り付け用接着面とフレーム外側面とのなすＣ面取りの寸法をＣ：０．０１ｍｍより大きくＣ：０．１ｍｍ以下としたことを特徴とする。前記ペリクルフレームの材質が、表面をアルマイト処理したアルミニウム合金であることが好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】ペリクル膜とペリクルフレームと粘着剤層とを有し、前記ペリクル膜が前記ペリクルフレームの上端面に張設され、前記粘着剤層が前記ペリクルフレームの下端面にペリクルフレームを基板に貼り付け可能に設けられてなるペリクルであって、更に、前記ペリクルフレームの内壁面に、主鎖にパーフルオロ構造を有するパーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物の硬化物からなる内壁粘着剤層を有することを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。
【効果】長期使用時に粘着剤層にＡｒＦエキシマレーザー光が照射されても、分解ガスの発生が少なく、ヘイズの発生が少ないペリクルを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって使用しても、分解ガスの発生が少なく、フォトマスクのパターン領域上への固体異物の析出を防止することができ、かつ、フォトマスクをペリクルフレームに固定している粘着層に含まれる粘着剤の劣化を抑制することができるリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 ペリクルフレーム３と、ペリクルフレーム３の一方の面に接着されたペリクル膜１と、ペリクルフレーム３の他方の面に形成された粘着層４を有し、粘着層４が、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されたことを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。 （もっと読む）

【課題】ペリクルフレームに設けられた１以上の気圧調整孔から発生する、又は、これを通過する可能性のある異物を低減し得るリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】ペリクルフレームに設けられた１以上の気圧調整孔の内周面がペリクルフレーム内側に対して開いた形状であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル、好ましくは、前記気圧調整孔の内周面に粘着剤層を有するリソグラフィ用ペリクル。 （もっと読む）