【課題】マスク原板の環境計測時におけるダストの発生を抑制できるマスク原板を提供すること。
【解決手段】マスク原板１は、基板２と、基板２上に設けられたパターン３と、基板２に設けられ、基板２の環境を計測するための計測手段４と、基板２に設けられ、計測手段４に供給する電力を発電により発生する発電手段７とを具備している。 （もっと読む）

【課題】ハンドリング性が良好で、しかも使用時にエアパスの発生を抑制し得る大型ペリクル用枠体を提供する。
【解決手段】開口部を覆うように大型ペリクル膜を展張支持する大型ペリクル用枠体２であって、前記開口部４の周縁を形成する枠部は、当該枠部の軸方向に沿って３箇所以上の接合部を有する大型ペリクル用枠体である。ペリクル枠体が３箇所以上の接合部を有することで、分割された枠体部分の夫々が補強材の役目を果たし、相乗的に枠体の撓みを低減することが可能になる。ペリクル枠体の全体的な剛性が高まることとなり、撓みを抑えられるため、ハンドリング治具に大型ペリクルを固定して検品する際に様々な方向へ位置を変化させてもペリクルがハンドリング治具から落ち難い。剛性がより高まることで、フォトマスク等に貼り付けた際に貼付精度がよく、かつその精度が維持されるため、エアパスが生じ難い。 （もっと読む）

【課題】使用環境に応じて，収納された基板に異物が付着することを効果的に防止する。
【解決手段】基板収納装置１００内に外気を取り込む給気部１１０と，給気部に対向して配置された排気部１２０と，給気部と排気部との間に設けられ，これらの間を連通する連通孔１４２を有する基板載置板１４０と，給気部に設けられた給気フィルタ１１２と，給気部又は排気部に設けられたファン１２２とを備え，基板収納装置１００内の状態を検出する状態センサと，パーティクル帯電装置と，温調装置とのいずれか又は２つ以上の組合せを装着孔１５０に着脱自在に設けた。 （もっと読む）

【課題】高精細かつウェハーへの転写特性への悪影響が小さいフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板１の一方側表面に金属層２と第１レジスト層３とをその順に積層し、第１レジスト層３をパターニングする。その第１レジスト層３をマスクとして、開口領域である領域Ａの金属層２をエッチングする。その金属層２をマスクとして、エッチングにより透明基板１に凹部を形成する。金属層２を剥離した後、透明基板１の凹部も含めて表面全面に遮光層４を電解メッキ法を用いて形成する。透明基板１の表面と遮光層４の表面が面一になるように平坦化する。熱酸化処理を施して遮光層表面を酸化させ反射防止膜５形成する。以上の工程により、基板１上に設けられた凹部に遮光層４が形成され、透明基板１と遮光層４の表面は面一であり、遮光層４の表面にのみ反射防止膜５を有するフォトマスクが得られる。 （もっと読む）

【課題】ペリクルフレームを変形させることのないペリクルハンドリング治具を提供すること。
【解決手段】半導体装置を製造する際に用いるリソグラフィーにおいて使用される、ペリクルを取り扱うためのハンドリング治具。該治具は、取っ手、該取っ手の先端とＴ字状に接続する主軸、該主軸とこの字型を形成する如く、該軸の両端から該軸と直交する如く前方に突出した2本のアーム、及び、該アームの内側側面にそれぞれ2個ずつ設けられたペリクルフレーム保持部からなる。また、前記アームはアーム間隔を調整できるように左右に開閉操作可能に構成され、前記保持部は、前記アームが閉じたときに、ペリクルフレームにおける４つのコーナーのフレーム側面をつかむ如く設けられている。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光のような短波長のレーザー光を用いて長期間使用しても、フォトマスク上へのヘイズの析出を防止しうるリソグラフィ用ペリクルを提供する。また、そのリソグラフィ用ペリクルに張設するペリクル膜の製造方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ用ペリクル１は、枠状のペリクルフレーム４の一方の開口枠にリソグラフィ用のレーザー光を透過するペリクル膜２が張設されており、ペリクルフレーム４の他方の開口枠がフォトマスク１０に貼着可能なリソグラフィ用ペリクル１であって、ペリクル膜２が、異物粒子１６を通過不能でガス分子１５を通気可能な孔サイズで貫通する通気孔７を有しているものである。 （もっと読む）

【課題】露光装置にセットしたときの透光性基板の平坦度をシミュレーションにより高精度に算出してマスクブランク用基板を製造する。
【解決手段】シミュレーション工程Ｓ３において、主表面形状の情報とマスクステージの形状情報とに基づき、捩じれ変形を考慮した撓み微分方程式を用いて、透光性基板を露光装置にセットしたときの複数の測定点の高さ情報をシミュレーションして得て、このシミュレーションして得た高さ情報に基づき、平坦度算出工程Ｓ４にいて透光性基板を露光装置にセットしたときの当該透光性基板の平坦度を算出する。この平坦度が仕様に適合するか否かを選定工程Ｓ４で判定して、平坦度が仕様に適合する透光性基板をマスクブランク用基板として用いる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク形状の補正機能を備えた露光装置に対応した平坦度を持つマスクブランク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明においては、基板の主表面における実測領域内のチャック前主表面形状を測定し、基板のチャック前主表面形状とマスクステージの形状に基づいて、基板から作製されたフォトマスクを露光装置にセットしたときにおける基板のチャック後主表面形状をシミュレーションにより得て、基板について、チャック後主表面形状の補正領域内で第１の方向に沿う断面形状に近似する第１近似曲線を算出し、第１近似曲線から近似曲面を算出してチャック後主表面形状から差し引く補正を行い、補正後主表面形状を算出し、補正後主表面形状の補正領域内での平坦度が、所定閾値以下であるものを選定する。 （もっと読む）

【解決手段】ガラス形成原料から酸水素火炎によりシリカ微粒子を生成し、これを回転している耐熱性基体上に堆積させて多孔質シリカ焼結体を形成し、これを熱処理炉内で真空下又は雰囲気ガス下で加熱により透明ガラス化して、合成石英ガラス部材を製造する方法において、熱処理炉内に回転する複数本の回転軸を設け各回転軸上に耐熱性の円筒管を据えた中に耐熱性基体及びこれに堆積された多孔質シリカ焼結体を仕込み、各々の回転軸を独立に又は同期に回転させながら、複数本の円筒管の全体を囲繞し、且つ、円筒管の高さよりも低いヒーターで加熱して、複数の多孔質シリカ焼結体を同時に透明ガラス化することを特徴とする合成石英ガラス部材の製造方法。
【効果】本発明により、透過性が高い合成石英ガラス部材を効率よく製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 ハンドル、ペリクル固定部材、補強材などの機能部品をペリクル収納容器に取り付けた際でも、容器内部を清浄に保つことができるペリクル収納容器を得ることを課題とする。
【解決手段】 ペリクルを載置するペリクル収納容器本体２０と、ペリクルを被覆すると共にペリクル収納容器本体２０と周縁部で嵌め合い係止する蓋体からなるペリクル収納容器において、樹脂製の容器本体２０あるいは蓋体に、取っ手、ペリクルの固定部材、補強材のいずれかからなる機能部品がネジ締結手段により取り付けられているとともに、容器本体２０あるいは蓋体の内側にオスネジ及びメスネジの表面が露出していないペリクル収納容器である。 （もっと読む）