【課題】エキシマレーザーのフォトマスクへの照射はフォトマスクの回路パターン面のパターン膜を改質させ、素子線幅を変動させてしまう不都合が生じる。また、一度納品したフォトマスクがフォトマスクメーカーに戻り再度洗浄される再洗浄品は、回路パターン膜が改質しているため、洗浄により素子線幅が更に変動する不都合が生じる。更に、洗浄による回路パターン膜の破壊や回路パターン膜と膜の間に異物がはまり込む等の理由から納品時の外観品質維持が極めて困難となる。
【解決手段】石英基板1aの回路パターン膜1b上に、石英もしくは金属とシリコンの金属間化合物等からなる透明な保護膜1cを回路パターン膜1bの膜厚以上の高さで成膜し、保護膜成膜時に形成される表面凹凸を研磨することにより除去してフォトマスク1を製造する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、マスクを露光光で照明して、マスクからの露光光で基板を露光する。露光装置は、マスクを照明するための露光光を射出する光学部材と、ミストを供給可能なミスト供給口を有し、マスクにミストを供給して、マスクの温度調整を実行する温度調整装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ペリクル枠体が、ペリクル膜を展張して接着する時に枠体が歪むことなく、さらに、ペリクルをマスクに貼着後もマスクの自重による撓みに対してペリクル枠体自身が追従するペリクル枠体の提供。
【解決手段】矩形のペリクル枠体であって、該ペリクル枠体の歪み性αが０．０６％以下、下記、一般式（１）で表される該ペリクル枠体各辺の追従性βが３ｍｍ以上、該ペリクル枠体長辺の追従性βが３２ｍｍ以下であり、且つ、枠体の長辺の長さが１４００ｍｍ以上、２１００ｍｍ以下、そして、該ペリクル枠体の内側の面積が１５０００ｃｍ^２以上、であるペリクル枠体。
β＝（１／ペリクルの撓み量）×厚み×幅 （１） （もっと読む）

【課題】凹凸の大きい遮光層を有するフォトマスクにおいても、表面が滑らかで、耐傷性、防汚性に優れ、光学特性への影響が抑制されたフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基材上に、パターン状の遮光性レリーフ層と、フッ素化合物を含有する表面保護層形成用組成物を塗布してなる表面保護層と、を有するフォトマスクである。ここで、表面保護層の膜厚は、５０ｎｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ペリクルはペリクルフレームの粘着剤をフォトマスクに圧力をかけて押し当てることで貼り付けが行われる。フォトマスクはその光エネルギーによって昇温し、その熱により粘着剤が膨張したり、軟化したりしてフォトマスクとペリクルの位置関係にズレが生じてしまう。
【解決手段】フォトマスクに生じた熱を速やかに外部に放熱し、フォトマスクに貼着したペリクル１が、露光により昇温したフォトマスクの熱によって位置ズレを起こすのを防止するため、粘着層１３に金属粉末等の熱伝導性充填剤を配合する。 （もっと読む）

【課題】金属異物を除去することによりガラス基板の傷の発生を低減できるガラス基板の加工装置、ガラス基板の製造方法、その方法により製造された磁気ディスク用ガラス基板またはフォトマスク用ガラス基板、及び繰り返しガラス基板を加工する方法を提供する。
【解決手段】上定盤と下定盤との間に保持したガラス基板をスラリーまたはクーラントを供給しながら加工するガラス基板の加工装置であって、スラリーまたはクーラントが循環する循環経路中に剥離可能な被覆材で被覆された磁石を備える。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の面内膜厚均一性の保証エリア（実パターン形成領域）が拡大されても、所定の保証エリアで所望のレジスト膜の面内膜厚均一性（１００Å以下）を得るマスクブランクの製造方法を提供する。
【解決手段】四角形状の基板２上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液１３を滴下し、前記基板２を回転させ、滴下されたレジスト液１３を前記基板２上に広げるとともに、前記基板２上のレジスト液１３を乾燥させて、前記基板２上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。ここで、前記レジスト塗布膜を形成する工程において前記基板２が回転している間、前記基板２の上面に沿って基板２の中央側から外周方向に気流１９を発生させるように排気手段１８による排気を行い、基板２の回転により基板周縁部に形成されるレジスト液１３の液溜まりが、基板中央方向へ移動するのを抑制する。 （もっと読む）

【解決手段】ペリクルが載置されるトレイと、トレイを覆ってトレイと共にペリクルを収容する閉空間を形成するカバーとを備え、トレイが、ペリクルフレームの粘着剤塗布端面の一部に設けられた粘着剤の未塗布領域とのみ接触することによってペリクルを支持するペリクルフレーム支持体と、ペリクルフレームをペリクルフレーム支持体上で固定する保持機構とを有し、ペリクルフレーム支持体が、基体部と、ペリクルフレームと接する緩衝部とで構成され、両者が硬さの異なる部材の接合体で形成されたペリクル収納容器。
【効果】粘着剤層がペリクル収納容器に接触することなくペリクルが収納容器内で固定され、セパレータを使用せずとも粘着剤層を保護することができるため、保管中にセパレータを必要としない。 （もっと読む）

【解決手段】合成石英ガラスブロックを複数個積み重ねて、これらを雰囲気炉内で熱処理する合成石英ガラスの熱処理方法であって、上記合成石英ガラスブロックが多角柱又は円柱であって、その高さがこの多角柱の底面の対角線よりも短い又は円柱の底面の外径よりも短いものであり、これらブロック間に空隙を設けてブロック同士を接触させずに積み重ね、熱処理する合成石英ガラスの熱処理方法。
【効果】本発明によれば、例えば、エキシマレーザ、特にはＡｒＦエキシマレーザ用、更にはＡｒＦ液浸技術等に使用されるフォトマスク用合成石英マスク基板材用途、所謂レチクル材用に使用され、良好な透過率及び均一な透過率分布を有し、しかも劣化の少ない上、更には複屈折率の低いエキシマレーザ用合成石英ガラス基板、また高精細ディスプレイ用の光部品用基板等の素材となる合成石英ガラスを提供できる。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層の気泡含有率が１０〜９０容量％であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル、好ましくは、前記粘着層に含有される気泡の数平均直径が１０〜２００μｍである。 （もっと読む）