【課題】 ハンドル、ペリクル固定部材、補強材などの機能部品をペリクル収納容器に取り付けた際でも、容器内部を清浄に保つことができるペリクル収納容器を得ることを課題とする。
【解決手段】 ペリクルを載置するペリクル収納容器本体２０と、ペリクルを被覆すると共にペリクル収納容器本体２０と周縁部で嵌め合い係止する蓋体からなるペリクル収納容器において、樹脂製の容器本体２０あるいは蓋体に、取っ手、ペリクルの固定部材、補強材のいずれかからなる機能部品がネジ締結手段により取り付けられているとともに、容器本体２０あるいは蓋体の内側にオスネジ及びメスネジの表面が露出していないペリクル収納容器である。 （もっと読む）

【課題】 マスクに貼り付けてもマスクに歪みを与えることの少ないリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 ペリクルフレームの一端面に膜接着剤が設けられ、その接着剤によりフレームにペリクル膜が張接され、もう一方のフレーム端面に粘着層が設けられ、前記接着剤層の表面の平坦度が１０μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ペリクルフレームに接着剤、粘着剤を自動塗布装置を用いて塗布する工程において、塗布前に塗布位置を確認する手段を備えたペリクルの製造方法を提供する。
【解決手段】 ペリクルフレームの端面に接着剤又は粘着剤を自動塗布装置を用いて塗布する工程を含むペリクルの製造方法であって、
前記接着剤又は粘着剤を塗布する工程において、
塗布操作を受けるペリクルフレームの端面の位置情報を取得し、
取得した位置情報によって塗布開始位置と塗布方向とを塗布プログラムに取り込み、
ペリクルフレームの端面に接着剤又は粘着剤を塗布することを特徴とする。
取得する位置情報が３次元の位置情報であること、また、位置情報を画像から取得すること、さらに、３次元の位置情報のうち平面方向の位置情報を画像から取得し、上下方向の位置情報を電磁波又は音波によって取得すること、さらにまた、画像をカメラによって取得すること、が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ペリクル膜にシワが発生するなどの不具合が生じることを効果的に防止できるペリクルの製造方法を提供する。
【解決手段】一対の長辺と一対の短辺を有し、一対の長辺がそれぞれ直線形状をなし、一対の短辺が、それぞれ、短辺の中央部を含み、外側に対して凸状の円弧形状をなした中央領域と、中央領域の両側に位置し、外側に対して凹状の円弧形状をなした中間領域と、短辺の両端部近傍の直線状をなした端部近傍領域１２ｃを備えたペリクルフレーム１０の一方の表面に、ペリクルフレーム１０の一対の長辺に沿った方向の張力が、ペリクルフレーム１０の一対の短辺に沿った方向の張力よりも大きくなるように、その張力が調整されたペリクル膜２０を貼り付け、前記ペリクルフレームの前記一対の短辺を直線形状に変形させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィー用ペリクルに使用されるペリクル膜であって、均一な膜厚を有するペリクル膜を形成することができるペリクル膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のペリクル膜の製造方法は、スピンコーティング装置によって、回転する基板５の中心部に、ペリクル膜材料を含む溶液を滴下して、基板５上に塗膜を形成し、塗膜中の揮発成分を蒸発させて、基板上に、リソグラフィー用ペリクルに使用されるペリクル膜を形成する方法であって、塗膜中の揮発成分を蒸発させる工程で、基板５の面内温度分布を制御することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを損傷させることなく、異物を除去することができる異物除去装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る異物除去装置１０は、ペリクルフレーム２３を介してペリクル２２が装着されたマスク２０のペリクル２２上の異物を除去する異物除去装置であって、ペリクル２２側から超音波を照射して、ペリクル２２の近傍を腹とする定在波を発生させる超音波発生手段１１を備える。また、ペリクル２２と異物２５との間の静電気を除去するイオナイザ１２をさらに備える。 （もっと読む）

【解決手段】フォトマスクの保持部が位置する正方形形状の基板の表面の周縁をなす辺のうち対向する２辺の各々の辺から内側２ｍｍと１０ｍｍの間で、かつ各々の辺の長さ方向両端から２ｍｍの部分を除いた範囲に位置する二つの帯状領域において、任意の共通基準平面から各帯状領域内の各座標への距離に基づき算出される二つの最小自乗平面の法線同士がなす角度が１０秒以下であり、二つの帯状領域の高さが０．５μｍ以下であることを特徴とするフォトマスク用ガラス基板。
【効果】ＩＣ等の製造の際に重要な光リソグラフィ法で使用されるシリカガラス系等のフォトマスク用ガラス基板において、フォトマスク露光時のマスクステージにフォトマスクを真空チャック等により固定したときのフォトマスクの全体の表面形状変化が抑制されたガラス基板を、従来の検査工程と同様の工程で生産性よく提供することができる。 （もっと読む）

【課題】高感度で検査を行うことができる検査装置、検査方法、及びパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかるペリクル装着装置は、マスク４０に仮貼りされたペリクルフレーム４１に対応する圧着位置まで移動可能に設けられた圧着ヘッド２０と、圧着ヘッド２０が圧着位置に移動した状態で、ペリクルフレーム４１と反対側の面のマスク端に配置される押圧ブロック２４と、圧着ヘッド２０が圧着位置に移動した状態で、ペリクルフレーム４１と対向する押圧ロッド２６と、ペリクルフレーム４１をマスク４０に対して圧着するよう、マスク４０のパターン面と垂直な方向における押圧ロッドと押圧ブロック２４との距離を近づける吸着パッド２９と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】マスクが空中浮遊粒子によって汚染することから保護するシステムおよび方法が用いられる。
【解決手段】これらのシステムおよび方法は、２部分カバー内に固定されるレチクルを提供する工程を包含する。２部分カバーは、レチクルを汚染から保護するために用いられる除去可能な保護デバイスを備える。カバーは、ポッドまたはボックスの内側で保持され得る。ポッドまたはボックスは、カバーをリソグラフィシステムを通って大気セクションから真空セクションに移送するために用いられ得る。真空セクションにある間、除去可能なカバーが露光プロセス中に移動され得る。この露光プロセス中に、レチクル上のパターンがウェハ上に形成され得る。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィシステムにおいて用いられるレチクルを保護する取外し可能なカバーを提供すること。
【解決手段】 取外し可能なカバーは、フレームと、上記フレームによって支持される薄膜とを含む。上記薄膜は、検査波長に対して透過性であるため、所定位置にある上記取外し可能なカバーを用いて、上記レチクルを検査することが可能である。上記取外し可能なカバーが所定位置にあり、かつ、リソグラフィによる露光を行う際に取外し可能である場合、この取外し可能なカバーは上記レチクルを保護する。上記取外し可能なカバーは、少なくとも１つのレチクルファスナをさらに含み得る。上記取外し可能なカバーが所定位置にある場合、上記少なくとも１つのレチクルファスナは、上記レチクルに力を加えて、これにより、上記取外し可能なカバーが上記レチクルに対して動くのを防ぐ。 （もっと読む）