【課題】周囲の環境を汚染することがなく、均一塗布性に優れた、ペリクルフレームの通気孔内壁に粘着剤を塗布する方法を提供する。
【解決手段】通気孔を有するペリクルフレームの外側面が、水平又は４５度以下に傾斜するようにフレームを保持し、有機溶媒により１０質量％以下に希釈された粘着剤を、前記通気孔に向けて滴下するペリクルフレームの通気孔内壁に粘着剤を塗布する方法。前記有機溶媒が、酢酸エチルとヘキサンを、その混合比が3：７〜５：５の範囲で混合してなる混合溶媒であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラスの製造方法であって、フッ素濃度を１０００質量ｐｐｍ以上とすることが出来る方法を提供する。
【解決手段】（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を、基材に堆積、成長させて、多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）前記多孔質ガラス体を、反応槽内にて、４００℃以下のフッ素単体（Ｆ_２）含有雰囲気下に保持して、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）前記フッ素を含有した多孔質ガラス体を、ガラス化炉内にて、透明ガラス化温度まで加熱して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程とを有し、前記工程（ｂ）において、前記反応槽内にフッ素単体（Ｆ_２）を連続的または断続的に供給し、かつ前記反応槽内のガスを連続的または断続的に排出する。 （もっと読む）

【課題】高価なＥＵＶ露光用のマスクブランクの再利用が容易な反射型マスクブランクの再生方法および該反射型マスクブランクを用いた高品質パターンを有する反射型マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、ＥＵＶ光を反射する反射層と、反射層上にＥＵＶ光を吸収する吸収層と、吸収層上にハードマスク層とを少なくとも設けたＥＵＶ露光用の反射型マスクブランクの再生方法であって、ハードマスク層をエッチングしてハードマスクパターンを形成する工程と、ハードマスクパターンのパターン寸法計測および外観欠陥検査を行う工程と、パターン寸法計測および／または外観欠陥検査の値が所定の仕様値の範囲外であり、寸法補正および／または欠陥修正が困難とされるとき、ハードマスクパターンをエッチングして除去する工程と、吸収層上に再度ハードマスク層を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】円筒面状にパターン面を有するマスクのパターン面を保護すること。
【解決手段】所定の中心軸線周りに円筒面状にパターン面が設けられたマスクを収容するマスクケースであって、マスクを収容する収容空間を形成し、収容空間に収容されたマスクのパターン面に対向する窓部が設けられたケース本体と、パターン面がケース本体に接触しないようにマスクの移動を制限する制限部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】シリカを用いてガラス基板の鏡面研磨を行っても基板表面に微小な凸状の表面欠陥が発生するのを抑えたマスクブランクス用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカを含むスラリーを供給しながら、研磨パッド７とガラス基板１とを相対的に移動させてガラス基板１の主表面を鏡面に研磨する研磨工程を有するマスクブランクス用ガラス基板１の製造方法である。ここで、前記ガラス基板１に供給する前記スラリーの温度を２５℃以下に制御する。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属のガラス基板の表面への拡散を確実に防止することができるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスクを提供すること。
【解決手段】マスクブランクス１０は、アルカリ金属を含有するガラス基板１、このガラス基板の表面上に形成された拡散防止層２、拡散防止層２上に形成された遮光層３、遮光層３上に形成された反射防止層４を備える。ガラス基板の表面が研磨され、その表面粗さＲａが２ｎｍ以下とされた。表面粗さＲａが２ｎｍ以下であっても、拡散防止層２が設けられることにより、ガラス基板１からアルカリ金属が他の層へ拡散することを抑制し、マウスニップ欠陥の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】ペリクルをマスクに貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因するマスクの変形を極力低減することができるリソグラフィ用ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスクを提供すること。
【解決手段】ペリクル膜と、前記ペリクル膜が一端面に張設され他端面が開放されたペリクルフレームと、前記ペリクルフレームをマスクにシールするための粘着層とを有し、前記粘着層が、表面にマスク画像を有するマスクの側面と粘着可能に前記ペリクルフレームの内周面に設けられたことを特徴とするペリクル。 （もっと読む）

【課題】 大型のペリクルを収納するペリクル収納容器で、安全に、運搬することができるペリクルの収納容器を提供する。
【解決手段】 ペリクルの収納容器１０は、ペリクルを載置するペリクル収納容器本体１１と、その周縁部がペリクル収納容器本体１１の開口部に嵌合することによって、ペリクルをペリクル収納容器１１本体との間に収納可能な蓋体１２と、ペリクル収納容器本体１１の底部に設けられた６つ脚部１３とを備え、脚部１３が、ペリクル収納容器１０を搬送する搬送手段の回動可能な載置台に嵌合可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】 粘着剤もしくは接着剤からの分解物がペリクルとレチクルに囲まれた空間に放出されない構造のペリクルを提供する。
【解決手段】 リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、ペリクルをマスクに固定する為の粘着剤層のペリクル内部に面した側に非粘着性のゴム層を配置し、ペリクル外部に面した側に粘着性のゴム層を配置したことを特徴とする。また、リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、ペリクルをマスクに固定する為の粘着剤層のペリクル内部、および外部に面した部分に非粘着性のゴム層を配置し、それらの層の間に粘着性のゴム層を配置したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】治具に装着させる際のこすれが少なく、且つ、ハンドリング時の落下の可能性が少ない大型ペリクルを提供する。
【解決手段】大型ペリクル１は、開口部４を有するペリクル枠体２と、ペリクル枠体２の開口部４を覆うように展張されたペリクル膜３とを備え、ペリクル枠体２の少なくとも一辺が、１４００ｍｍ以上の長さで且つ当該一辺の内側への撓み量と長さとの比が０％よりも大きく０．３％未満である。 （もっと読む）