【課題】 印刷版最表面層部分に異なる樹脂組成物が選択的に配置された液状感光性樹脂多層化フレキソ印刷版を製造するための成型工程において、画像領域に応じて印刷版最表面層部分を成す液状感光性樹脂を塗工する際に生じる作業性、作業時間、不要な製版資材の問題を解消する、塗工樹脂の厚み精度に優れた塗工技術の提供。
【解決手段】 液状感光性樹脂を用いた多層化フレキソ印刷版の製造方法の成型工程において、整膜機能を有する可とう性ノズルと可とう性ボトルから成る容器に充填された液状感光性樹脂を画像形成領域に帯状に塗布することを含むことを特徴とする液状感光性樹脂多層化フレキソ印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜上に形成された保護膜上のｗａｔｅｒ−ｍａｒｋとレジスト膜への液浸溶液の侵入とを防止するレジストパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供。
【解決手段】本発明の一形態のレジストパターン形成方法は、液浸露光によりレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法であって、被処理基板上にレジスト膜を形成する工程であり、前記レジスト膜と液浸溶液との接触角が第１の角度である工程（ＳＴ１０２）と、前記レジスト膜上に第１の保護膜を形成する工程であり、前記第１の保護膜と前記液浸溶液との接触角が前記第１の角度よりも大きい第２の角度である工程（ＳＴ１０３）と、前記第１の保護膜上に第２の保護膜を形成する工程であり、前記２の保護膜と前記液浸溶液との接触角が前記第２の角度よりも小さい第３の角度である工程（ＳＴ１０４）と、液浸露光により前記レジスト膜に潜像を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ワークに設けられた液状材料の被膜から溶媒を除去する際、ワークの表面の温度を略均一にすることができ、均一な膜厚の（平坦度の高い）膜を形成することができる溶媒除去装置および溶媒除去方法を提供する。
【解決手段】溶媒除去装置１は、液状材料の被膜３１が設けられたワークを支持するワーク支持手段と、前記ワークを加熱する加熱手段と、前記ワークを介して前記加熱手段と反対側に設けられ、前記被膜３１が設けられている部位の前記ワークの表面の温度が略均一になるように前記ワークを冷却および／または加熱して、前記ワークの温度分布を調整する温度均一化手段６とを備え、前記温度均一化手段６により前記被膜３１が設けられている部位の前記ワークの表面の温度を略均一にしつつ、前記加熱手段により前記ワークを加熱して、前記被膜３１から溶媒を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 本発明は、電子回路を形成する工程において、レジスト膜表面より発生する酸を捕集するシートを用いることを特徴とする電子回路基板の製造方法を提供することにある。
【構成】本発明は、少なくとも一方の表面が金属層である基材表面へ化学増幅型ポジ型レジスト膜を形成し、露光、必要に応じてベーク処理、現像、必要に応じてベーク処理、エッチング、剥離を行う電子回路形成工程において、特に露光後のレジスト膜と接する面の合紙として酸を捕集するシートを用いることを特徴とする電子回路基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高解像性、高感度等の優れた特性を有するマイクロマシン分野のマスク材、またはマイクロマシン分野、半導体パッケージ、プリント基板分野のめっきモールド等の用途に有用である化学増幅ポジ型レジスト組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明は、（Ａ）一般式（Ｉ）


［式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、同一または異なって、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリール等を表し、Ｘは、ＯまたはＮＲ（式中、Ｒは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表す）を表す］で表される基を有する重合体、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物および（Ｃ）有機溶剤を含有することを特徴とする、膜厚５〜１５０μｍのレジストを形成する化学増幅ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、量産性に富む簡易な方法で、光ディスク基板に形成されるピットの高密度化を図ることができるレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 ポジ型のレジストパターンの形成方法においては、酸の発生した領域より小さい領域で分解反応が起こるようにベーキング工程においてベーキング温度及びベーキング時間を設定し、ネガ型のレジストパターンの形成方法においては、酸の発生した領域より小さい領域で架橋反応が起こるようにベーキング工程においてベーキング温度及びベーキング時間を設定した。特に、最大露光量の４０％以上８０％以下の露光量によって発生する酸の量以上で、前記分解反応又は架橋反応が起こるようにベーキング温度及びベーキング時間を設定することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能であり、しかも、高い解像度と基体と感光層との密着性とを高度に両立したパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、プリベーク処理した後、該感光層に対し露光が行われることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 所望の良好な形状を有するレジストパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 被処理基板上にレジスト膜を塗布する工程（Ｓ１３）と、レジスト膜をプリベークする工程（Ｓ１４）と、プリベークされたレジスト膜上に脱水縮合ポリマーからなる保護膜を形成する工程（Ｓ１５）と、保護膜と露光用レンズとの間に液体を介在させた状態でレジスト膜を露光する工程（Ｓ１６）と、レジスト膜を露光した後、保護膜を除去する工程（Ｓ１８）と、保護膜を除去した後、露光されたレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程（Ｓ１９）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 レジスト組成物自体の組成を変えることなく、しかも使用することによって得られるレジストパターンの品質低下を伴わずに、効率よくディフェクトを減少させうる新規なリソグラフィー用現像前処理剤を提供する。
【解決手段】 分子構造中に窒素原子を有する水溶性若しくはアルカリ可溶性ポリマーの溶液からなるリソグラフィー用現像前処理剤とする。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ工程に適用されうるフォトレジスト用のトップコーティング組成物、及び液浸リソグラフィ工程によるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基またはスルホン酸基を含有するポリマー、塩基及び純水を含む溶媒からなるトップコーティング組成物である。本発明によるトップコーティング組成物で構成されたトップコーティング膜は、ＴＡＧを利用するか、または水に浸漬させる方法により水に溶けない不溶性膜に形成されうる。このように得られた不溶性のトップコーティング膜をバリヤーとして使用して液浸リソグラフィ工程を行うことによって、液浸媒体を通じた露光中にフォトレジスト成分が液浸媒体に溶解されることを防止できる。 （もっと読む）