【課題】半導体基板や液晶表示装置等を製造する際のナフトキノンジアジドとノボラック樹脂とを含有するポジ型フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー工程において、ナフトキノンジアジドの配合量を少なくしても、現像時の膜減率が小さく、高解像度のレジストパターンを得ることができ、更に、レジスト膜の透明性が高いため露光時の感度が高く、コスト面でも有利な回路パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】ノボラック樹脂１００重量部に対してナフトキノンジアジドを３〜２５重量部含有するポジ型フォトレジストを用いたフォトリソグラフィーによる回路パターンの形成方法であって、基板表面にポジ型フォトレジストを塗布してレジスト膜を形成する工程（１）、前記レジスト膜を露光する工程（２）、前記レジスト膜をその表面温度が１４０℃以上となるように、かつ、前記レジスト膜の表面温度が底面温度よりも高くなるように加熱する工程（３）、及び、前記レジスト膜をアルカリ水溶液中で現像する工程（４）を有する回路パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 短時間で簡単且つ効果的に被処理基板表面の均一性を向上でき、そのため基板と種々の薄膜間の密着性を改善でき、レジスト膜の現像不良の防止やパターン形状の改善を実現できる微細加工方法を提供する。
【解決手段】 被処理基板１３０上に遠紫外から真空紫外領域の波長で半値幅３０ｎｍ以下の単色光１３９を全面照射処理する。単色光は±１５％以内の照度分布で照射するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、製造業用に適したフレキソグラフ印刷プレート用等に改良されたスリップフィルム組成物等を提供する。
【解決手段】本発明の改良されたスリップフィルム組成物は、１つ又はそれ以上の溶剤、１つ又はそれ以上の重合体バインダー、層状シリケート化合物、そして選択的に界面活性剤から構成される。そして、スリップフィルム組成物中の充填剤として層状シリケート化合物を使用することによって、改良された剥離性と、改良された画像形成性を有しているスリップフィルム化合物である。したがって、本発明のスリップフィルムは、溶剤現像又は熱的現像されてなるフレキソグラフ印刷プレートに使うことができる。 （もっと読む）

【課題】溶融物
【解決手段】光減衰組成物およびそれを使用する方法が記載される。光減衰組成物を基体上の放射エネルギー感受性物質に選択的に適用する。複合体に適用される化学線を、光減衰組成物によりコートされない放射エネルギー感受性物質の一部が化学的に変化する。光減衰組成物は少なくともＵＶ範囲の光を減衰し、かつ水溶性または水分散性である。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒と、有機酸及び／又は無機酸とを含有してなる放射線硬化性組成物であり、非プロトン性溶媒がエーテルアセテート系溶媒又はエーテル系溶媒を含むものである。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られ、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｓｉ原子に結合しているＨ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ及びＣ原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．９０〜０．２０である樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）成分：非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）シロキサン樹脂と、（ｂ）光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒と、（ｄ）硬化促進触媒とを含有してなるシロキサン樹脂は、下記一般式（１）で表される化合物を加水分解縮合して得られる。
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ…（１） （もっと読む）

【課題】酸素遮断層を有さず、ラジカル重合により潜像形成を行う印刷版原版を用いる際にも、操作が簡便で、ランニングコストの大幅な上昇を招くことのなく、ダイレクト製版に好適に用い得る印刷版作製方法およびそのための装置を提供すること。
【解決手段】露光直前に、酸素遮断性が大きく、感光層に対し不活性で、かつ、露光波長に対し透明な酸素遮断性液体を前記印刷版の感光層に塗布し、その後露光することを特徴とする印刷版作製方法およびこれを具体化した印刷版作製装置。露光終了後に、前記酸素遮断性液体を前記印刷版の感光層から除去することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能な溶媒と、（ｄ）成分：アルカリ金属類、並びに（ｄ−１）窒素含有化合物と（ｄ−２）アニオン性基含有化合物及びハロゲン原子から選ばれる少なくとも一種とから形成される塩、からなる群より選ばれる１種以上の硬化促進触媒とを含有してなるものである。 （もっと読む）

【課題】 支持体フィルム上に感光層を含む複数の層を形成する際に、重ね合わされた層の界面にスジ等の障害が発生することを防止すると共に、巻芯の形状の感光層への写り込みを防止し、保護フィルムの浪費の抑制することを目的とする。
【解決手段】 ドライフィルムレジスト１０の製造ラインでは、支持体フィルム１０Ａが搬送されている間に、塗布部１６における感光性樹脂組成物溶液の塗布、乾燥部１８における感光性樹脂組成物溶液の乾燥、塗布部２０における水溶性ポリマー溶液の塗布、乾燥部２２における水溶性ポリマー溶液の乾燥、塗布部２４における感光性樹脂組成物溶液の塗布、乾燥部２６における感光性樹脂組成物溶液の乾燥を逐次連続して行う。 （もっと読む）