本発明は、感光性レジストをコートした基板上に構造物を投影する機能を持つ投影対物レンズを備え、浸漬液が投影対物レンズの光学要素とレジストをコートした基板の間に配置される投影露光装置に関する。浸漬液として、飽和の環式炭化水素または多環式炭化水素、例えば、１２個までの炭素原子を含むシクロアルカン、２〜６個の環を有する飽和多環式炭化水素、橋かけ多環式炭化水素、環状エーテル、これらの物質の誘導体を使用することができる。
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【課題】資源が有効に利用でき、容易に製版を行うことが可能である、フレキソ印刷用刷版およびその製版方法を提供する。
【解決手段】ＵＶ感光乳剤層上に保護フィルムを有するフレキソ印刷用刷版であって、ポジ画像あるいはネガ画像を該保護フィルム上に印刷することを特徴としてなる。さらに、前記保護フィルム上に、インクジェットプリンタによりポジ画像あるいはネガ画像を印刷することを特徴とする。さらに、前記保護フィルム上に、インク受容層を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光前にレジスト膜表層を親水性化することにより、液浸露光時にレジスト界面の浸液におけるマイクロバブルの発生を防止する。
【解決手段】 シリコン基板１上に導電膜３を形成し、導電膜３上にレジスト膜２を形成する。シリコン基板１を活性酸素雰囲気に曝しながらレジスト膜２に真空紫外光４を照射することにより、レジスト膜２の表層に酸化層５を形成して、レジスト膜２表層を親水性化する。露光装置の投影レンズとレジスト膜２との間に浸液２７を満たし、該浸液２７を介してレジスト膜２に対して露光光２３を照射する。 （もっと読む）

【課題】 アルミパッドが腐食することなくアルカリ溶液で処理する工程が可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 半導体装置の製造方法は、アルミパッドを片面に有する半導体ウエハーをアルカリ溶液で処理する工程を有する半導体装置の製造方法であって、アルカリ溶液で処理する工程の際に、半導体ウエハー１のアルミパッドが形成された面の周囲と、半導体ウエハーの側部と、半導体ウエハーのアルミパッドが形成された面と反対の面とを被覆部材４ａ〜４ｃで被覆している。 （もっと読む）

【課題】 煩雑な工程で形成されるレジストパターンを用いずに微細なパターンを形成し得る方法を提供する。
【解決手段】 基材の被エッチング層表面に重合開始剤を含む下地活性層を選択的に形成する工程と、有機モノマーをリビングラジカル重合させて前記下地活性層に重合体層を形成する工程と、前記重合体層をマスクとして前記被エッチング層を選択的にエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体からなる感光性樹脂組成物と新規なポジ型パターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）ポリイミド前躯体、（Ｂ）エポキシ基含有化合物、（Ｃ）感光剤剤を必須成分として含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物であり、このポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布して乾燥し、露光した後、加熱して（Ｃ）成分からの発生酸による露光部分のみをアルカリ水溶液で溶解してポジ型パターンを現像しイミド化熱処理をするポジ型パターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 高密度及び高解像度を有するプリント配線板を得るために、製造時にささくれ部あるいは樹脂片の発生を十分に抑制する感光性フィルムを提供する。
【解決手段】 上記課題を解決する本発明の感光性フィルムは、支持層１０と感光層３０との間にクッション層２０を備えてなる感光性フィルム１００であって、クッション層２０が、モノマー単位の異なる２種以上のポリマーを含有し、かつ１０００％以下の破断伸びを示し、ポリマーのうち、少なくとも１組のポリマーのメルトフローレートの差が２００ｇ／１０分以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 パターン精度に優れ、パターニング工程も繁雑とならない応力の少ない感光性ポリイミドパターンを形成する。
【解決手段】 金属導体３２上に感光性ポリイミドパターン３８を形成する方法であって、下記の（Ａ）〜（Ｅ）の工程をこの順に行う。
（Ａ）金属導体３２上にエステル結合型感光性ポリイミド前駆体組成物を塗布してエステル結合型感光性ポリイミド前駆体層３３を形成する工程、
（Ｂ）前駆体層３３の上に、イオン結合型感光性ポリイミド前駆体組成物を所望膜厚まで塗布してイオン結合型感光性ポリイミド前駆体層３４を形成する工程、
（Ｃ）マスク３５を介して露光し、マスクパターンを潜像３６として前駆体層３３及び３４に転写する工程、
（Ｄ）現像処理する工程、及び
（Ｅ）前記現像処理後の前駆体層３３及び３４をキュアして、ポリイミドパターン３８を形成する工程 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）シロキサン樹脂と、（ｂ）光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒と、（ｄ）硬化促進触媒とを含有してなるシロキサン樹脂は、下記一般式（１）で表される化合物を加水分解縮合して得られる。
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ…（１） （もっと読む）

【課題】酸素遮断層を有さず、ラジカル重合により潜像形成を行う印刷版原版を用いる際にも、操作が簡便で、ランニングコストの大幅な上昇を招くことのなく、ダイレクト製版に好適に用い得る印刷版作製方法およびそのための装置を提供すること。
【解決手段】露光直前に、酸素遮断性が大きく、感光層に対し不活性で、かつ、露光波長に対し透明な酸素遮断性液体を前記印刷版の感光層に塗布し、その後露光することを特徴とする印刷版作製方法およびこれを具体化した印刷版作製装置。露光終了後に、前記酸素遮断性液体を前記印刷版の感光層から除去することが好ましい。 （もっと読む）