【課題】１，０００Ｊ/ｍ^２以下の露光量でも十分な残膜率が得られ、２００℃未満のポストベーク温度においても、密着性、ラビング耐性に優れ、さらに高い弾性回復率を有する表示素子用スペーサーまたは保護膜を形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、（ａ２）前記（ａ１）以外の不飽和化合物の共重合体、〔Ｂ〕エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、〔Ｃ〕感放射線性ラジカル発生剤、並びに〔Ｄ〕特定のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩を含有する。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、および密着性に優れ、ドライフィルム保存時の脱色が起こらず、アルカリ性水溶液によって、現像しうる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）光重合開始剤：０．０１〜３０質量％、（ｄ）塩基性染料：０．００１〜０．３質量％及び、（ｅ）下記式（Ｉ）で表される少なくとも一種の化合物：０．０１〜０．８質量％を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】


（式中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、Ｈ又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、これらは同一であっても相違してもよい。） （もっと読む）

【課題】液晶用カラーフィルタの製造効率を高め、歩留りを向上させる。
【解決手段】透明基板３にブラックマトリクス１０を形成し、その上に部分的に重なり合うようにマイクロカラーフィルタ１２を形成する。ブラックマトリクス１０の開口端１０ａから膜厚が略均一になる平坦部１０ｂとの間で膜厚を漸増させる。膜厚が漸増する領域の断面形状線が上凸の曲線部分Ｐ１、Ｐ３と、下凸の曲線部分Ｐ２を含む。曲線部分Ｐ１、Ｐ３の双方に接する共通の接線を越えないようにブラックマトリクス１０の膜厚をコントロールする。 （もっと読む）

【課題】光触媒を利用し、親水・撥水パターンを有するパターン形成体であって、親水性部分と撥水性部分とが、十分なコントラストをもって形成されたパターン形成体を提供すること。
【解決手段】本発明は、基材上に、光触媒含有層と、前記光触媒含有層の上層においてパターン化された、金属酸化物被膜を有していてもよい金属層と、前記金属層の上層に形成された撥水性薄膜層と、を有するパターン形成体を提供する。本発明によれば、撥水性部分と親水性部分とが、十分なコントラストをもって形成されたパターン形成体を提供することができる。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリに可溶になる繰り返し単位を有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料により基板上にレジスト膜を形成し、加熱処理後に露光し、現像して第１のレジストパターンを形成し、この上にヒドロキシ基を有する架橋性の高分子化合物を含む溶液からなるパターン表面コート材を塗布し、架橋して該高分子化合物の架橋膜で覆い、その上に第２のポジ型レジスト材料を塗布し、露光し、現像して第２のレジストパターンを形成するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジレジストパターン間のスペース部分にパターンを形成するダブルパターニング方法であって、パターン表面コート材を塗布し、第１レジストパターンがレジスト溶媒と現像液に溶解するのを防止することによって、第１のパターン間のスペースに第２のパターンを形成することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】上面（基板に接する面の反対側の露出面）の撥インク性に優れ、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられたパターン画像を形成できる画像形成方法を提供する。
【解決手段】撥インク性化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて基板上に感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、前記露光後の感光性樹脂層を、ＪＩＳ Ｒ３２５７に記載の方法に準拠し測定された前記露光後の感光性樹脂層上面との接触角Ａが８０°以下である現像液を用いて現像してパターン画像を得る現像工程と、を有する画像形成方法。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性の高い微細パターンを形成させるための組成物と、その微細パターンを形成させる方法の提供。
【解決手段】シラザン結合を有する繰り返し単位を含んでなる樹脂と、溶剤とを含んでなる微細パターン形成用組成物とそれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液晶用カラーフィルタの製造効率を高め、歩留りを向上させる。
【解決手段】透明基板３にブラックマトリクス１０を形成し、その上に部分的に重なり合うようにマイクロカラーフィルタ１２を形成する。両者がオーバーラップする部分に大きな突起を生じさせず、かつブラックマトリクスの端縁で遮光性が劣化したり膜剥がれが生じないようにブラックマトリクス１０の断面形状を調節する。この調節のために、ポストベーク前の薄膜材料層に適切な奥行き長さをもったアンダーカット部分が形成されるように、プリベーク温度及び、パターン露光後の現像処理の条件を設定する。 （もっと読む）

【課題】 有機ポリマー樹脂を基板上にパターン加工、硬化を行った後、得られたパターンを構成する有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、簡便な方法で有機ポリマー中に含まれる不純物を低減する方法を提供する。
【解決手段】 基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、下記（１）〜（３）のいずれかの処理を行うことによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法である。
（１）１００℃以上の温度で加熱処理を行う。
（２）塩基性水溶液で洗浄する。
（３）酸系水溶液で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク等の遮光材料の製造に好適であり、表面の平滑性が高い金属パターン材料が得られる製造方法、及び、該製造方法により得られた金属パターン材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）ガラス基板上に、金属粒子との相互作用を形成しうる官能基、或いは、金属イオン又は金属塩との相互作用を形成しうる官能基を有し、且つ、少なくとも該ガラス基板に片末端で直接化学結合したポリマーからなるポリマー層を形成する工程と、（Ｂ）前記ポリマー層上にレジストパターンを形成し、該レジストパターンの形成領域及び非形成領域のいずれか一方の領域におけるポリマー層に、金属粒子を含有する領域をパターン状に形成する工程と、を有することを特徴とする金属パターン材料の製造方法、及び該製造方法により得られた金属パターン材料。 （もっと読む）