【課題】反射鏡への有機物物質の吸着をできるだけ少なくしてカーボン被膜を形成しにくくし、光学特性の劣化を抑え、オーバホールまでの寿命を長くしたＥＵＶ露光装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板（２、３）上に露光転写するための複数の反射鏡を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、２つ以上の反射鏡（Ｍ５、Ｍ６）の多層膜に電圧を印加する電圧源（１１１１、１１１２）を備え、前記２つ以上の反射鏡それぞれの多層膜の、予想される有機物付着量に応じて、印加する電圧の大きさを変化させるように構成したことを特徴とする露光装置である。 （もっと読む）

【課題】反射鏡への有機物物質の吸着をできるだけ少なくしてカーボン被膜を形成しにくくし、光学特性の劣化を抑え、オーバホールまでの寿命を長くしたＥＵＶ露光装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡（Ｍ１−Ｍ６）を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つの反射鏡を外部と絶縁した状態で保持することを特徴とする露光装置である。 （もっと読む）

【課題】 高速でＳｎターゲットをプラズマ生成部に供給でき、かつ、デブリの発生を極力抑制することができ、さらには、１３．５ｎｍ近傍の発光スペクトルが鋭くできるＬＰＰ方式極端紫外光光源を提供すること。
【解決手段】 液体ＳｎＨ₄ 供給部２は、液体ＳｎＨ₄ を加圧する加圧・冷却室２ａと、液体ＳｎＨ₄ を液滴あるいは液体ジェットとしてチャンバ１内に供給するためのノズル部２ｂを有する。液体ＳｎＨ₄ は、加圧・冷却室２ａで加圧され、ノズル部２ｂから液体ジェットまたは液滴としてチャンバ１内に噴出される。噴出したＳｎＨ₄ の液体ジェットあるいは液滴はチャンバ１内の真空中を進み、レーザビーム照射部Ｂに到達する。ここで、レーザ装置５から出射され集光されたプラズマ生成用レーザビームが照射され、プラズマが生成される。これにより、１３．５ｎｍのＥＵＶ光が得られる。 （もっと読む）

【課題】 走査のため放射線源と検出器との間に物品を移動させるクレーンシステムに隣接して配置された放射線源および検出器を具備してなる放射線走査システムを提供する。
【解決手段】 放射線源および／又は検出器はクレーンシステムにより支持させても、あるいはその近傍に配置させてもよい。好ましくは、放射線源および検出器はクレーンシステムにより支持させるか、又はクレーンシステムにより画成される輪郭内に配置させる。この放射線走査システムは船舶運搬貨物などの運搬貨物を、船舶に対する積み下ろしの際に走査するのに特に適している。物品を検査する方法も同じく開示されている。
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【課題】キャッピングレイヤ成膜時に島状に成長しやすい物質であっても、一様な厚みに成膜することを実現する光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】投影露光装置に使用される光学素子の製造方法であって、光学素子の表面に耐酸化性膜（１０７）を実使用状態より厚く成膜し、その後に成膜した前記耐酸化性膜の一部を残して除去することにより一様な厚みの耐酸化性膜（１０７）を成膜することを特徴とする光学素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】
カーボン付着による光学素子の反射特性の劣化を抑制し、光学素子の特性を長期間にわたって良好に維持することができる露光装置を提供すること。
【解決手段】
イオン化ガスＩＧが、ジェット状に真空容器８４内にくまなく行き渡り、真空容器８４中に浮遊する劣化要因粒子ＨＰに衝突する。この際、イオン化ガスＩＧが有する電荷の一部を劣化要因粒子ＨＰに与えることで、劣化要因粒子ＨＰが帯電する。一方、電源装置８９により所望の電圧が捕集電極８８に印加される。これにより、劣化要因粒子ＨＰは、捕集電極８８側即ち排気装置８５の近傍に引き寄せられて捕集電極８８を通過し、排気装置８５を介して真空容器８４外に排出される。 （もっと読む）

【課題】 Ｓｎ等の放射種に起因するデブリがＥＵＶ光源装置内部に付着して装置性能が劣化することを抑制するとともに、堆積したＳｎおよび／またはＳｎ化合物を効率よく除去すること。
【解決手段】 高密度高温プラズマが発生するチャンバ１０内に極端紫外光放射種であるＳｎおよび／またはＳｎ化合物を含む原料を供給し、チャンバ１０内で上記供給された原料を加熱・励起し高密度高温プラズマを発生させ、高密度高温プラズマから放射される極端紫外光を取り出す。また、水素ラジカル発生部３１，３２を設け、水素ラジカルをチャンバ１０内で発生させ、集光鏡５などの装置低温部にＳｎおよび／またはＳｎ化合物が堆積するのを抑制し、また、堆積したＳｎおよび／またはＳｎ化合物を除去する。 （もっと読む）

【課題】 複数の光源を切り替えて使用する場合に、光源の切り替えによらず常に安定した光の特性（ビーム特性）で後段の光学系に光を供給することができる光学装置及びかかる光学装置を有する露光装置を提供する。
【解決手段】 プラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を、後段の光学系に導入する光学装置であって、前記プラズマを生成する第１及び第２の光源と、前記光学系に導入する光を、前記第１の光源からの光と前記第２の光源からの光とに切り替える切り替え手段と、前記第１と第２の光源の少なくとも一方からの光の特性を計測する計測手段と、前記計測手段の計測結果に基づいて、前記第１と第２の光源の少なくとも一方からの光の特性を調整する調整手段とを有することを特徴とする光学装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で、Ｘ線管の負荷が変わっても蛍光Ｘ線の強度にほとんど影響しない全反射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】 筒状の筐体11内に、その筐体11の軸方向を長手方向L とする棒状のターゲット10と、そのターゲットの長手方向L に配置されたフィラメント13とを有し、陰極である前記フィラメント13から放射した熱電子14を陽極である前記ターゲット10の端面に衝突させて、そのターゲット10から発生して前記筐体11の側壁に向かうＸ線を窓12を介して出射する点光源のＸ線管1 を備え、そのＸ線管1 からのＸ線2 を分光素子4 で単色化して帯状の１次Ｘ線3 として試料表面5aに微小な入射角度αで入射させ、発生する蛍光Ｘ線6 の強度を検出手段7 で測定する。ここで、前記ターゲットの長手方向L が試料表面5aと平行になるように前記Ｘ線管1 が配置されている。 （もっと読む）

【課題】 表面に付着した炭素コンタミネーションを効率良く除去することができる多層膜反射鏡を提供する。
【解決手段】 ミラー基板１の上に反射コーティング用の多層膜２が形成されている。多層膜２は導電性薄膜４と一部が重なり合うように成膜されており、両者は電気的に接続されている。ミラー基板１の多層膜２が形成された表面近傍には、ミラー表面にガスを吹き付けるためのガス噴射機構８が設けられている。ガス噴射機構８より酸素ガスを多層膜２に吹きつけ、多層膜２に高周波電圧を印加すると、ミラー表面近傍にグロー放電による酸素プラズマが発生し、その中で形成された酸素イオンと酸素ラジカルが多層膜２の表面に到達する。多層膜２の表面に付着していた炭素コンタミネーションは、酸素ラジカルおよび酸素イオンによって酸化されて気体（炭酸ガス）となり、真空チャンバーに接続されている真空排気装置によって除去される。 （もっと読む）