【課題】 複数（２種または３種以上）の単色硬Ｘ線を、血管が動いていないとみなせる程度の短い時間間隔で順次切換えて発生することができ、かつ血管造影等に適用可能な強力なＸ線を発生させることができる多色Ｘ線発生装置を提供する。
【解決手段】 電子ビームを加速してパルス電子ビーム１を発生し所定の直線軌道２を通過させる電子ビーム発生装置１０と、波長の異なる複数のパルスレーザー光３ａ，３ｂを順次発生する複合レーザー発生装置２０と、複数のパルスレーザー光を直線軌道２上にパルス電子ビーム１に対向して導入するレーザー光導入装置３０とを備え、複数のパルスレーザー光３ａ，３ｂを直線軌道２上でパルス電子ビーム１に順次正面衝突させ、２種以上の単色硬Ｘ線４（４ａ，４ｂ）を発生させる。 （もっと読む）

本発明は、半導体素子のリソグラフィーによる製造に用いるプラズマの電磁波を生成および／または操作する装置、特に、ＥＵＶリソグラフィーに用いるＥＵＶ放射線を生成および反射する装置が、装置および／または他の素子の少なくとも１つの表面をプラズマ（３）の電荷担体から遮蔽するように、少なくとも１つの不均一な磁界（１１）を生成する磁気手段（１０）を備えている。これにより、装置および／または他の素子の寿命が長くなる。
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【課題】ＥＵＶリソグラフィ機器に適用するＥＵＶ放射とＤＵＶ放射の比を拡大する多層ミラーを提供すること。
【解決手段】スペクトル純度増強層を上部に含む多層ミラーが提供され、スペクトル純度増強層は、第１スペクトル純度増強層を含むが、多層ミラーと第１スペクトル純度増強層の間に、任意選択で、中間層、又は第２スペクトル純度増強層及び中間層を設けることもできる。したがって、多層ミラー／第１スペクトル純度増強層、多層ミラー／中間層／第１スペクトル純度増強層、及び多層ミラー／第２スペクトル純度増強層／中間層／第１スペクトル純度増強層の構成の多層ミラーが可能である。ＥＵＶ放射よりもＤＵＶ放射が比較的大きく減少するように、垂直入射放射のスペクトル純度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】迅速に動作し、寿命が長いスキャナを有するＸ線画像形成装置の提供。
【解決手段】Ｘ線走査装置は、軸Ｘの周りに離間していると共に、当該軸上の対象物を通してセンサ（５２）により検出されるＸ線を放射するように配置される複数の多重焦点Ｘ線管（２５）を備える。各管（２５）は、複数の線源位置からＸ線を放射することができる。各管の線源位置それぞれが一度使用される各走査サイクルにおいて、管（２５）に対する熱負荷を最小にするように、使用される位置の順序が設定される。これは、各線源位置が前のアクティブな線源位置及び次のアクティブな線源位置と隣接しないことを確実にすることにより達成される。
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【課題】 像面でのフレア光量の変動の小さい光学系の製造方法を提供する。
【解決手段】 イオンビームを用いて基板の研磨加工を行い（ステップＳ１）、基板加工が完了した後、ミラー基板のうねり形状を測定した（ステップＳ２）。次に、各ミラーのうねり形状分布に基づいて、光学系のフィールド内フレア光量分布を計算した（ステップＳ３）。次に、フレアの光量むらが低減されるような、ミラーのうねり分布補正量を計算した（ステップＳ４）。ミラーを再研磨し、上記うねり形状分布を設けた（ステップＳ５）。次にこれらのミラー基板に多層膜をコーティングし（ステップＳ６）、投影光学系を組み立てた（ステップＳ７）。この投影光学系を露光装置に搭載して（ステップＳ８）露光評価を行い、フレア量分布を測定したところ（ステップＳ９）、計算から予想されたフレア分布と概ね同じ値である２％のむらが測定された。 （もっと読む）

【課題】露光装置を構成するチャンバ内の圧力変動を抑制し、チャンバ内に配置される光学素子やセンサ等のコンタミネーションによる汚染を防止する。
【解決手段】照明光により照明された原版パターンを基板に投影する投影光学系と、前記基板と原版とを相対的に位置決めするステージとを備える露光装置であって、前記ステージを収容する空間とこれに隣接する前記投影光学系を収容する空間とを光が通過する開口を持つ隔壁で仕切り、前記ステージを収容する空間に流体を供給する手段を設け、前記流体の少なくとも一部を前記開口を介して前記投影光学系側の空間に流動させて回収する。 （もっと読む）

【課題】
反射率の低下が小さい多層膜反射鏡、その製造方法、及びこの多層膜反射鏡を使用した露光装置を提供すること。
【解決手段】
超電導磁石を用いたマグネトロンスパッタリング法で基板８１上に多層膜８３を形成することにより、プラズマから基板を遠ざけて成膜することができ、成膜中の膜へのダメージを低減することができる。その結果、多層膜界面に形成される拡散層を薄くすることができ、反射率の低下が小さい多層膜反射鏡８０を提供することができる。また、この高反射率の多層膜反射鏡８０を露光装置の光学系に用いることにより、高スループットで露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 所望の光学性能を有するＥＵＶ露光装置用投影光学系の製造方法を提供する。
【解決手段】 投影光学系を構成する複数の非球面ミラーを、設計値に基づいて製造し、製造された非球面ミラーを組み込んで光学系を組み立てる。次に、組み立てられた前記光学系の光学性能を評価する。次に、評価された光学性能に基づいて、前記非球面ミラーの内、新しい非球面ミラーに交換するミラー（被交換ミラー）について、前記光学性能が許容範囲に収まるように、その形状補正量を決定する。次に、前記決定された形状補正量と前記被交換ミラーの形状に基づいて、新しい非球面ミラー（交換ミラー）を製造する。次に、製造された交換ミラーを、前記被交換ミラーと交換する。そして、交換されずに残った非球面ミラーと、交換された非球面ミラーを用いて、投影光学系を製造する。 （もっと読む）

【課題】 試料の表面に低エネルギーの中性粒子ビームを照射し、試料が電気的に中性を保つように不純物を導入することができるドーピング装置を提供する。
【解決手段】 ドーピング装置１０は、試料１８に中性粒子を照射して不純物をドープする。ドーピング装置１０は、試料１８を保持する保持台４４と、荷電粒子をプラズマとして発生させるプラズマ室１４と、荷電粒子を試料に向けて加速する電極３２と、加速された荷電粒子を中性化して中性粒子を生成する中性室１６とを備えている。また、このドーピング装置１０は、中性化室１６と試料１８との間に設けられ、中性化室１６で中性化されなかった荷電粒子５４を除去する偏向電極６０と、偏向電極６０により除去された荷電粒子５４を計測することにより試料１８へのドープ量を計測する計測手段６４，６６，６８，７０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、冷却効果の向上とともに、再構成可能な範囲の拡大を実現し得るＸ線コンピュータ断層撮影装置を提供することにある。
【解決手段】本発明によるＸ線コンピュータ断層撮影装置は、一列に配列された複数のＸ線発生要素１０７と、複数のＸ線発生要素１０７に対して撮影領域１３０を挟んで対向する一列に配列された複数のＸ線検出要素１０８とを具備する。 （もっと読む）