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国際特許分類[G21K5/04]の内容

国際特許分類[G21K5/04]に分類される特許

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本発明は、電子銃のための窓を形成する集束アノードを有する電子銃、ならびに照射および滅菌への該銃の応用に関する。前記銃は、電子放出面8を有するカソード6と、チャンバ壁の1つに形成された電子に対して透過性があるアノード4とを含む真空チャンバ2を含む。アノードは、チャンバの内部と外部の間の圧力差に耐えるために、湾曲している。また、放出面も、湾曲しており、アノードと協調して、チャンバの外部で電子を集束させる。
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粒子線処理装置を用いて材料を処理する方法およびその方法で作り出された材料が本明細書に提供されている。1つの例示の好ましい実施形態によって、粒子線処理装置を用いて材料を処理する方法が提供され、その方法は、複数の粒子を作り出す少なくとも1つのフィラメントを含む粒子線発生組立品を提供する工程、約110kボルトより大きい動作電圧をフィラメントに印加して、複数の粒子を作り出す工程、複数の粒子に約10ミクロン以下の厚さを有する薄箔を貫通させる工程、および複数の粒子を用いて材料を処理する工程を含む。
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反物質またはエキゾチック物質(反物質と通常の物質の混合物)の電気的に中性の励起スペシー16、とくに励起ポジトロニウム(Ps*)16を捕捉して蓄積できる装置が提供される。反物質トラップは1以上の空洞10を含む3次元または2次元光子バンドギャップ(PBG)構造14を含む。スペシー16は空洞10または空洞10のアレイ110に蓄積される。PBG構造14は基底状態への崩壊を防止してピックオフプロセスを阻止することにより励起スペシー16の早期消滅を阻止する。蓄積密度を増加させるためにPs*のボーズ・アインシュタイン凝固形が使用されることができる。この装置で達成可能な長い寿命と高い蓄積密度により、医療、材料試験、ロケットモータ、高電力/高エネルギ密度蓄積、ガンマ線レーザを含むいくつかの分野において有用であると同時に、原子炉またはハイブリッドロケット推進システムで核融合反応を開始させる点火装置として有用である。 (もっと読む)


要約
本発明は、密集複合した三次元の車体のコーティングを硬化するために、中〜高電力(1kWと同等またはより大きく)および中〜高エネルギー(1Mevと同等またはより大きく)の電子ビームまたはX線を使用することに関する。当該中〜高電力および中〜高エネルギーは、複数層の鋼の硬化を可能にするために適切なスループットと侵入度を有し、それゆえ、車体の折り曲げ、折り重なり、湾曲による影を貫通できる。加えて、当該中〜高電力および中〜高エネルギーは、割れ目や隙間表面に堆積したより厚いコーティングを硬化するために、適切なスループットと侵入度を有する。本発明は、コーティングを硬化可能な電子ビームの使用を可能とし、その結果、車両産業で通常使用される塗料を構成する溶剤に用いられる無反応溶剤に関連する、火災の危険、有害性大気汚染物質、揮発性有機物などの問題を低減する。
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本発明は、エミッタをハウジングに固定する装置であって、第一の方向(11、B)において摺動可能である第一の要素である操作要素(10)と、前記第一の方向(11、B)に対して傾斜している第二の方向である固定方向(21)において摺動可能である第二の要素である作動要素(20)とを含むことによって、前記第一と、第二の要素(10,20)が少なくとも1個のカム機構を介して相互に接続されているエミッタをハウジングに固定する装置に関する。更に、本装置は第二の方向(21)において摺動可能である第三の要素である固定要素(30)を含み、それによって前記第二と、第三の要素(20,30)が少なくとも1個の第四の要素である弾性要素(40)によって相互に接続されることによって前記第三の要素(30)が、前記エミッタ(1)に固定力を発生させる固定位置と前記固定力が解除される開放位置との間で前記第一の方向(11、B)における前記第一の要素(10)の移動に応答して動くようにされている。
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【課題】より適正なリフォーカス量を決定する。
【解決手段】 ステンシルマスク40Aには、荷電粒子ビームのエッジぼけ量δaを実質的に測定するためのライン形アパーチャ41と、δaのクーロン相互作用以外の成分が無視できる程度にアパーチャ41と離間して形成され、アパーチャ41と同時に荷電粒子ビームが通されるアパーチャ42とが、同時露光するためのブロックパターンとして形成されている。ステンシルマスク40A及び40Bを用い、その各々についてアパーチャ41を通った荷電粒子ビームのエッジぼけ量を実質的に測定し、エッジぼけ量が最小になるように、荷電粒子ビームに対するリフォーカス量を決定し、ステンシルマスク40A及び40Bの各々の開口面積合計に対し決定されたリフォーカス量に基づいて、ステンシルマスク上の任意のブロックパターンの開口面積に対するリフォーカス量の関係を直線近似する。 (もっと読む)


【課題】電子線描画装置で、偏向移動量による遅れを描画結果によらずに計測し、自動的に偏向移動量に依存する補正データを作成する。
【解決手段】位置決め偏向器8により成形ビーム9を偏向させ基準マーク12の境界部に照射させる。その時の反射電子信号強度変化を信号処理回路17に記憶させ、読みだした反射電子信号強度変化より偏向レスポンス遅れを計測する。このような処理を偏向量を変えて繰り返し実行し、偏向移動量に依存する調整データを自動的に作成し、位置決め偏向制御回路16に設定する。 (もっと読む)


【目的】 空間の各点における磁界の大きさと方向を高空間分解能、高磁界感度で測定する。
【構成】 画像として不規則な模様が得られる試料に荷電粒子線を透過させて、第1の像を得る。さらに、試料と像面との間で荷電粒子線の通る空間に被測定磁界を配置して、上述と同様に不規則な模様の第2の像を得る。第1の像と第2の像を用いた画像処理から、荷電粒子線の被測定磁界による偏向角を求める。この偏向角の抽出を測定を行いたい空間の断面全体について行い、荷電粒子線による磁界の投影データを構築する。さらに被測定磁界を回転させ、各方向から上記の処理を行い、投影データの構築を行う。得られた投影データとコンピュータ断層映像手法で空間の各点の磁界を求める。
【効果】 微小空間領域に存在する磁界を磁界発生試料の平坦平面極近傍で高空間分解能かつ高感度で測定することが可能になる。 (もっと読む)


【目的】 エネルギーが低く、粒子線束の高い高速原子線を効率よく放出することのできる高速原子線源を提供する。
【構成】 高速原子線源において、放電部21,22に交流電圧24を印加する。 (もっと読む)


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